oerstedとは 意味・読み方・使い方

As the magnetic recording layer 3, it is preferable that a Ba-ferrite with a plate ratio of at least 1.5 is used and the coercive force of 580-720 oersted and a horny ratio of at least 0.85.例文帳に追加

磁気記録層３は、板状比が１．５以上のＢａ−フェライトを用い、抗磁力が５８０〜７２０エルステッド、角形比が０．８５以上であるものが好ましい。 - 特許庁

To provide a cold-rolled steel sheet and a plated steel sheet both with a high strength, which are superior in shielding property from the earth magnetism, in other words, have a high relative permeability in a magnetic filed of about 0.3 oersted by a direct current, and a method for manufacturing them.例文帳に追加

地磁気シールド特性が優れる、すなわち０．３エールステッド前後の直流磁場における比透磁率が大きい高強度冷延鋼板および高強度めっき鋼板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The composite particle has a particle size of 0.5-10 μm, coercive force of 2.39-11.94 kA/m (30-150 oersted), saturation magnetization of 0.5-20 A×m^2/kg (0.5-20 emu/g) and a specific gravity of 1.0-4.0 g/cc.例文帳に追加

粒子サイズを０．５〜１０μｍ、保磁力を２．３９〜１１．９４ｋＡ／ｍ（３０〜１５０エルステッド）、飽和磁化を０．５〜２０Ａ・ｍ^２／ｋｇ（０．５〜２０ｅｍｕ／ｇ）、比重を１．０〜４．０ｇ／ｃｃの範囲とする。 - 特許庁

An Ag film is formed by a magnetron sputtering method wherein the discharge voltage is kept at 200-350V and the magnetic field intensity on an Ag-target surface is kept at 700-1,200 oersted during Ag-film formation.例文帳に追加

【解決手段】 Ａｇ膜がマグネトロンスパッタリング法で成膜時の放電電圧が２００〜３５０Ｖに保持し、Ａｇターゲット表面の磁界の強さが、Ａｇ膜の成膜時に、７００〜１２００エルステッドに保持して、Ａｇ膜を成膜する。 - 特許庁

When the ferrite particle is used as a carrier, the fluidity is preferably 40 seconds or higher after magnetized under a magnetic field of 1000/(4π)kA/m (1000 Oersted) for higher image density.例文帳に追加

ここで、キャリアとして用いた場合に、より高画像濃度を得る観点からは、１０００／（４π）ｋＡ／ｍ（１０００エルステッド）の磁界下で着磁した後の流動度が４０秒以上であるのが好ましい。 - 特許庁

The method for producing the transparent electroconductive film of an oxide containing indium and zinc by using a sputtering technique includes sputtering the target containing indium oxide and zinc oxide as main components while keeping the magnetic field in parallel to the target surface in a strength lower than 400 Oe (oersted).例文帳に追加

スパッタリング法によるインジウムと亜鉛を含む酸化物の透明導電膜の製造方法であって、酸化インジウムと酸化亜鉛を主成分とするターゲットの表面の平行磁場強度を４００Ｏｅ（エルステッド）未満に保持してスパッタすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。 - 特許庁

The soft magnetic backing layer formed by the plating method is subjected to heat treatment in a magnetic field by selecting conditions of 150 to 350°C heat treatment temperature, ≥50 Oersted (Oe) magnetic field intensity applied to the substrate and 5 to 10 hr treatment time.例文帳に追加

メッキ成膜された軟磁性裏打ち層には、熱処理温度が１５０℃以上３５０℃以下、基板への印加磁場強度が５０エルステッド（Ｏｅ）以上、処理時間が５分乃至１０時間の範囲で条件選択されて磁場中熱処理が施される。 - 特許庁

This thread is used by making the thread into paper for prevention of forgery and the thread is obtained by providing a protruded part 13 formed by printing ink on a substrate 11 composed of a resin film and further forming a ferromagnetic thin film layer 15 having 0.5-50 oersted coercive force and 0.75-1.0 squareness ratio thereon.例文帳に追加

本発明の偽造防止用スレッドは、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材１１上に印刷インキによる凸部１３が設けられ、当該樹脂フィルム基材上および凸部上に被着された保磁力が０．５〜５０エルステッドで、かつ、角型比が０．７５〜１．０である強磁性材薄膜層１５をさらに備えることを特徴とする。 - 特許庁