disilazaneとは 意味・読み方・使い方

To provide a photocatalyst filter unit which does not release contamination gas primarily comprising hexamethyl disilazane and trimethyl silanol even when accumulating the contamination gas therein, can easily remove a deposited decomposition product on a photocatalyst filter, has a long life of an optical source, has a resistance to an alkalline gas too and can avoid the deposition of salt.例文帳に追加

ヘキサメチルジシラザン及びトリメチルシラノール主体の汚染ガスを蓄積しても再放出せず、光触媒フィルタ上の堆積分解生成物を容易に除去出来、光源の寿命も長く、アルカリ系ガスにも強く、塩の付着を防護できる光触媒フィルタユニットを提供する。 - 特許庁

As this cyclic silazane compound, a cyclic disilazane compund such as 2,2,5,5-tetramethyl-2,5-disila-1-azacyclopentane and 2,2,6,6-tetramethyl-2,6-disila-1-azacyclohexane and a cyclic trisilazane compound such as 2,2,4,4,6,6-hexamethylcyclotrisilazane and 2,4,6-trimethyl-2,4,6-trivinylcyclotrisilazane are preferred.例文帳に追加

この環状シラザン化合物としては、２，２，５，５−テトラメチル−２，５−ジシラ−１−アザシクロペンタン、２，２，６，６−テトラメチル−２，６−ジシラ−１−アザシクロヘキサン等の環状ジシラザン化合物や、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシラザン等の環状トリシラザン化合物が好ましい。 - 特許庁

The masses of ion kinds on the surface of the wafer W, such as CH3Si+, C3H9Si+, C3H9Si-, etc., are analyzed by using an analytical section such as TOF-SIMS, etc., thereby of the analytical equipment A2 measuring the quantity of HMDS(hexamethyl disilazane) on the surface of the wafer W.例文帳に追加

分析装置Ａ２では例えばＴＯＦ−ＳＩＭＳなどの分析部においてウエハＷ表面の例えばＣＨ3Ｓｉ+，Ｃ3Ｈ9Ｓｉ+，Ｃ3Ｈ9ＯＳｉ-等のイオン種の量を質量分析し、これによりウエハＷ表面のＨＭＤＳ量（ヘキサメチルジシラザン）の測定を行う。 - 特許庁

The toner comprises 100 parts by weight of toner base particles, having a structure of core particles obtained by a wet method and coated with resin fine particles, and 0.05 to 3 parts by weight of silica fine particles deposited thereon, the silica fine particles subjected to surface treatment with hexamethyl disilazane and having a BET value of 50 to 100 m^2/g.例文帳に追加

湿式法で得られた芯粒子の表面に、樹脂微粒子が被覆された構成を有するトナー母粒子１００重量部に対し、ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたＢＥＴ値が５０〜１００ｍ^２／ｇのシリカ微粒子を０．０５〜３重量部付着させてなることを特徴とするトナー。 - 特許庁

Of the anode for the lithium secondary battery equipped with a thin film 12 containing silicon on a collector 11, a hydrophobic layer 13 is formed on the thin film 12 containing silicon, and is preferred to be formed of at least a kind selected from a disilazane compound, silan compound, siloxane compound, and siloxysilane compound.例文帳に追加

集電体１１上にシリコンを含む薄膜１２を備えたリチウム二次電池用負極であり、シリコンを含む薄膜１２の上に疎水化層１３が形成されていることを特徴としており、疎水化層１３は、好ましくは、ジシラザン化合物、シラン化合物、シロキサン化合物及びシロキシシラン化合物から選ばれる少なくとも１種によって形成されている。 - 特許庁