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doping outとは 意味・読み方・使い方
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「doping out」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 34件
The n-type doping method for carbon nanotube is carried out by n-type-doping the carbon nanotubes using the n-type doping material for carbon nanotubes.例文帳に追加
また、本発明のカーボンナノチューブのn型ドーピング方法は、前記カーボンナノチューブ用n型ドーピング物質を用いて、カーボンナノチューブにn型ドーピングする。 - 特許庁
To provide a spatial modulation doping method capable of selectively carrying out spatial doping without the need for forming a mask.例文帳に追加
マスクを形成することなく空間的に選択的にドーピングを行うことができる空間変調ドーピング方法を提供する。 - 特許庁
To control a concentration of a donor impurity or an acceptor impurity in a processing object in which a doping is carried out by using an ion doping system, and to reduce a dispersion of the concentration.例文帳に追加
イオンドーピング装置を用いてドーピングをおこなった被処理体中のドナー不純物又はアクセプタ不純物の濃度を制御し、その濃度のばらつきを小さくする。 - 特許庁
For all that, the channel doping into the channel areas 1a', 81 is carried out at the same time on the same conditions.例文帳に追加
それでも、チャネル領域1a′、81へのチャネルドープ条件については同一条件で同時に行う。 - 特許庁
Then, processing for doping hydrogen ions into the semiconductor film 6 transferred on the substrate 1 is carried out.例文帳に追加
そして、基板1上に転写された前記半導体膜6に水素イオンをドープする処理を行う。 - 特許庁
To provide a doping apparatus and a doping method that can carry out doping to the carrier concentration which is optimum for obtaining a desired electric characteristic non-destructively and in an easy manner, and to provide a method for fabricating a thin-film transistor using the same.例文帳に追加
本発明は、非破壊かつ簡便に、所望の電気特性を得るために最適なキャリア濃度にドーピングできるドーピング装置、並びにドーピング方法、それを用いる薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a method for easily carrying out pre-doping of lithium ions into an electrode of an energy storage device such as a lithium ion battery.例文帳に追加
リチウムイオン電池等蓄電デバイス電極へのリチウムイオンのプリドープを簡便に実施する方法を提供する。 - 特許庁
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「doping out」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 34件
To make it possible to: carry out doping at a high concentration; and make an excellent ohmic contact with an electrode.例文帳に追加
高濃度のドーピングを行うことが可能で、電極と良好なオーミック接触を取ることを可能とする。 - 特許庁
The magnetic powder of compound magnetic body whose plastic deformation is easily carried out by a mechanical stress is acquired by doping metallic elements.例文帳に追加
金属元素を添加することによって、機械的応力により容易に塑性変形する複合磁性体の磁性粉末を得る。 - 特許庁
By this setup, a low-energy ion doping process is carried out by the use of the ion implantation unit 31 with high impurity and high efficiency.例文帳に追加
これにより、イオン注入ユニット31を用いて、低エネルギーのイオンドーピングを高純度かつ高効率で行うことができる。 - 特許庁
To provide a composite surface processing device that serves as an ion implantation device using an ion beam and also as a plasma doping device at the same time, and carries out a low-energy ion doping process using an ion beam with high accuracy and high efficiency.例文帳に追加
イオンビームを用いたイオン注入装置とプラズマドーピング装置とを兼ね備えた複合型の表面処理装置において、イオンビームを用いて低エネルギーのイオンドーピング処理を高精度かつ効率良く行う。 - 特許庁
As another embodiment, the doping step is carried out after the gate dielectric 316 is formed and before the gate electrode 318 is formed.例文帳に追加
他の実施例では、このドーピングステップは、ゲート誘電体316を形成した後であるが、ゲート電極318を形成する前に実施する。 - 特許庁
As an embodiment, the doping step is carried out after the gate dielectric 316 is formed and after the gate electrode 318 is formed.例文帳に追加
一実施例では、このドーピングステップは、ゲート誘電体316を形成した後で且つゲート電極318を形成した後に実施する。 - 特許庁
In a step of doping the first halo region, oblique ion implantation is carried out, with the use of a gate electrode as a mask, and in a step of doping the second halo region, vertical ion implantation is carried out with use of the gate electrode as the mask and with a dose rate which is larger than the dose rate of the first halo region ion implantation.例文帳に追加
第1ハロー領域のドーピング工程を、ゲート電極をマスクとして、斜めにイオン注入し、さらに、第2ハロー領域は、ゲート電極をマスクとして、垂直に、かつ第1ハロー領域のイオン注入ドーズ量よりも大きなドーズ量でイオン注入することにより形成する。 - 特許庁
Out of these, the second protective film region 114b is formed so as to contain more dopants by doping them than the first protective film region 114a.例文帳に追加
この内、第2の保護膜領域114bは、第1の保護膜領域114aに比べて、多くの不純物をドープして含むように形成されている。 - 特許庁
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