「exposure model」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method of creating an OPC model for converging OPC models and exposure conditions as early as possible.例文帳に追加

ＯＰＣモデルや露光条件を早期に収束させることの可能なＯＰＣモデル作成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD, PROGRAM PRODUCT, AND APPARATUS FOR MODEL BASED GEOMETRY DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加

多重露光プロセスに用いられるモデルベースのジオメトリ分解のための方法、プログラム製品及び装置 - 特許庁

Then, using the optimized reticle contraction correction model, the pattern is aligned to a target layer of a wafer, which is a next exposure object.例文帳に追加

そして、最適化後のレチクル伸縮補正モデルを用いて、パターンを次の露光対象のウエハのターゲット層に位置合わせする。 - 特許庁

To provide a method and a system for optimizing the common process window of device design and an exposure tool by combining with a mask error model.例文帳に追加

マスクエラーモデルと組み合わせ、デバイス設計の共通プロセス窓や露光ツールを最適化する方法、及びシステムを提供する。 - 特許庁

The exposure length of the model 17 exposed in the tunnel 11 can be freely changed by driving the cylinder 22 to move the floor member 13 vertically.例文帳に追加

シリンダ２２を駆動して床部材１３を上下動させれば、風洞１１内に露呈する模型１７の露出長を自由に変更できる。 - 特許庁

The selected process model is used to perform optical proximity effect correction for the mask pattern for exposure.例文帳に追加

そして、選択したプロセスモデルを用いて、露光用マスクのマスクパターンに対する光近接効果補正を行うようにする。 - 特許庁

Meanwhile, a policy for the "difficult-to-return zone," whose annual radiation exposure level exceeds 50millisieverts, is to conduct verification operations for radiation dose reduction in model projects for the time being.例文帳に追加

一方、50ミリシーベルト超の「帰還困難区域」は、当面モデル事業で放射線量の低減につき検証作業を進める方針である。 - 経済産業省

The area is calculated by a highly precise model, when the minimum dimension of the mask pattern is lower than a prescribed threshold value set in the vicinity of an exposure wavelength, and the area other than the area is calculated by a fast model (STEP 5).例文帳に追加

マスクパターンの最小寸法が露光波長付近で設定される所定のしきい値を下回る場合に、その領域を高精度なモデルで計算し、それ以外の領域を高速なモデルで計算する（ＳＴＥＰ５）。 - 特許庁

With a smaller number of measurements required than the prior-art multiple-model calibration, the focus-exposure model provides more predictive and more robust model parameter values that can be used at any location in the process window.例文帳に追加

従来技法の複数モデルキャリブレーションよりも少ない必要とされる測定値数で、フォーカス露光モデルは、プロセスウィンドウ内のいかなる位置でも使用することができる、より予測的でありより堅固なモデルパラメータ値を提供する。 - 特許庁

Also, testee body three-dimensional CT value model data 28 are calculated from the reference human body CT value model data 25 and the testee body virtual scanogram data 36a and 36b, and an appropriate X-ray condition in terms of image quality and an exposure dose is calculated on the basis of the testee body three-dimensional CT value model data 28.例文帳に追加

また基準人体ＣＴ値モデルデータ２５と被検体仮想スキャノグラムデータ３６ａ，３６ｂから被検体三次元ＣＴ値モデルデータ２８を算出し、この被検体三次元ＣＴ値モデルデータ２８に基づいて画質と被曝線量の点で適正なＸ線条件を算出する。 - 特許庁

The photographed image of the photographic film is read and the image data meeting its density is specified from the model code and is converted to an exposure by a density-exposure conversion table.例文帳に追加

写真フイルムの撮影画像を読み取り、その濃度に応じた画像データを機種コードから特定して濃度−露光量変換テーブルで露光量に変換する。 - 特許庁

The pre-specified exposure information used to configure an exposure of the fields is then modified based on the thermally-induced deformation information as predicted by the model.例文帳に追加

次に、フィールドの露光を設定するために使用される所定の露光情報が、そのモデルにより予測された熱的に引き起こされる変形についての情報に基づいて修正される。 - 特許庁

An exposure mask 5 is arranged on one side of the substrate 1 on the opposite side to one side coated with the resist 2 during the exposure in the master model forming process.例文帳に追加

