dry film thicknessとは 意味・読み方・使い方

The Ni foil is formed into the thin film having a prescribed thickness by wet etching or dry etching.例文帳に追加

このＮｉ箔をウエットエッチングまたはドライエッチングによって所定の厚さに薄膜化する。 - 特許庁

When the transfer sheet is coated, the thickness of a dry coating film is adjusted to be 5-10 μm.例文帳に追加

転写シートに塗布する際は、乾燥膜厚が５〜１０μｍとなるように塗布する。 - 特許庁

Each of gate insulating films 31, 66 is then dry etched to give a predetermined difference of film thickness.例文帳に追加

各ゲート絶縁膜31，66のそれぞれを、所定の膜厚差となるまでドライエッチングする。 - 特許庁

The dry film thickness of the first coating material is preferably ≥30 μm and the dry thickness of the second coating material is preferably one or more times the thickness of the first coating material.例文帳に追加

また、第１の塗料の乾燥膜厚が３０μｍ以上であり、第２の塗料の乾燥膜厚が第１の塗料の膜厚の１倍以上であることが好ましい。 - 特許庁

The insulating film 8 is formed thicker than a necessary film thickness, and a recessed portion 8a having a bottom is formed in the insulating film 8 by dry etching.例文帳に追加

絶縁膜８については必要膜厚よりも厚く形成しておき、ドライエッチングの際、絶縁膜８に有底の凹部８ａを形成する。 - 特許庁

The thickness of dry film is 20-50 μm and at film peeling, the printed wiring board is applied with a film peeling liquid at 40-70°C.例文帳に追加

ドライフィルムの厚みは２０〜５０μｍであり，かつ剥膜処理は，温度４０〜７０℃の剥膜液を上記プリント配線板に施すことにより行う。 - 特許庁

A dry coating material deposited quantity which is a volume of a dry coating material deposited on a work is determined based on a film thickness distribution value and a work surface which are obtained as a result of a film thickness simulation (S300, S330).例文帳に追加

膜厚シミュレーションの結果として取得される膜厚分布値とワーク面積とに基づき、ワークに付着する乾燥塗料の体積値である乾燥塗料付着量を求める（Ｓ３００〜Ｓ３３０）。 - 特許庁

An in-line film thickness measuring unit M measures the film thickness of a wafer before and after execution of dry etching, and calculates a dry etching time of the process chamber P by setting the measured value as a parameter.例文帳に追加

インライン膜厚測定ユニットＭは、ドライエッチング実行時点の前後においてウェーハの膜厚を測定し、この測定値をパラメータとしてプロセスチャンバーＰのドライエッチング時間を算出する。 - 特許庁