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isolation bufferとは 意味・読み方・使い方
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「isolation buffer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 26件
This base isolation device comprises an impact buffer 10 and a mounting member 30.例文帳に追加
本実施例の免震装置は、衝撃緩衝装置10および取付部材30からなる。 - 特許庁
An isolation layer for suppressing a leakage current is provided at least between a channel layer and a buffer layer formed under the channel layer in the buffer layer.例文帳に追加
チャネル層の下部に形成するバッファ層の少なくともチャネル層との間にリーク電流を抑制する分離層を設ける。 - 特許庁
A sample reservoir 20, a sample discharge reservoir 22, a buffer reservoir 21, a drain 23, isolation reservoirs 26a-26d, a separation passage 24, and an isolation passage linked to the isolation reservoirs are formed in the chip.例文帳に追加
チップにはサンプルリザーバ20,サンプル排出リザーバ22,バッファリザーバ21,ドレイン23,分取リザーバ26a〜26dと分離流路24及び、分取リザーバにつながる分取流路が形成されている。 - 特許庁
The vibration isolation means consists of a soft-elastic vibration isolation member 58 and a hard-elastic abutting member 59, and is disposed either on the buffer cassette 5 side or the stopper 57 side.例文帳に追加
傾動自在に構成されたバッファカセット5と該バッファカセット5の水平姿勢を規定するストッパ57との間に防振手段を介設する。 - 特許庁
A vibration isolation means is provided between the buffer cassette 5 constituted to tilt freely and the stopper 57 for regulating the horizontal attitude of the buffer cassette 5.例文帳に追加
ところが、このバッファカセットを傾動させるときに、ストッパとの当接で衝撃が生じ、該バッファカセット内のウエハが位置ズレを起こしてしまう。 - 特許庁
When a buffer 40 is pinched and fitted between the parallel plate body-shaped sections, vibration isolation and soundproof effects are displayed.例文帳に追加
上記平行板体状部間に緩衝装置を挟装すれば、防振・防音効果が発揮される。 - 特許庁
A pad oxide film 2 and a first polysilicon layer 3 are used as a stress buffer member when an element isolation oxide film 5 is formed.例文帳に追加
パッド酸化膜(2)、第1のポリシリコン層(3)を素子分離酸化膜(5)の形成時にはストレス緩衝部材として用いる。 - 特許庁
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「isolation buffer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 26件
An upper device isolation film filling the groove and the trench is formed on the lower device isolation film, and the hard mask film and the buffer insulation film are removed by etching, until the semiconductor substrate is exposed.例文帳に追加
下部素子分離膜上にグルーブ及びトレンチを満たす上部素子分離膜を形成し、ハードマスク膜及びバッファ絶縁膜を半導体基板が露出するまでエッチングして除去する。 - 特許庁
To provide a heterogeneous computing system including a switch/network adapter port interface utilizing an LR-DIMM having an isolation memory buffer built in.例文帳に追加
アイソレーションメモリバッファを組み込んだLR−DIMMを利用したスイッチ/ネットワークアダプタ・ポートインターフェースを含むヘテロジニアスコンピューティングシステムを提供する。 - 特許庁
A work floor 7 is disposed around the precision instrument supported and installed by the base isolation device in a base isolating manner, a base isolation clearance 8 is secured between the work floor and the precision instrument, and a buffer 9 restricting the excess horizontal displacement of the precision instrument is installed in the base isolation clearance.例文帳に追加
免震装置により免震支持して設置した精密機器の周囲に作業床7を設けるとともに、作業床と精密機器との間には免震クリアランス8を確保し、免震クリアランスに精密機器の過大水平変位を拘束する緩衝装置9を設置する。 - 特許庁
In the compound semiconductor element, a first element isolation portion 9 reaching a buffer layer 2 from a surface of the element in the thickness direction of a substrate 1 is formed.例文帳に追加
化合物半導体素子において、素子表面から基板1の厚さ方向にバッファ層2まで達する第1の素子分離部9を形成する。 - 特許庁
The fluctuations of the back pressure in the buffer tank 5, which are attendant upon the advance/retreat operations of the ink in the flexible tubes 13 and 34, are absorbed by movement of the isolation member 20.例文帳に追加
可撓性チューブ13、34内のインクの進退動に伴うバッファタンク5内の背圧の変動を隔離部材20の移動により吸収する。 - 特許庁
A semiconductor crystal GaN layer 14 is grown on a sapphire base substrate 11 through the intermediary of an AlN isolation layer 12 and a GaN buffer layer 13.例文帳に追加
サファイアよりなる基礎基板11に、AlNよりなる分離層12およびGaNよりなるバッファ層13を介してGaNよりなる半導体結晶層14を成長させる。 - 特許庁
HETEROGENEOUS COMPUTING SYSTEM INCLUDING SWITCH/NETWORK ADAPTER PORT INTERFACE UTILIZING LOAD REDUCED DUAL-INLINE-MEMORY MODULE (LR-DIMM) HAVING ISOLATION MEMORY BUFFER BUILT IN例文帳に追加
アイソレーションメモリバッファを組み込んだロードリデュースド・デュアル・インライン・メモリ・モジュール(LR−DIMM)を利用したスイッチ/ネットワークアダプタ・ポートインターフェースを含むヘテロジニアスコンピューティングシステム - 特許庁
On the AlN buffer layer 2, an undoped GaN layer 3, an n-type GaN layer 4, an active layer 5, and a p-type GaN layer 6 are laminated in order, and an isolation groove A isolating elements is formed.例文帳に追加
AlNバッファ層2上には、アンドープGaN層3、n型GaN層4、活性層5、p型GaN層6が順に積層され、素子間を分離する分離溝Aが形成される。 - 特許庁
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