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matrix removalとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 マトリックス除去
「matrix removal」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 14件
In one aspect the method includes the steps of positioning a microwave-transparent matrix removal tool in a microwave transparent reaction vessel, adding a matrix-based composition to the microwave reaction vessel containing the removal tool, applying microwave radiation to the reaction vessel, the matrix-based composition, and the matrix removal tool, and removing the matrix-based composition from the reaction vessel using the matrix removal tool.例文帳に追加
マイクロ波透過マトリクス除去工具をマイクロ波透過反応容器内に配置する段階と、マトリクスベースの組成物を、除去工具の入ったマイクロ波反応容器に加える段階と、マイクロ波を、反応容器、マトリクスベースの組成物、及びマトリクス除去工具に照射する段階と、マトリクスベースの組成物を、反応容器からマトリクス除去工具を使って取り出す段階を含んでいる。 - 特許庁
This method includes steps of: positioning a microwave-transparent matrix removal tool in a microwave transparent reaction vessel 13; adding a matrix-based composition to the microwave transparent reaction vessel containing the removal tool; applying microwave radiation to the reaction vessel, the matrix-based composition and the matrix removal tool; and removing the matrix based composition from the reaction vessel using the matrix removal tool.例文帳に追加
本方法は、マイクロ波透過マトリクス除去工具をマイクロ波透過反応容器13内に配置する段階と、マトリクスベースの組成物を、除去工具の入ったマイクロ波反応容器に加える段階と、マイクロ波を、反応容器、マトリクスベースの組成物、及びマトリクス除去工具に照射する段階と、マトリクスベースの組成物を、反応容器からマトリクス除去工具を使って取り出す段階を含んでいる。 - 特許庁
To realize the saving of a manufacturing cost and the miniaturization of a device and the simple manufacturing/attaching of a printing matrix and further, the easy removal and replacement of a printing matrix.例文帳に追加
安価で小型化を図ることができ、製版および着版を容易に行うことができ、排版や版替えを容易に手を汚さず行う。 - 特許庁
To provide a selective adsorption and removal agent produced by using amylose as a matrix and applicable even to a chemical substance having a hydroxy group.例文帳に追加
アミロースを母材として用い、かつ水酸基を有する化学物質にも適用可能で選択的な吸着除去剤を提供する。 - 特許庁
After a plurality of FPC boards 28 are adhered, abrasive removal processing is performed to both end portions in the backing matrix 20, thereby constituting a backing assembly.例文帳に追加
複数のFPC基板28が接着された後、バッキング母体20における両端部が研磨除去処理され、これによってバッキングアセンブリが構成される。 - 特許庁
A path selection part 107 refers to the delay profile, and a path whose received power exceeds a threshold for path selection is selected as a path used for the matrix computation for the interference removal.例文帳に追加
パス選択部107は、遅延プロファイルを参照し、受信電力がパス選択用の閾値を越えたパスを干渉除去のための行列演算に用いるパスとして選択する。 - 特許庁
A user judgment part 104 refers to the delay profile, and a user whose maximum value of received power exceeds a threshold for user judgment is selected as a user used for a matrix computing operation for an interference removal.例文帳に追加
ユーザ判定部104は、遅延プロファイルを参照し、受信電力の最大値がユーザ判定用の閾値を越えたユーザを干渉除去のための行列演算に用いるユーザとして選択する。 - 特許庁
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「matrix removal」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 14件
The method for manufacturing the color filter includes: a step of forming color filter layers CF(R), CF(G) and CF(B) by ejecting the liquid droplet into an area surrounded by a partition wall (BM1); a step of irradiating a removal part AB included in the partition wall with laser beams LB; and a step of forming the black matrix BM by removing the removal part AB.例文帳に追加
隔壁(BM1)によって囲まれた領域に液滴を吐出してカラーフィルター層CF(R),CF(G),CF(B)を形成する工程と、隔壁に含まれる除去部ABにレーザー光LBを照射する工程と、除去部ABを除去し、ブラックマトリクスBMを形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
A reception weight calculator 15-5 generates a correlation matrix of the reception signal and minimizes the electric power on the basis of information on the selected reception signal to calculate a weight value for interference removal.例文帳に追加
受信ウエイト計算部15−5は、選択された受信信号の情報に基づいて、受信信号の相関行列の作成と電力最小化とを行い、干渉除去を行うための重み付け値を算出する。 - 特許庁
To provide a method for a trace component analysis in steel with high accuracy by enabling the rapid removal of a matrix component capable of corresponding even to inductive coupling plasma mass analysis supplying an electrolytic solution continuously.例文帳に追加
連続的に電解溶液を供給する誘導結合プラズマ質量分析にも対応可能な迅速なマトリックス成分除去を可能とすることにより、鉄鋼中微量成分の高精度分析方法を提供する。 - 特許庁
That is, in the processing step of the material sheet, the composite flat plate sheet D including a single or a plurality of matrix material layers A and reinforcing material layers B is prepared and a linear groove 1 is formed thereon by a means such as indentation, removal by incision/trimming, cutting, fusion and burning-out/evaporation.例文帳に追加
つまり資材シートの加工工程において、単数又は複数のマトリックス材層部Aと強化材層部Bから構成される複合平板シートDを用意し、押し込み、切り込み切削除去、切断、溶融、焼却気化などの手段により線状溝1を形成する。 - 特許庁
To provide a method for recovering carbon fibers (CF) in a carbon fiber-reinforced plastic (CFRP) by using a solvent, capable of increasing the decomposition and removal rate of a matrix resin of the CFRP and also recovering the CF while maintaining the high strength of the CF.例文帳に追加
溶剤を用いる炭素繊維強化プラスチック(CFRP)中の炭素繊維(CF)の回収方法において、CFRPのマトリックス樹脂の分解・除去率を高くすることができると共に、CFを強度を高く保持しつつ回収できるCFRP中のCFの回収方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the structure having the uneven pattern includes a coating step of coating to a processing object a liquid (a) containing first particles and a matrix material composed of a material different from the first particles; a removal step of removing the first particles; and an etching step of forming the uneven pattern by etching a processing object with the matrix material as an etching mask.例文帳に追加
本発明の凹凸パターンを有する構造体の製造方法は、第一の粒子と、前記第一の粒子と異なる材料からなるマトリクス材とを含む液体(a)を被加工体上に塗布する塗布工程と、前記第一の粒子を除去する除去工程と、前記マトリクス材をエッチングマスクとして前記被加工体をエッチングして凹凸パターンを形成するエッチング工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a cleaning method in which fine patterns formed on semiconductor, a liquid crystal display, an electronic device, etc., as an object to be treated are not damaged, without deteriorating removal efficiency of particles stuck on a surface of the object to be treated, a method for manufacturing a semiconductor device and a method for manufacturing an active matrix type display device.例文帳に追加
被処理体の表面に付着したパーティィクルの除去効率を低下させることなく、被処理体である半導体、液晶ディスプレイ、電子デバイス等に形成された微細パターンに対してダメージを与えない洗浄方法、半導体装置の製造方法及びアクティブマトリクス型表示装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
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