film forming conditionとは 意味・読み方・使い方

HIGH-DENSITY SPUTTERING SINTERED TARGET MATERIAL NOT CRACKED EVEN IN HIGH-SPEED FILM FORMING CONDITION例文帳に追加

高速成膜条件でも割れ発生のない高密度スパッタリング燒結ターゲット材 - 特許庁

In this case, by a film forming condition, the defective part 35 such as the pinhole is generated on the gate insulation film 23.例文帳に追加

この場合、成膜条件により、ゲート絶縁膜２３にはピンホール等の欠陥部３５が発生する。 - 特許庁

To provide a film forming device in which a stable plasma condition is formed and an excellent controllability of the plasma condition is available.例文帳に追加

安定なプラズマ状態を形成することができ、プラズマ状態の制御性に優れた成膜装置の提供。 - 特許庁

To provide a vacuum film forming apparatus, which can form a dense film of high quality having strong adhesion to a substrate, and is not restricted by a film forming material or a film forming condition.例文帳に追加

基材に対する付着力が強く緻密な高品質の膜に形成できるとともに、成膜可能な材質や成膜条件の制約を受けること等のない真空成膜装置を提供することである。 - 特許庁

The method comprises a film forming step of forming a reflection preventive film on the surface of an optical glass element before annealing and the temperature condition of the film forming step is set at the annealing point of the optical glass element.例文帳に追加

アニール前の光学ガラス素子の表面に反射防止膜を成膜する成膜ステップを含み、成膜ステップの温度条件を光学ガラス素子の徐冷点とすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a film forming apparatus, which can continuously repeat film forming with an arc discharge type ion plating method and film forming with a sputtering method, in such a condition that the each film has high adhesiveness.例文帳に追加

アーク放電式イオンプレーティング法による皮膜の形成と、スパッタリング法による皮膜の形成が、それぞれ高い密着性を有す状態で、連続して繰返し行えることが可能である皮膜形成装置を提供する。 - 特許庁

Heat treatment is conducted for controlling in the condition prior to forming a film of magnetic nanoparticles on a magnetic disk substrate and the film forming on the substrate is conducted with resin while a particulate condition is secured.例文帳に追加

磁気ディスク基板へ磁性ナノ粒子を成膜する前の状態で規則化のための熱処理をし、微粒子の状態を確保しつつ、樹脂とともに基板上に成膜する。 - 特許庁

The organic EL film material in the cell is heated at the optimal temperature condition and at the same time the rate of film forming is controlled precisely.例文帳に追加

最適温度条件でセル内の有機ＥＬ膜材料を加熱し、同時に成膜レートを精密に制御する。 - 特許庁