ion beam effectとは 意味・読み方・使い方

To provide an ion source for improving the transportation effect of an ion beam by inhibiting the space-charge effect of the ion beam drawn by the drawing electrode system and divergence of the ion beam.例文帳に追加

引出し電極系から引き出されるイオンビームの空間電荷効果を抑制して、イオンビームの発散を抑制し、ひいてはイオンビームの輸送効率を向上させることのできるイオン源を提供する。 - 特許庁

To transport an ion beam efficiently to a target by suppressing spread of the ion beam due to space charge effect in a beam deflector.例文帳に追加

ビーム偏向器内部での空間電荷効果によるイオンビームの広がりを抑制し、イオンビームを効率良くターゲットに輸送する。 - 特許庁

To provide an ion implanting device in which the rapid withdrawal and the temporary withdrawal of an ion beam can be performed without giving an effect on a peripheral member irrespective of a beam diameter and a cross-sectional shape of the ion beam.例文帳に追加

イオンビームの高速退避、一時的退避を、イオンビームのビーム径や断面形状にかかわりなくかつ周辺部材に影響を及ぼすことなく実現できるようにしたイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

To improve the transportation efficiency of an ion beam with inhibiting its divergence due to the space-charge effect.例文帳に追加

イオンビームの空間電荷効果による発散を抑制して、イオンビームの輸送効率を向上させる。 - 特許庁

To provide an ion implanting device in which ion implantation by a large area ion beam can be carried out in a large-scale substrate, uniformity of ion beam is controllable, there is no occurring of a sputter by the ion beam, and which can prevent adverse effect by a sputter.例文帳に追加

大面積イオンビームにより大型の基板にイオン注入を行うことができ、イオンビームの均一性を制御可能であり、かつイオンビームによるスパッタの発生がなく、スパッタによる悪影響を防止することができるイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam processing device capable of preventing deviation of an ion beam to the center, and of keeping a cooling effect of an acceleration grid.例文帳に追加

イオンビームの中央への偏りを防止するとともに、加速グリッドの冷却効果を維持できる電子ビーム加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam irradiation device capable of performing maintenance without having an adverse effect on other processing chambers when performing maintenance of an ion beam supply device in use corresponding to an in-line method.例文帳に追加

インライン方式に相当する使用においてイオンビーム供給装置のメンテナンスを行う際、他の処理室に悪影響を与えることなくメンテナンスを行うことができるイオンビーム照射装置を提供する。 - 特許庁