doping techniqueとは 意味・読み方・使い方

This technique diminishes the coercive force electric field of the periodic region inversion structure SHG crystal by applying a doping effect.例文帳に追加

本技術はドープ効果を応用して周期性領域反転構造ＳＨＧ結晶の保磁力電場を小さくする。 - 特許庁

Furthermore, the light emitting diode is provided with enhanced luminous efficiency using a bandgap engineering or impurity doping technique.例文帳に追加

さらに、バンドギャップエンジニアリングまたは不純物ドープ技術を利用して発光効率を向上させた発光ダイオードが提供される。 - 特許庁

A gate electrode, a common electrode, a pixel electrode and a contact pad are formed by using a half-tone exposure technique and a nitrogen ion doping technique and, thereafter, an a-si island and a contact hole are formed by using the half-tone exposure technique.例文帳に追加

Ｇａｔｅ電極と共通電極と画素電極とコンタクトパッドをハーフトーン露光技術と窒素イオンドーピング技術を用いて形成した後ａ−ｓｉ ｉｓｌａｎｄとコンタクトホールをハーフトーン露光技術を用いて形成する。 - 特許庁

To provide a ZnO-based semiconductor device associated with a novel n-type doping technique for a ZnO-based semiconductor, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＺｎＯ系半導体の新規なｎ型ドーピング技術に係るＺｎＯ系半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for manufacturing a MOSFET device of 0.05 μm or smaller in size having a super halo doping profile, which provides an excellent short channel characteristic.例文帳に追加

優れた短チャネル特性を提供するスーパー・ハロ・ドーピング・プロフィルを持つ、０．０５μｍ以下のＭＯＳＦＥＴデバイスを製作する技法を提供すること。 - 特許庁

This technique utilizes a damascene gate process to obtain a MOSFET structure wherein the thickness of an oxide on source/drain regions is not related to the thickness of a gate oxide and a disposable spacer technique to form a super halo doping profile.例文帳に追加

この技法は、ソース／ドレイン領域上の酸化物の厚さがゲート酸化物の厚さとは無関係なＭＯＳＦＥＴ構造を得るためのダマシン・ゲート・プロセスと、スーパー・ハロ・ドーピング・プロフィルを形成するためのディスポーザブル・スペーサ技法とを利用する。 - 特許庁

By utilizing the optical filter island 222, a source region 214 and a drain region 218 are formed self-aligningly in a semiconductor structure 200 by applying laser doping technique.例文帳に追加

この光学フィルタアイランド２２２を利用して、レーザドーピング法を用いて、半導体構造２００にソース領域２１４とドレイン領域２１８を自己整合的に形成する。 - 特許庁