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fluorine carbide~の英語
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「fluorine carbide~」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
The film of fluorine carbide substance molecule is formed on the substrate surface by a plasma chemical vapor-deposition method using a fluorine carbide substance as a material gas.例文帳に追加
炭化フッ素系物質を原料ガスとするプラズマ化学蒸着法により基板表面に炭化フッ素系物質分子の膜を形成する。 - 特許庁
The etching protective layer can be constituted of the cured material of a vinyl polymerizable composition, silicon carbide, fluorine carbide, or titanium oxide.例文帳に追加
前記エッチング保護層は、ビニル系重合性組成物の硬化物、炭化珪素、炭化フッ素、又は酸化チタンで構成されていてもよい。 - 特許庁
Lastly, the SiO_2 film 63 is removed by RIE using a fluorine-carbide-based gas (g).例文帳に追加
最後にSiO_2膜63を、炭化フッ素系ガスを用いたRIEにより除去する(g)。 - 特許庁
The covered part 50 is made of organic polymer resin, for example, polytetrafluoroethylene, emitting fluorine carbide gas by ablation.例文帳に追加
被着部50は例えばポリテトラフルオロエチレンで、アブレーションにより炭化フッ素系ガスを放出する有機ポリマー樹脂から構成されている。 - 特許庁
FLUORINE CARBIDE BASED RESIN, ITS MANUFACTURING METHOD, SOLID PHASE FLUOROUS CATALYST, SOLID PHASE FLUOROUS SYNTHESIS REACTION, AND REACTION PLACE FOR ORGANIC REACTION例文帳に追加
炭化フッ素系樹脂およびその製造方法、固相フルオラス触媒、固相フルオラス合成反応並びに有機反応用反応場 - 特許庁
The method for manufacturing the silicon carbide single crystal substrate has a process for removing zones affected by treatment on the surface of the silicon carbide single crystal substrate by etching by using reactive gas excluding fluorine base gas.例文帳に追加
炭化珪素単結晶基板表面の加工変質部を、フッ素系ガスを除く反応性ガスを用いたエッチングによって除去する工程を有することを特徴とする炭化珪素単結晶基板の製造方法である。 - 特許庁
The method for manufacturing a silicon carbide mold includes forming a dry etching mask having an opening and comprising tungsten silicide on a silicon carbide substrate, and then dry-etching the silicon carbide substrate by a reactive ion etching method using a single fluorine-containing gas or a mixture gas of the fluorine-containing gas and oxygen gas as an etching gas.例文帳に追加
炭化ケイ素基板上に、開口部を有するタングステンシリサイドからなるドライエッチング用マスクを形成した後、エッチングガスとしてフッ素含有ガス単独又はフッ素含有ガスと酸素ガスとの混合ガスを用いて、反応性イオンエッチング法によって炭化ケイ素基板をドライエッチングすることを特徴とする炭化ケイ素製モールドの製造方法。 - 特許庁
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「fluorine carbide~」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 16件
This control method is characterized by mixing the steel smelting slag containing fluorine with one or more materials for controlling elution of fluorine, selected among solidified hydrate of fine powders of blast- furnace slag, slag in a furnace for smelting/reducing chrome ore, secondary smelting slag discharged from a secondary smelting process without using the fluorine-containing material, and porous carbide.例文帳に追加
フッ素を含有する鉄鋼製錬スラグに、フッ素溶出抑制物質として、高炉スラグ微粉末の水和固化体、クロム鉱石溶融還元炉スラグ、含フッ素物質を使用しない二次精錬より排出される二次精錬スラグ及び多孔質の炭化物から選ばれる1種又は2種以上を混合する。 - 特許庁
Fluorine atom of 0.2-3 atom.% is introduced to the uppermost surface of a film of hydrogen containing amorphous carbon or hydrogen containing amorphous silicon carbide (having 5-50% hydrogen content) by treating the surface of a head protecting film in the plasma formed by using a fluorine based gas as a raw material.例文帳に追加
ヘッド保護膜表面フッ素系ガスを原料としたプラズマ中で処理することにより、含水素非晶質炭素または、含水素非晶質炭化珪素(水素含有量5〜50%)膜の最表面にフッ素原子を0.2〜3原子%導入する。 - 特許庁
The dry etching is applied to the silicon carbide substrate 11 from a rear side using fluorine-based gas (second gas), by which a backside viahole 18 connected to the surface viahole 14 is formed.例文帳に追加
弗素系ガス(第2のガス)を用いて裏面側から炭化ケイ素基板11をドライエッチングすることで、表面バイアホール14に繋がる裏面バイアホール18を形成する。 - 特許庁
Another method is that the covalent bonding metal carbide is heated under a specific vacuum condition in the presence of a kind of gas selected from among CO gas, CO_2 gas, fluorine gas, CF_4 gas, oxygen gas, and water vapor.例文帳に追加
また、他の製造方法は、所定の真空下にある共有結合性金属炭化物原料を、COガス、CO_2ガス、フッ素ガス、CF_4ガス、酸素ガス及び水蒸気から選ばれる少なくとも1種のガスの存在下で加熱するものである。 - 特許庁
The silicon carbide film 1b has superior corrosion resistance because it is difficult to react with fluorine which is the main component of the lubricant layer of the information recording medium surface, and high slidability with the lubricant layer of the information recording medium surface.例文帳に追加
炭化珪素膜1bは、情報記録媒体表面の潤滑層の主成分であるフッ素と反応しにくいため耐腐食性に優れ、且つ、情報記録媒体表面の潤滑層との間で摺動性に優れている。 - 特許庁
In the method for manufacturing the optical glass composed of fluorine-containing glass, a glass raw material is dissolved in a vessel made of carbon or a carbide and thereafter, melted in a vessel made of platinum or a platinum-alloy.例文帳に追加
フッ素含有ガラスからなる光学ガラスの製造方法であって、ガラス原料を、炭素または炭化物製の容器で熔解した後、白金または白金合金製の容器中で熔融することを特徴とする光学ガラスの製造方法である。 - 特許庁
The surface protective layer 5 in the photoreceptor is formed, by stacking a plurality of fluorinated amorphous layers 6e containing 12-35 at.% of fluorine in amorphous silicon carbide or amorphous carbon, and the surface protective layer 5 has surface free energy of 40 mN/m or smaller.例文帳に追加
感光体における表面保護層5は、アモルファスシリコンカーバイドもしくはアモルファスカーボンにフッ素を12〜35原子%含有してなるフッ素化アモルファス層6eのみを複数積層形成してなり、且つ、その表面自由エネルギーが40mN/m以下である。 - 特許庁
The surface protective layer 5 of the photoreceptor comprises a plurality of layers of fluorinated amorphous layers 6e, comprising amorphous silicon carbide or amorphous carbon and 12 to 35 atomic% of fluorine, and has a dynamic indentation hardness of 90 to 500 kgf/mm^2.例文帳に追加
感光体における表面保護層5は、アモルファスシリコンカーバイドもしくはアモルファスカーボンにフッ素を12〜35原子%含有してなるフッ素化アモルファス層6eのみを複数積層形成してなり、且つ、その動的押し込み硬さが90〜500kgf/mm^2である。 - 特許庁
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