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doped junctionとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ドープ接合
「doped junction」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 61件
Impurities are not doped to the polysilicon junction frame.例文帳に追加
そして、ポリシリコン接合枠には、不純物がドーピングされていない。 - 特許庁
The second doped region is proximate to an upper surface of the substrate and forms a pn junction with the first doped region.例文帳に追加
第2のドープ領域は、基板の上面の近傍にあり、第1のドープ領域と共にpn接合を形成する。 - 特許庁
A junction electric field transistor according to this invention, when the a pn junction of a gate is formed in a selection regrowth, a low-concentration doped regrowth layer 13 doped at lower concentration than a p+ type high-concentration doped regrowth layer 14 is inserted directly under the p+ type high-concentration doped regrowth layer 14.例文帳に追加
本発明の接合電界トランジスタは、選択再成長によりゲートのpn接合を形成する際、p+型高濃度ドーピング再成長層14の直下に、p+型高濃度ドーピング再成長層14よりも低濃度にドーピングされた低濃度ドーピング再成長層13を挿入する。 - 特許庁
MANUFACTURE OF HETERO-JUNCTION BIPOLAR TRANSISTOR HAVING CARBON-DOPED BASE LAYER例文帳に追加
炭素ドープベース層を有するヘテロ接合バイポーラトランジスタの製造方法 - 特許庁
For an N-type ZnO, Al doped is used to form a p-n junction, thus obtaining a light-emitting element.例文帳に追加
N型ZnOとしてはAlをドープしたものを用いてPN接合を形成し発光素子を得る。 - 特許庁
A tunnel semiconductor region 23 includes a tunnel junction (pn junction) 29 made up of a first conductive type highly doped semiconductor layer 25 and a second conductivity type highly doped semiconductor layer 27.例文帳に追加
トンネル半導体領域23が、第1導電型高ドープ半導体層25および第2導電型高ドープ半導体層27からなるトンネル接合(pn接合)29を含む。 - 特許庁
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「doped junction」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 61件
Further, at least one n/p or p/n junction which is, provided between the first and second junctions, arrayed laterally there, and at least one gate terminal G contacting the p-or n-doped region of the first junction or n- or p-doped region of the second junction, are provided.例文帳に追加
それはまた、第一および第二接合の間に配置され、そこに横方向に配列されている少なくとも一つのn/pまたはp/n接合と、第一接合のpまたはnドープされた領域または第二接合のnまたはpドープされた領域に接触している少なくとも一つのゲート端子とを含む。 - 特許庁
Since the p-layer and the n-layer are formed by epitaxial growth technology, a heavily doped pn junction is formed with high accuracy.例文帳に追加
エピタキシャル結晶成長技術でp層、n層を形成しているので高不純物濃度のpn接合が精度よく形成される。 - 特許庁
In addition, very lightly doped diffusion can also be formed along the bottom of the trench and is always depleted by the inherent junction voltage.例文帳に追加
また、かなり少量ドープの拡散部がトレンチの底部周囲に形成でき、固有の接合電圧により常に空乏化される。 - 特許庁
To provide a "non-collector" silicon-on-insulator (SOI) bipolar junction transistor not provided with an impurity doped collector.例文帳に追加
不純物ドープ・コレクタを備えない「コレクタ無し」シリコン・オン・インシュレータ(SOI)バイポーラ接合トランジスタ(BJT)を提供すること。 - 特許庁
If the n-type impurity is subsequently doped, the stress-caused enhanced diffusion does not take place, and a projection is not formed at a junction interface.例文帳に追加
その後にN型不純物を添加すれば応力起因の増速拡散は発生することはなく、接合界面の突起は発生しない。 - 特許庁
To obtain appropriate junction interface structure where the crystallization ration of a doped layer is equal to or more than that of an intrinsic layer.例文帳に追加
ドープ層の結晶化率が真性層の結晶化率以上である適切な接合界面構造を得る。 - 特許庁
An n- doped GaN diode is provided on the n+ doped GaN diode patterned in a plurality of slender fingers, a metal layer is provided on the n- doped GaN layer to form Schottky junction between the n- GaN layer and the metal layer.例文帳に追加
1μmを超える厚さを有するn−型ドープしたGaNダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記n+型ドープGaNダイオード上に配設し、金属層をn−型ドープGaN層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁
An n^- type doped GaN diode of >1 μm thickness is arranged on the n^+ type doped GaN diode, patterned into a plurality of thin and long fingers, a metal layer is arranged on n^- type doped GaN layer, and a Schottky junction is formed in between them.例文帳に追加
1μmを超える厚さを有するn−型ドープしたGaNダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記n+型ドープGaNダイオード上に配設し、金属層をn−型ドープGaN層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁
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