grid zoneとは 意味・読み方・使い方

In the grid, market price of each zone is determined by adjusting dealing trend in such a manner that restriction of empty capacity of the interconnection line is filled.例文帳に追加

この系統において各ゾーンの取引価格を、連系線の空容量の制約を満たすように取引潮流を調整した上で決定する。 - 特許庁

Thermal deformation-absorbing parts 13 and 23, each having a slot structure, are formed around porous parts 11 and 21 of the screen grid 10 and the acceleration grid 20, respectively, outside a plasma-generating zone.例文帳に追加

遮蔽グリッド１０および加速グリッド２０の多孔部１１，２１の周囲であって、プラズマ生成領域より外側領域に、スロット構造を持つ熱変形吸収部１３，２３を設けた。 - 特許庁

A grid 30 of a basket 10 for storing spent fuels keeps the boron content in a center zone II having a high neutron flux different from that in an outer periphery zone III having a low neutron flux to properly reduce the boron content in the outer periphery zone, so that the cost can be reduced and the strength is improved.例文帳に追加

使用済燃料収納用バスケット１０の格子３０について、中性子束が大きい中央付近ＩＩと中性子束が小さい外周付近ＩＩＩとでボロンの含有量を変え、外周付近のボロン添加量を適切に低減することでコストを低減し、強度を改善する。 - 特許庁

On the wiring substrate 1, a first rectangular zone Z1 surrounded by screw fastening places P1 to P4 and a second zone Z2 outside the first zone Z1 are formed in a partitioned way, and a ball grid array 2 is mounted at an intersection of a longitudinally traversing space S1 and a latitudinally traversing space S2 which both make up the second zone Z2.例文帳に追加

配線基板１に、ビス止め箇所Ｐ１〜Ｐ４によって取り囲まれた矩形の第１領域Ｚ１とその第１領域Ｚ１の外側の第２領域Ｚ２とを区画形成し、ボールグリッドアレイ２を、第２領域Ｚ２を形作っている縦通スペースＳ１と横断スペースＳ２との交差箇所に搭載する。 - 特許庁

To provide a control system in a roulette game apparatus controlling the payout by controlling the speed of a ball itself and controlling the content of a pip by introducing a ball in a grid area and a grid in a specific zone.例文帳に追加

ボール自体の速度を制御することにより、ペイアウト制御を可能とし、特定の範囲の枡目エリアおよび枡目にボールを導くことにより出目内容を制御できるようにしたルーレットゲーム装置における制御システムを提供する。 - 特許庁

A design grid a2 which is larger than the minimum processing size is set; a rounding process using a2 is performed for r_n, a ring zone radius rr_n and the focal length f2_n of each ring zone for the case are found; and further a second phase distribution P2 relating to rr_n is obtained.例文帳に追加

前記最小加工寸法より大きい設計グリッドａ２を設定し、ｒ_ｎについてａ２を用いた丸め処理を行い、その場合の輪帯半径ｒｒ_ｎと各輪帯の焦点距離ｆ２_ｎを求め、ｒｒ_ｎに係る第２の位相分布Ｐ２を求める。 - 特許庁

A ring zone radius r_n and a phase distribution P1 are derived from a first design grid space a1 which is sufficiently smaller than the minimum processing size of the semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスの最小加工寸法より十分に小さい第１の設計グリッド間隔ａ１で輪帯半径ｒ_ｎと位相分布Ｐ１を求める。 - 特許庁