over- etchingとは 意味・読み方・使い方

The etching damage during dry etching after forming an electrode or a wiring over an insulating film is prevented.例文帳に追加

絶縁膜上の電極や配線形成後のドライエッチングにおけるエッチングダメージを防止する。 - 特許庁

A bias power applied to a wafer is reduced in over etching.例文帳に追加

ウェハにバイアスをかけることが、オーバーエッチングにおいて低減される。 - 特許庁

ETCHING OF ALUMINUM OVER HIGH MELTING POINT METAL WITH CONTINUOUS PLASMAS例文帳に追加

連続プラズマによる高融点金属上のアルミニウムのエッチング - 特許庁

To provide an etching method and an etching device capable of uniform etching with high degree of accuracy over a long period of time.例文帳に追加

長期にわたり、高い精度で均一なエッチングができるエッチング方法およびエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Moreover, since the just etching time JET is extended only as much as Δt, the over-etching time OET in the over-etching vessel 12 is set as (JET+Δt)×m%.例文帳に追加

また、ジャストエッチング時間ＪＥＴがΔｔだけ延びることから、オーバーエッチング槽１２内でのオーバーエッチング時間ＯＥＴを（ＪＥＴ＋Δｔ）×ｍ％として設定する。 - 特許庁

To provide a plasma etching method in which process control is facilitated and etching rate is highly uniform over the surface to be etched.例文帳に追加

プロセス制御が容易で、エッチングレートの面内均一性の優れたプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for a plasma etching in the oblique direction at a large etching angle extensively over a large area.例文帳に追加

大面積に亘って大きなエッチング角で斜方向プラズマエッチングを行う方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the etching uniformity over a wafer surface by preventing drifting of plasma ions through utilization of magnetic coil blocks in a magnetron plasma etching apparatus.例文帳に追加

マグネチックコイルブロックを利用してプラズマイオンのドリフティングを防止してウエハー面内均一性を向上する。 - 特許庁