ms temperatureとは 意味・読み方・使い方

In a cooling process on hot pressing, cooling is performed at a critical cooling rate or higher till an Ms point, and the cooling rate in the temperature range from the Ms point to 200°C is controlled to 25 to 150°C/s.例文帳に追加

熱間プレス時の冷却過程において、Ｍｓ点までは臨界冷却速度以上で冷却し、Ｍｓ点から２００ ℃までの温度範囲の冷却速度を２５〜１５０ ℃／ｓとする。 - 特許庁

For instance, in the secondary cooling step, the steel sheet is cooled in a temperature range between 650°C and a temperatures close to the Ms point which is given by Tc(°C)(=410-40×Mn(mass%)-30×Cr(mass%)) and at an average cooling rate of 10°C/s or higher.例文帳に追加

例えば、2次冷却は、650℃からTc(℃)(=410-40×Mn(質量%)-30×Cr(質量%))で与えられるMs点近傍の温度までの温度範囲の冷却であり、その時の平均冷却速度は10℃/s以上である。 - 特許庁

Thereby, temperature dependence of saturation magnetization MS is reduced and the influence of a demagnetizing field and a floating magnetic field can be reduced across a wide temperature range.例文帳に追加

これにより、飽和磁化Ｍ_sの温度依存性が低減され、広範な温度領域にわたって反磁界および浮遊磁界による影響を軽減することが可能になる。 - 特許庁

After stopping the heating, the long workpiece LW is brought into contact with first to fourth straightening rollers 24a-24d while increasing the number of revolutions of the long workpiece LW, and the workpiece is cooled to the temperature zone of not higher than Pf temperature to the temperature exceeding the Ms temperature in such a state (first cooling step).例文帳に追加

加熱を停止した後、長尺ワークＬＷの回転数を大きくしながら第１〜第４矯正ローラ２４ａ〜２４ｄに接触させ、この状態で、Ｐｆ温度以下〜Ｍｓ温度超の温度域まで冷却する（第１冷却工程）。 - 特許庁

When high-intensity flash lamp annealing irradiation is performed for heating a wafer for 0.1 to 10 ms at no less than 1,100°C wafer surface temperature, the wafer-surface temperature immediately prior to the irradiation is set at a high temperature range of 800 to 1,000°C.例文帳に追加

ウェハをウェハ表面温度１１００℃以上に０．１〜１０ミリ秒で加熱するための高強度のフラッシュランプアニールを照射する際、その直前のウェハ表面温度を８００〜１０００℃と高温にする。 - 特許庁

The heating light is pulse light of 50 ms or shorter for causing temperature distribution on the filter element 7, and is moved on the filter element 7.例文帳に追加

加熱光は、フィルタ素子７に温度分布を生じさせるために５０ｍｓ以下のパルス光であり、フィルタ素子７の上を移動させる。 - 特許庁

The spatial charge decay period is set longer in a high-temperature environment of 40°C as compared with a room-temperature environment and the time of it is about 100 μs to 1 ms.例文帳に追加

空間電荷減衰期間は、常温環境に比べて４０℃ 以上の高温環境でさらに長く設定されて、その時間はおおよそ１００μｓ以上、１ｍｓ以下である。 - 特許庁

Dust included in the working fluid in the working fluid space MS is collected by the high-temperature side filter 42H and the low-temperature side filter 42L during moving into the crank case internal space CS.例文帳に追加

作動流体空間ＭＳ内の作動流体へ含まれる塵は、クランクケース内空間ＣＳへ移動する途中で、高温側フィルタ４２Ｈ及び低温側フィルタ４２Ｌで捕捉される。 - 特許庁