low temperature irradiationとは 意味・読み方・使い方

To provide a relatively low-temperature and simple treatment process capable of obtaining the clean surface of a nitride semiconductor comparable to a high temperature hydrogen plasma irradiation result.例文帳に追加

本発明は、比較的に低温かつ簡便な処理工程で、上記高温水素プラズマ照射結果と同程度以上のクリーンな窒化物半導体の表面が得られる処理工程を提供することを課題とする。 - 特許庁

So, the doping temperature of the p-type impurities is increased with no ultraviolet irradiation to lower the specific resistance of the compound semiconductor thin film with low-temperature heat treatment only.例文帳に追加

そこで、紫外線の照射なしにｐ型不純物のドーピング温度を高め、低温での熱処理だけで化合物半導体薄膜の固有抵抗を低下させる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal medium especially useful for reflection type MLC displays having short response time even in wide action temperature range and at a low temperature, extremely large resistance and low threshold voltage, increased stability to UV irradiation, small double refractive index, etc., improving visual angle range.例文帳に追加

広い動作温度範囲、低温においても短い応答時間、非常に大きい抵抗値および低いしきい値電圧、ＵＶ照射線に対する増大した安定性、視野角範囲を改良する小さい複屈折率、等を有する反射型ＭＬＣディスプレイに特に有用な液晶媒体を提供する。 - 特許庁

The contrast medium is prepared by a dynamic nuclear-spin-polarization using organic radicals generated by UV-irradiation of an ultra-low temperature organic solvent in which photodissociation molecules are mixed.例文帳に追加

造影剤は、光解離性分子を混入した極低温有機溶媒に、紫外線を照射して生成した有機ラジカルを用いて、動的核スピン偏極を行うことにより製造される。 - 特許庁

To provide a photocatalyst body which is used a base material with low temperature resistance and has a catalyst film which develops photocatalytic activity by irradiation with not only ultraviolet light but also visual light.例文帳に追加

耐熱温度が低い基材を使用することが可能な、紫外光のみならず可視光の照射によっても光触媒活性を発現することができる光触媒膜を有する光触媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a silver oxide fine particle suitable for obtaining a conductive composition by heating at a relatively low temperature or by laser irradiation through a simple process without using a complicate apparatus.例文帳に追加

本発明は、比較的低い温度の加熱やレーザー照射により導電性組成物を得るのに好適な酸化銀微粒子を、複雑な装置を用いることなく、簡便な方法で作製する方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicon-on-insulator (SOI) substrate, which can transfer a semiconductor layer from a single-crystal semiconductor substrate to a base substrate at low heat treatment temperature without increasing the irradiation amount of accelerated hydrogen ions.例文帳に追加

加速した水素イオンの照射量を増やすことなく、低い加熱処理温度で単結晶半導体基板からベース基板に半導体層を転載できるＳＯＩ基板の作製方法を提供することを課題の一とする。 - 特許庁

To provide a convenient method for continuously deactivating enzyme via microwave irradiation satisfactorily usable for polymeric materials, such as thermoplastic resin having low heat-resistance, while suppressing temperature rise to an object to be subjected to enzyme deactivation.例文帳に追加

酵素失活対象物の温度上昇を抑制しつつ、耐熱性の低い熱可塑性樹脂等高分子材料にも好適に使用でき、簡便な酵素失活方法を提供すること。 - 特許庁