マスターモデル形成工程の露光時に光硬化型レジスト２を塗布した片面と反対側において前記基板１の片面に露光マスク５を配置する。 - 特許庁

A package exposure optical system 12 and a beam scanning optical system 13, according to three-dimensional model cross section shape data, irradiate the surface of an ultraviolet curing resin 51 with light per unit of an exposure small domain which is a prescribed rectangular domain.例文帳に追加

一括露光光学系１２とビームスキャン光学系１３は、立体モデルの断面形状データに応じて、所定の矩形領域である露光小領域単位で紫外線硬化樹脂５１の表面に光を照射する。 - 特許庁

To ideally correct a master pattern in a mask for exposure by quantitatively grasping the fitting strain of a process model and generating the process model for simulation fitted with high accuracy.例文帳に追加

プロセスモデルのフィッティングの歪み度を定量的に把握し得るようにして、高精度にフィッティングされたシミュレーションのプロセスモデルの生成を可能にし、これにより露光用マスクにおけるマスクパターンの補正も好適に行えるようにする。 - 特許庁

Variation amount of exposure conditions is calculated by obtaining an electron beam image of a first pattern part and a second pattern part, which are different in change tendency of a dimensional feature amount to variation of exposure conditions, calculating the dimensional feature amount of a first pattern part and a second pattern part and applying the dimensional feature amounts to a model which correlates exposure conditions and a dimensional feature amount.例文帳に追加

露光条件の変動に対する寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第１パターン部と第２パターン部の電子線像を取得し、第１パターン部および第２パターン部の寸法特徴量を算出し、これら寸法特徴量を露光条件と寸法特徴量を関連付けるモデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出するようにした。 - 特許庁

To improve matching deviation precision in an actual exposure stage by applying a statistical model and predicting a matching deviation correction value.例文帳に追加

本発明は、統計モデルを適用することにより、合わせずれ補正値を予測し、実際の露光工程での合わせずれ精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To measure characteristics of a projection system before and after a period for heating (exposure) and cooling so as to provide data for correcting a model for lens heating in a method of lithography.例文帳に追加

リソグラフィの方法において、レンズ加熱のモデルを較正するためのデータを提供するために、投影システムの特性が加熱（露光）および冷却の期間の前後に測定される。 - 特許庁

Finally, the exposure is controlled in the scanner by controlling a specific subsystem of the scanner using its corresponding subset of estimated model parameters.例文帳に追加

最後に、スキャナにおいて、スキャナの特定のサブシステムの制御をその対応する推定モデルパラメータサブセットを用いて行うことによって、露光が制御される。 - 特許庁

An overlapping error accompanying reticle thermal deformation due to the exposure is corrected by using the corrected model, and then a pattern is transferred to a wafer to be exposed.例文帳に追加

修正された前記モデルを用いて露光によるレチクル熱変形に伴う重ね合わせ誤差を補正し、その上で次の露光対象のウエハにパターンを転写する。 - 特許庁

The system provides a means to conduct assays for toxicology and metabolism and as a model for human diseases such as hepatic diseases, including hepatitis, exposure-related pathologies, and cancer.例文帳に追加

このシステムは、毒物学および代謝のためのアッセイを実施するための手段、そして肝炎、照射関連病理学、および癌を含む、肝疾患のようなヒト疾患のためのモデルとして提供される。 - 特許庁

In such event, the display of the accumulated exposure dose may be configured to be performed in accordance with a color scale preassigned on a human body model image on hand in advance.例文帳に追加

このとき、積算被爆線量の表示は、予め保持する人体モデル画像上に予め割り当てたカラースケールに従って行うよう構成してもよい。 - 特許庁

The dose of radiation for obtaining a designated CD is calculated, by using a model for relating the CD with the density after exposure of accelerator and relating the CD with the temperature as a function of time over the entire location.例文帳に追加

ＣＤを促進剤の露光後濃度に関連付ける、かつロケーション全体にわたる、時間の関数としての温度に関連付けるモデルを使用して、指定されたＣＤを得るための放射線量を計算する。 - 特許庁

To obtain a liquid light-sensitive resin for producing a printing plate and a duplication model, or for protecting and covering an electronic circuit, capable of allowing a thick layer of ≥0.5 mm to be hardened by the exposure in air, having no tackiness on a surface, and hardly causing shrinkage at the time of hardening.例文帳に追加

