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exposure modelとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 暴露モデル
「exposure model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
OPC (OPTICAL PROXIMITY CORRECTION) MODEL CREATING METHOD, OPC MODEL CREATING PROGRAM, OPC MODEL CREATING DEVICE, EXPOSURE DEVICE ADJUSTING METHOD, EXPOSURE DEVICE ADJUSTING PROGRAM, EXPOSURE DEVICE ADJUSTING DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING PROGRAM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
OPC(光近接効果補正:OpticalProximityCorrection)モデル作成方法、OPCモデル作成プログラム、OPCモデル作成装置、露光装置調整方法、露光装置調整プログラム、露光装置調整装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置 - 特許庁
To provide a system and a method for creating a focus-exposure model of a lithography process.例文帳に追加
リソグラフィプロセスのフォーカス露光モデルを作成するためのシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
The exposure correction is based on a model which relates the light strength of world to an RGB value of digital image.例文帳に追加
露出補正は、ワールドの光の強度をデジタル画像のRGB値に関連付けるモデルに基づく。 - 特許庁
In a step 522, a reticle expansion/contraction variation amount during the exposure is calculated using results of before-exposure alignment measurement and after-exposure overlap measurement, and corrected, and a parameter of the reticle expansion/contraction correction model is modified so as to correct the reticle expansion/contraction variation amount.例文帳に追加
ステップ522で露光前アライメント計測と露光後重ね合わせ計測との結果を用いて露光中のレチクル伸縮変動量を算出し、これを補正するため、レチクル伸縮補正モデルのパラメータを修正する。 - 特許庁
METHOD, PROGRAM PRODUCT AND APPARATUS FOR PERFORMING MODEL BASED COLORING PROCESS FOR PATTERN DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加
多重露光プロセスにおいて用いるパターン分解のためのモデルベースのカラーリングプロセスを実行するための方法、プログラム製品、及び装置 - 特許庁
To provide a method of creating an OPC model for converging OPC models and exposure conditions as early as possible.例文帳に追加
OPCモデルや露光条件を早期に収束させることの可能なOPCモデル作成方法を提供する。 - 特許庁
METHOD, PROGRAM PRODUCT, AND APPARATUS FOR MODEL BASED GEOMETRY DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加
多重露光プロセスに用いられるモデルベースのジオメトリ分解のための方法、プログラム製品及び装置 - 特許庁
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「exposure model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
Then, using the optimized reticle contraction correction model, the pattern is aligned to a target layer of a wafer, which is a next exposure object.例文帳に追加
そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。 - 特許庁
To provide a method and a system for optimizing the common process window of device design and an exposure tool by combining with a mask error model.例文帳に追加
マスクエラーモデルと組み合わせ、デバイス設計の共通プロセス窓や露光ツールを最適化する方法、及びシステムを提供する。 - 特許庁
The exposure length of the model 17 exposed in the tunnel 11 can be freely changed by driving the cylinder 22 to move the floor member 13 vertically.例文帳に追加
シリンダ22を駆動して床部材13を上下動させれば、風洞11内に露呈する模型17の露出長を自由に変更できる。 - 特許庁
The selected process model is used to perform optical proximity effect correction for the mask pattern for exposure.例文帳に追加
そして、選択したプロセスモデルを用いて、露光用マスクのマスクパターンに対する光近接効果補正を行うようにする。 - 特許庁
Meanwhile, a policy for the "difficult-to-return zone," whose annual radiation exposure level exceeds 50millisieverts, is to conduct verification operations for radiation dose reduction in model projects for the time being.例文帳に追加
一方、50ミリシーベルト超の「帰還困難区域」は、当面モデル事業で放射線量の低減につき検証作業を進める方針である。 - 経済産業省
The area is calculated by a highly precise model, when the minimum dimension of the mask pattern is lower than a prescribed threshold value set in the vicinity of an exposure wavelength, and the area other than the area is calculated by a fast model (STEP 5).例文帳に追加
マスクパターンの最小寸法が露光波長付近で設定される所定のしきい値を下回る場合に、その領域を高精度なモデルで計算し、それ以外の領域を高速なモデルで計算する(STEP5)。 - 特許庁
With a smaller number of measurements required than the prior-art multiple-model calibration, the focus-exposure model provides more predictive and more robust model parameter values that can be used at any location in the process window.例文帳に追加
従来技法の複数モデルキャリブレーションよりも少ない必要とされる測定値数で、フォーカス露光モデルは、プロセスウィンドウ内のいかなる位置でも使用することができる、より予測的でありより堅固なモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁
Also, testee body three-dimensional CT value model data 28 are calculated from the reference human body CT value model data 25 and the testee body virtual scanogram data 36a and 36b, and an appropriate X-ray condition in terms of image quality and an exposure dose is calculated on the basis of the testee body three-dimensional CT value model data 28.例文帳に追加
また基準人体CT値モデルデータ25と被検体仮想スキャノグラムデータ36a,36bから被検体三次元CT値モデルデータ28を算出し、この被検体三次元CT値モデルデータ28に基づいて画質と被曝線量の点で適正なX線条件を算出する。 - 特許庁
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