oblique light incidenceとは 意味・読み方・使い方

A group of fine optical elements that amplify the luminous flux density of the oblique-incidence light which is incident on the oblique incidence region and lead it to the receiving surface is formed discretely outside the vertical incidence region, on the upper surface of the transparent body 118.例文帳に追加

透明体１１８の上面には、斜め入射領域に入射した斜め入射光を光束密度を大きくしてから前記受光面へ導く微小光学素子の群が垂直入射領域の外側に離散的に形成されている。 - 特許庁

The X-ray detector 40 detects the X-ray focused to form the image by the oblique incidence mirror for image formation 30 on the light receiving surface 41.例文帳に追加

Ｘ線検出器４０は結像用斜入射ミラー３０により結像されたＸ線を受光面４１において検出する。 - 特許庁

To provide an oblique incidence interferometer which can alter sensitivity to interference fringes without requiring any advanced technique nor expensive laser light source.例文帳に追加

高度な技術や、高価なレーザ光源を要することなく、干渉縞感度を変更することができる斜入射干渉計の提供。 - 特許庁

The rod integrator has an oblique angle change part for making the maximum oblique angle of the light projected from the light projection surface of the rod integrator to a center axis perpendicular to the light projection surface than the maximum oblique angle of the converged light projected by the light source unit to the center axis perpendicular to the light incidence surface.例文帳に追加

前記ロッドインテグレータは、前記ロッドインテグレータの光射出面から射出される光の前記光射出面に垂直な中心軸に対する最大傾斜角を、前記光源装置から射出される集光光の前記光入射面に垂直な中心軸に対する最大傾斜角よりも小さくするための傾斜角変更部を備える。 - 特許庁

A proximal oblique surface of a recessed part 13 nearby the light source 11 functions as a reflecting surface for deflecting a light beam which is made incident at an angle of incidence larger than the critical angle toward the illuminated body.例文帳に追加

光源１１に近い凹部１３の近位斜面は、臨界角よりも大きい入射角で入射する光線を被照明物体に向けて偏向するための反射面として機能する。 - 特許庁

In a master pattern creation method of an embodiment, an oblique incidence effect measuring pattern used to measure an oblique incidence effect of incident light made incident on a reflective mask is formed on the reflective mask for pattern transfer used for an exposure device including a reflection type optical system.例文帳に追加

実施形態のマスクパターン作成方法では、反射型光学系を備えた露光装置に用いられるパターン転写用の反射型マスクに、前記反射型マスクへ入射する入射光の斜入射効果の測定に用いられる斜入射効果測定用パターンを形成する。 - 特許庁

Even when light L is incident on the reflector 2 at a macroscopically large angle of incidence (i.e. from an oblique direction which is nearly parallel to the reflector 2), the angle of incidence on the rising parts of the respective projection parts 3 become small, and hence the light is retroreflected with a large light quantity at these parts.例文帳に追加

反射体２に対しマクロ的には高入射角で（即ち、該反射体２に平行に近い斜め方向から）光Ｌが入射したときも、各凸部３の立上がり部分に対する入射角は小さくなるので、これらの部分においては大きな光量で再帰反射される。 - 特許庁

Further, a projection part 14 operates to return a light beam which is made incident on the proximal oblique surface of the recessed part 13 at an angle of incidence less than the critical angle and transmitted through it to the light guide plate 12 through refracting operation.例文帳に追加

また、凸部１４は、凹部１３の近位斜面に臨界角未満の入射角で入射しこれを透過した光線を少なくとも屈折作用により導光板１２へ戻す働きをする。 - 特許庁