０．５ｍｍ以上の厚い層を空気中の露光で硬化でき、表面の粘着性がなく、硬化時の収縮が生じない印刷版や複製モデル作製用及び電子回路保護被覆用の液状感光性樹脂を提供する。 - 特許庁

The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加

ラインＬとスペースＳによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁

When an input design data is subjected to rule-base proximity correction in the process of forming a pattern based on the design data of an electronic device on a substrate to be exposed, the pattern is moved by calculating a correction amount by using a pattern side as a unit and then subjected to the model-base proximity correction to create an exposure data.例文帳に追加

被露光基板上に電子デバイスの設計データに基づいてパターンを形成する工程において、入力した設計データに対し、ルールベースの近接効果補正を行う際に、パターンの辺を単位に補正量を算出して移動した後、モデルベースの近接効果補正を行って露光データを作成する。 - 特許庁

In the case of any change in part of a plurality of unit processes (e.g. mass processes) constituting a unit process group, an OPC rule/model is newly set on the basis of proximity effect data before and after the change on the unit process subjected to the change and proximity effect correction of the pattern of a mask for exposure is carried out.例文帳に追加

ユニットプロセス群を構成する複数のユニットプロセス（例えばマスクプロセス）の一部に変更が生じた場合、変更が生じたユニットプロセスについての変更前および変更後の近接効果データに基づいてＯＰＣルール／モデルを新たに設定し、露光マスクのパターンの近接効果補正を行う。 - 特許庁

Gate length after etching is made uniform in the wafer plane by controlling the wafer processing direction when the underlying structure of the gate electrode is formed according to a model expression of gate dimensions (or controlling dose for every shot at the time of resist transfer formation in an exposure device while taking account of the underlying structure of isolation).例文帳に追加

すなわち、ゲート寸法のモデル式にしたがいゲート電極の下地構造形成時のウエハ処理方向を制御（または素子分離等の下地構造を考慮して露光装置においてレジスト転写形成時にショット毎にドーズ量を制御）することで、エッチング加工後のゲート長をウエハ面内で均一化する。 - 特許庁

In this respect, no Japanese financial institutions have adopted a business model whose exposure is concentrated on the housing sector or mortgage loans, and Japan’s housing sector has not undergone such a violent convulsion as that sustained by the U.S. and British housing sectors, so I do not think that a phenomenon like this suggests that the management of Japanese financial institutions will be seriously affected. 例文帳に追加

そういう観点からいたしますと、こういった形で住宅セクター、あるいは住宅ローンにそのエクスポージャーが集中しているというビジネスモデルをとっている国内金融機関があるとは承知をいたしておりませんので、また、日本の住宅セクターは米・英ほどの大きな動揺をきたしているという状況でもございませんので、こういった現象が直ちに我が国の金融機関の経営に重大な影響を及ぼす、といった見通しを示唆するものではないのではないかと思っております。 - 金融庁

Among the issues that have to be addressed, we emphasise, in particular, i) the importance of promoting prompt and full disclosure by financial institutions of their losses and of valuation of structured products; ii) strengthening management of liquidity risks at financial institutions by accelerating the development of an internationally consistent approach by the Basel Committee on Banking Supervision; iii) improving the understanding and disclosure of banks' and other financial institutions' exposure to off-balance sheet vehicles; iv) enhancing underpinnings of the originate-to-distribute model by ensuring an appropriate incentive structure comes into play; v) addressing potential conflicts of interest at credit rating agencies, and improving the information content of ratings to increase investors' awareness of the risks associated with structured products; and vi) implementing the Basel II capital adequacy framework to enhance transparency and risk management. 例文帳に追加

対応すべき課題のうち、我々は特に以下が重要であることを強調する。①金融機関による、損失及び金融仕組み商品の価格評価の即時かつ徹底的な開示を促進すること、②バーゼル銀行監督委員会による、国際的に整合性のとれたアプローチの策定の加速を通じた、金融機関の流動性リスク管理の強化、③銀行及び他の金融機関のオフバランス機関へのエクスポージャーに対する理解と開示の改善、④適切なインセンティブ構造の確保による、証券化ビジネスモデル（オリジネート・トゥ・ディストリビュート・モデル）の基盤の強化、⑤格付会社における潜在的な利益相反への対応と、金融仕組み商品のリスクに対する投資家の理解促進に向けた格付関連情報の改善、及び、⑥透明性及びリスク管理を向上させるバーゼルⅡの枠組みの実施、である。 - 財務省