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electron gas systemとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 電子ガス系
「electron gas system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 22件
EXHAUST GAS DETOXIFYING METHOD AND ITS SYSTEM, AND MANUFACTURING SYSTEM OF ELECTRON DEVICE例文帳に追加
排ガスの除害方法及びそのシステム、電子デバイスの製造システム - 特許庁
To provide an electron beam irradiation system capable of sufficiently lowering the oxygen content of an atmosphere gas in an electron beam irradiation position.例文帳に追加
電子線の照射位置における雰囲気ガス中の酸素濃度を十分に低下させることができる電子線照射システムを提供する。 - 特許庁
To provide an exhaust gas detoxifying method able to obtain sufficient detoxifying effects even if a detoxifying device has a low exhaust gas decomposition capacity, and its detoxifying system, and a manufacturing system of electron devices.例文帳に追加
除害装置の排ガス分解能が低い場合でも、十分な除害効果を得ることができる排ガスの除害方法及びその除害システム、電子デバイスの製造システムを提供する。 - 特許庁
According to the estimation result, the evacuation of the gas from the lighting system chamber 1 to the wafer chamber 4 by an evacuation apparatus 36 and the supply of a gas (purge gas) that the electron beam is transmitted through into the lighting system chamber 1 to the wafer chamber 4 by a gas supply device 26 are controlled.例文帳に追加
この推定結果に基づいて、排気装置36による照明系チャンバ1〜ウエハ室4内からの気体の排気と、給気装置26による照明系チャンバ1〜ウエハ室4内への露光ビームが透過する気体(パージガス)の給気とを制御する。 - 特許庁
The electron emission source is manufactured by depositing carbon crystals in a protruding state from the surface of the carbon system base material by carrying out CVD with the carbon system base material as heat filament in carbon content gas atmosphere.例文帳に追加
炭素含有ガス雰囲気内で炭素系基材を熱フィラメントとしてCVDを行なって炭素系基材の表面に突起状に炭素結晶を堆積させる。 - 特許庁
The resonance sensor system provides an active layer 24 and a barrier layer 25 which have a hetero junction on an interface providing a two-dimensional electron gas layer.例文帳に追加
共振センサ装置は、2次元電子ガス層を提供する、その界面にヘテロ接合を有する活性層24およびバリア層25を備える。 - 特許庁
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「electron gas system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 22件
To provide an electron beam excited plasma film formation system which prevents the film formation rate declinination and realizes the homogenization of the film composition, even when the kinds of a raw material gas are changed or when a mixed gas is used.例文帳に追加
原料ガスの種類が変化したり、混合ガスを用いる場合でも、成膜速度の低下を防ぎ、成膜組成の均質化を図ることができる電子ビーム励起プラズマ成膜装置を提供する。 - 特許庁
This mass spectroscope is provided with: the ion source part for generating ions of a sample gas; a mass spectrometry part 412 for executing mass separation of the generated ions; a multipole electrode for generating two-dimensional high frequencies; a magnetic field generation means; a sample gas introduction system 409; a reaction gas introduction system 410; and an electron source 403.例文帳に追加
試料ガスのイオンを生成するイオン源部、生成されたイオンの質量分離を行なう質量分析部412、2次元高周波発生用多重極電極、磁場発生手段、試料ガス導入系409、反応ガス導入系410、電子源403を具備する。 - 特許庁
Nitrogen introduced in the electron defect correction device by a gas introducing system 1 is ionized by α-rays generated by an α-ray source 2 such as polonium, and the ionized nitrogen is irradiated on a portion 4 charged up by the irradiation of electron beams, and destaticizes it.例文帳に追加
ガス導入系1で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素をポロニウムのようなα線源2から出るα線で電離し、電離した窒素を、電子ビームの照射でチャージアップした部分4に照射し除電する。 - 特許庁
Otherwise, nitrogen or water vapor introduced in the electron beam defect correction device by the gas introducing system 1 is ionized by soft X-rays and the ionized nitrogen or vapor is irradiated on the portion charged up by the irradiation of the electron beams, and destaticizes it.例文帳に追加
またはガス導入系1で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素または水蒸気を軟X線で電離し、電離した窒素または水蒸気を、電子ビームの照射でチャージアップした部分4に照射し除電する。 - 特許庁
Accordingly, the electron beam irradiation system 100 can feed the nitrogen gas with small fluctuation of flow to the irradiation position Q, and the oxygen content of the atmosphere gas at the irradiation position Q can be sufficiently lowered.例文帳に追加
したがって、電子線照射システム100では、流れムラの小さい窒素ガスを照射位置Qに供給でき、照射位置Qにおける雰囲気ガス中の酸素濃度を十分に低下させることができる。 - 特許庁
A completely dry system without using any water is achieved by sterilizing the container through a sterilizing step by applying electron beam, and a foreign matters removing step by blowing gas.例文帳に追加
電子線照射による殺菌工程と、気体吹き付けによる異物除去工程により容器殺菌処理を行うことで、水を用いない完全にドライなシステムを実現する。 - 特許庁
A system and a method include controlling of particle composition in plasma, by controlling the interaction with electron energy distribution in plasma and a wall, at depositing a thin film on a circuit board by decomposing the source gas.例文帳に追加
原料ガスを分解して基板上に薄膜を堆積する際、プラズマ中の電子エネルギー分布や壁との相互作用を制御することによって、プラズマ中の粒子組成を制御する。 - 特許庁
There is provided with an electrochemical catalyst 5 set in the exhaust system of an internal combustion engine 1, the electrochemical catalyst 5 contains an electron conductivity material and ion conductivity material, accelerates the oxidation reaction and reduction reaction with the ion and electron conduction and electrochemically purifies the exhaust gas in the exhaust system G.例文帳に追加
内燃機関1の排気系3に設けられた電気化学触媒5を備え、電気化学触媒5は、電子伝導性物質およびイオン伝導性物質を含み、イオンおよび電子の伝導により酸化反応および還元反応を促進し、排気系内の排気ガスGを電気化学的に浄化する。 - 特許庁
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