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exposure modelとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 暴露モデル
「exposure model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
To provide a system and a method for creating a focus-exposure model of a lithography process.例文帳に追加
リソグラフィプロセスのフォーカス露光モデルを作成するためのシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
OPC (OPTICAL PROXIMITY CORRECTION) MODEL CREATING METHOD, OPC MODEL CREATING PROGRAM, OPC MODEL CREATING DEVICE, EXPOSURE DEVICE ADJUSTING METHOD, EXPOSURE DEVICE ADJUSTING PROGRAM, EXPOSURE DEVICE ADJUSTING DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING PROGRAM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
OPC(光近接効果補正:OpticalProximityCorrection)モデル作成方法、OPCモデル作成プログラム、OPCモデル作成装置、露光装置調整方法、露光装置調整プログラム、露光装置調整装置、半導体装置製造方法、半導体装置製造プログラムおよび半導体装置製造装置 - 特許庁
METHOD, PROGRAM PRODUCT, AND APPARATUS FOR MODEL BASED GEOMETRY DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加
多重露光プロセスに用いられるモデルベースのジオメトリ分解のための方法、プログラム製品及び装置 - 特許庁
The exposure correction is based on a model which relates the light strength of world to an RGB value of digital image.例文帳に追加
露出補正は、ワールドの光の強度をデジタル画像のRGB値に関連付けるモデルに基づく。 - 特許庁
An exposure mask 5 is arranged on one side of the substrate 1 on the opposite side to one side coated with the resist 2 during the exposure in the master model forming process.例文帳に追加
マスターモデル形成工程の露光時に光硬化型レジスト2を塗布した片面と反対側において前記基板1の片面に露光マスク5を配置する。 - 特許庁
To provide a method of creating an OPC model for converging OPC models and exposure conditions as early as possible.例文帳に追加
OPCモデルや露光条件を早期に収束させることの可能なOPCモデル作成方法を提供する。 - 特許庁
The photographed image of the photographic film is read and the image data meeting its density is specified from the model code and is converted to an exposure by a density-exposure conversion table.例文帳に追加
写真フイルムの撮影画像を読み取り、その濃度に応じた画像データを機種コードから特定して濃度−露光量変換テーブルで露光量に変換する。 - 特許庁
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「exposure model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 35件
The selected process model is used to perform optical proximity effect correction for the mask pattern for exposure.例文帳に追加
そして、選択したプロセスモデルを用いて、露光用マスクのマスクパターンに対する光近接効果補正を行うようにする。 - 特許庁
With a smaller number of measurements required than the prior-art multiple-model calibration, the focus-exposure model provides more predictive and more robust model parameter values that can be used at any location in the process window.例文帳に追加
従来技法の複数モデルキャリブレーションよりも少ない必要とされる測定値数で、フォーカス露光モデルは、プロセスウィンドウ内のいかなる位置でも使用することができる、より予測的でありより堅固なモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁
In a step 522, a reticle expansion/contraction variation amount during the exposure is calculated using results of before-exposure alignment measurement and after-exposure overlap measurement, and corrected, and a parameter of the reticle expansion/contraction correction model is modified so as to correct the reticle expansion/contraction variation amount.例文帳に追加
ステップ522で露光前アライメント計測と露光後重ね合わせ計測との結果を用いて露光中のレチクル伸縮変動量を算出し、これを補正するため、レチクル伸縮補正モデルのパラメータを修正する。 - 特許庁
The pre-specified exposure information used to configure an exposure of the fields is then modified based on the thermally-induced deformation information as predicted by the model.例文帳に追加
次に、フィールドの露光を設定するために使用される所定の露光情報が、そのモデルにより予測された熱的に引き起こされる変形についての情報に基づいて修正される。 - 特許庁
Then, using the optimized reticle contraction correction model, the pattern is aligned to a target layer of a wafer, which is a next exposure object.例文帳に追加
そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。 - 特許庁
To provide a method and a system for optimizing the common process window of device design and an exposure tool by combining with a mask error model.例文帳に追加
マスクエラーモデルと組み合わせ、デバイス設計の共通プロセス窓や露光ツールを最適化する方法、及びシステムを提供する。 - 特許庁
METHOD, PROGRAM PRODUCT AND APPARATUS FOR PERFORMING MODEL BASED COLORING PROCESS FOR PATTERN DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加
多重露光プロセスにおいて用いるパターン分解のためのモデルベースのカラーリングプロセスを実行するための方法、プログラム製品、及び装置 - 特許庁
The exposure length of the model 17 exposed in the tunnel 11 can be freely changed by driving the cylinder 22 to move the floor member 13 vertically.例文帳に追加
シリンダ22を駆動して床部材13を上下動させれば、風洞11内に露呈する模型17の露出長を自由に変更できる。 - 特許庁
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