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film temperature dropとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 境膜温度降下
「film temperature drop」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 23件
In the silicon carbide semiconductor device, during temperature drop in a gate oxide film forming process, the temperature is dropped to termination or elimination temperature not above 650-850°C while maintaining a wet atmosphere.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(650〜850℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
In the silicon carbide semiconductor device, during temperature drop in a gate oxide film forming process, the temperature is dropped to termination or elimination temperature not above 800-900°C while maintaining a wet atmosphere.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(800〜900℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
The method comprises the steps of (a) forming a linear liquid drop 70 on the surface of a substrate 48, (b) applying a temperature gradient on the surface of the linear liquid drop 70, and (c) forming a dried film 75 having a linear part 75a on the low-temperature side end of the linear liquid drop 70.例文帳に追加
(a)基板48の表面にライン状の液滴70を形成し、(b)ライン状液滴70の表面に温度勾配を付与して、(c)ライン状液滴70の低温側端部に直線部分75aを有する乾燥膜75を形成する。 - 特許庁
To improve the uniformity in film thickness by preventing temperature drop at the peripheral part of a wafer in a substrate-processing state.例文帳に追加
基板処理状態でのウェーハ周辺部の温度低下を防止し、膜厚の均一性の向上を図る。 - 特許庁
To prevent temperature drop by an integrated member of a film guide member and a heating element (hereinafter called as a heating guide member) in the on-demand fixing system.例文帳に追加
オンデマンド定着方式でフィルムガイド部材と加熱体とを一体化した部材(以下加熱ガイド部材)による温度低下を防ぐ。 - 特許庁
During the time of heat reduction in a gate oxide film forming step, heat is made to drop down to below the termination/regeneration temperature (800 to 900°C) while wet atmosphere is maintained.例文帳に追加
ゲート酸化膜形成工程の降温時に、ウェット雰囲気を維持したまま、終端・脱離温度(800〜900℃)以下まで降温させる。 - 特許庁
To provide an apparatus for forming a dense and hard thin film utilizing helicon plasma of high density which can reduce inclusion of impurities, and can drop the substrate temperature to the electronic device processing temperature (about 200°C), and a method for forming the thin film.例文帳に追加
不純物の含まれるのを低減でき、しかも基板温度を電子デバイスプロセス温度(約200℃)まで下げることのできる高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法を提供する。 - 特許庁
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「film temperature drop」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 23件
Consequently, high speed shallow temperature rise or temperature drop can be carried out only on the surface of the workpiece, e.g. a semiconductor wafer, under a state of uniform temperature distribution regardless of the type of the film.例文帳に追加
これにより、半導体ウエハ等の被処理体の表面のみを浅く、且つ膜種に関係なく均一な温度分布の状態で高速昇温及び高速降温させる。 - 特許庁
To provide a food packaging film which is superior in heat resistance, stable heat sealability, food hygiene, impact resistance under a low-temperature condition, and drop rupture resistance under a low-temperature condition.例文帳に追加
耐熱性、安定したヒートシール性、食品衛生性、低温での耐衝撃性、低温での落下時の耐破裂性の優れた食品包装用フィルムを提供すること。 - 特許庁
To control unnecessary heat transfer from a heat seal blade to an article to be packed and a sealant layer effectively, and to prevent a temperature drop and temperature unevenness on the heat seal blade, and also to prevent stay of the article to be packed on the inner side of a packaging film while the heat seal blade is heated at a high temperature.例文帳に追加
ヒートシール刃から被包装物およびシーラント層への不要な熱伝達を有効に抑制して、ヒートシール刃の温度低下および温度むらを防止し、併せてヒートシール刃の加熱温度を高温にしてなお、包装用フィルムの内側への被包装物の残留を防止する。 - 特許庁
To provide a heater which can perform high speed shallow temperature rise or temperature drop only on the surface of a workpiece, e.g. a semiconductor wafer, under a state of uniform temperature distribution regardless of the type of a film by optimizing the wavelength of heating light emitted from an LED element.例文帳に追加
LED素子から射出する加熱用の光の波長を最適化することによって、半導体ウエハ等の被処理体の表面のみを浅く、且つ膜種に関係なく均一な温度分布の状態で高速昇温及び高速降温させることが可能な加熱装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma CVD device capable of manufacturing a semiconductor thin film having excellent film quality by reducing generation of SiH_2 radicals degrading power generation performance in silane plasma, and preventing drop of the temperature of a substrate during film formation.例文帳に追加
シランプラズマ中の発電性能を低下させるSiH_2ラジカルの発生を減少させ、さらに成膜時の基板温度低下を防止させることで、優れた膜質を有する半導体薄膜を製造できるプラズマCVD装置を提供する。 - 特許庁
Thereby, oxygen can be prevented from being released from the inside of a superconductor film of a superconductive filter, and drop of a critical temperature T_C can be prevented.例文帳に追加
このため、超伝導フィルタの超伝導体膜の内部から酸素が放出されるのを抑制することができ、臨界温度T_Cの低下を抑制することができる。 - 特許庁
To provide a heating roller of a corrugated cardboard sheet manufacturing apparatus, which can effectively suppress a drop in sheet heating temperature when a liquid film is generated by the condensation of a heated liquid.例文帳に追加
段ボールシート製造装置の加熱ロールにおいて、加熱液体の凝縮による液膜の発生時に効果的にシート加熱温度の低下を抑制できるようにする。 - 特許庁
To provide a susceptor system for semiconductor manufacturing facilities, which can prevent process defects caused at evaporation of a high temperature insulating film and can prevent drop in the operation rate of a facility due to the shortened exchange period of a susceptor.例文帳に追加
高温絶縁膜の蒸着時に惹起される工程不良発生を防ぎ、サセプターの交換周期短縮による設備の稼働率低下を防止できる半導体製造設備用サセプターシステムを提供する。 - 特許庁
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