magnetron sputtering sourceとは 意味・読み方・使い方

To provide a magnetron sputtering source of high film deposition speed by solving the problem of the low film deposition speed of a known magnetron sputtering source, in particular, the low film deposition speed in film deposition of metal oxides.例文帳に追加

従来のマグネトロンスパッタ源の遅い成膜速度、特に金属の酸化物の成膜に於ける遅い成膜速度の問題を解決し、成膜速度が速いマグネトロンスパッタ源を提供することにある。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus, in which one type of a magnetron magnetic field constitution suffices for each magnetron evaporation source, and therefore a desired confining magnetic field can be formed regardless of the number and configuration of magnetron evaporation sources, and which can simplify a change in the shape of a confining magnetic field.例文帳に追加

マグネトロン蒸発源が１種類のマグネトロン磁場構成で済み、マグネトロン蒸発源の数、配置に関係なく所望の閉じ込め磁場を形成でき、また閉じ込め磁場形状が簡単に変えられるようにする。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering source, a sputtering-coating system and a method for the treatment of a substrate by means of which the efficiency of coating process can be increased by increasing power density.例文帳に追加

出力密度を上げることでコーティング処理の効率を向上したマグネトロンスパッタリング源、スパッタコーティング装置及び基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

MAGNETRON REACTOR MADE OF METAL AND FEEDING HIGH DENSITY INDUCTION COUPLING HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE SPUTTERING DIELECTRIC FILM例文帳に追加

金属製及び誘電体膜をスパッタリングする高密度誘導結合高周波プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタ - 特許庁

In a magnetron SPUTTERING device 1, a double-pole electromagnet 11 functions as both the cathode of a power supply 5 and a magnetic source 6 at the same time.例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置１において、２重磁極型電磁石１１は、電力源５の陰極と磁力源６とを兼ねている。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering apparatus which can improve the plasma density in a relatively easy manner without using any high frequency power source circuit which is expensive and requires a space for a matcher.例文帳に追加

高価でマッチャなどのスペースを要する高周波電源回路を用いなくても、比較的容易にプラズマ密度向上を図り得るようにする。 - 特許庁

To provide a composite film deposition system which suppresses interference between an arc evaporation source and a magnetron sputtering evaporation source, and allows the respective evaporation sources to sufficiently exhibit each function.例文帳に追加

アーク蒸発源とマグネトロンスパッタ蒸発源との磁界の相互干渉を抑制し、それぞれの蒸発源が具備する機能を十分に発揮させることができる複合成膜装置を提供する。 - 特許庁

The method for producing the nanometal-glass particle aggregate comprises intermittently turning on and off an RF power source while plasma is in an unstable state immediately after RF voltage application in a vacuumed, gas-replaced RF magnetron sputtering apparatus.例文帳に追加

真空引き、ガス置換が終了したＲＦマグネトロンスパッタ装置において、ＲＦ電圧印加直後のプラズマが不安定な状態で、ＲＦ電源を間欠的にＯＮ−ＯＦＦする。 - 特許庁