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p T 2とは 意味・読み方・使い方

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遺伝子名称シソーラスでの「p T 2」の意味

Pt-2

fly遺伝子名Pt-2
同義語(エイリアス)Larval protein-2
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのID---
その他のDBのIDFlyBase:FBgn0022373

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
FlyBase
米英大学のショウジョウバエ研究者などにより運営されるショウジョウバエ生態遺伝子情報に関するデータベース

「p T 2」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 86



例文

Wherein, t: sheet thickness (mm), UT: tension (kg/mm^2) per unit cross sectional area of the steel sheet, C: cooling gradientC/m), p: floating support-pitch (m) and E: Young's modulus (kg/mm^2).例文帳に追加

x=(1+10000×t×UT×C)× UT /(p^2×E×t) ≦0.1・・・(A) ここに、 t:板厚(mm)、UT:鋼板単位断面積当たりの張力(kg/mm^2)、C:冷却勾配(℃/m)、p:浮揚支持ピッチ(m)、E:ヤング率(kg/mm^2) - 特許庁

In the exhaust gas cleaning filter 1, when the thickness of the partition wall 2 of the base material 20 is assumed to be t mm and the cell pitch p mm, t and p are in the following relations: 0.35≤t≤0.51, 1.6≤p≤1.8, and t/p^2 ≥0.03.例文帳に追加

排ガス浄化フィルタ1においては、基材20の多孔質隔壁2の厚さをt(mm)、セルピッチをp(mm)とした場合、0.35≦t≦0.51、1.6≦p≦1.8、t/p^2≧0.03の関係にある。 - 特許庁

In step (2), a slide face temperature T is estimated from Vc, a slide face pressure P, a slide linear velocity V, a low resin flow temperature Tm and an ambient temperature Tr by Equation (i): T=(V/Vc)×(Tm-23)+Tr.例文帳に追加

(2)Vc、摺動面圧P、滑り線速度V、低樹脂流動温度Tm、雰囲気温度Trから、摺動面温度Tを式(i):T=(V/Vc)×(Tm-23)+Trにより推算する。 - 特許庁

The thickness (t) of the low refractive index layer 142 satisfies 1/3×P≤t≤2×P, where P is the lens pitch of the unit lens 141.例文帳に追加

単位レンズ141のレンズピッチをPとすると、低屈折率層142の厚さtは、1/3×P≦t≦2×Pを満足する。 - 特許庁

Formula 2: 3.6×(P+30)/100≤D≤5.2×(P+65)/100 and formula 3: 0.013×P≤t≤0.36×D.例文帳に追加

式2 : 3.6×(P+30)/100≦ D ≦5.2×(P+65)/100 式3 : 0.013×P≦ t ≦ 0.36×D - 特許庁

DWTTslp=2.3×10^-5×D^2.3×t^-1×P^2 ... (A), wherein D is the steel pipe outer diameter (mm), t is the thickness (mm), and P is the using pressure (MPa).例文帳に追加

DWTTslp=2.3×10^-5×D^2.3×t^-1×P^2・・・(A) ここで、D:鋼管外径(mm)、t:肉厚(mm)、P:使用圧力(MPa) - 特許庁

例文

At this time, the washing is preferably executed under such conditions under which p×t attains a range of 2,000 to 15,000 when the pressure of the pad is defined as p (g/cm2) and the washing time as t (sec).例文帳に追加

このとき、パッドの圧力をp(g/cm^2) 、洗浄時間をt(sec) としたとき、p×tが2000〜15000の範囲となる条件が望ましい。 - 特許庁

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Weblio専門用語対訳辞書での「p T 2」の意味

Pt2

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「p T 2」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 86



例文

ε=0.0285×Q×(T/Mlog{1+(Z/148)×(1.013×10^5/P)}...(1), S=ε×t...(2).例文帳に追加

ε=0.0285×Q×(T/W)×log(1+(Z/148)×(1.013×10^5/P)) ・・(1) S=ε × t ・・(2) - 特許庁

When the axial member 2 is pressed to the thrust abutment T, the convex 7b11 of the thrust abutment T is elastically deformed and the axial member 2 contacts the stopper P.例文帳に追加

軸部材2がスラスト受け面Tに押し付けられると、スラスト受け面Tの凸部7b11が弾性変形し、軸部材2がストッパ部Pと接触する。 - 特許庁

Here, 1×10^-5≤P(Pa)≤5×10^-4 (1), and 100≤T(°C)≤300 (2), where P represents a back pressure of the sputter film formation, and T represents annealing temperature of the annealing processing.例文帳に追加

1×10^−5≦P(Pa)≦5×10^−4 ・・・(1)、 100≦T(℃)≦300 ・・・(2) (式中、Pは前記スパッタ成膜における背圧,Tは前記アニール処理におけるアニール温度) - 特許庁

p-t-Amyloxystyrene is produced by reacting a p-halophenol with 2-methyl-1-butene and/or 2-methyl-2-butene, preparing a Grignard reagent from the obtained p-t-amyloxyhalobenzene and reacting the reagent with a vinyl halide in the presence of a catalyst.例文帳に追加

p−ハロフェノールを2−メチル−1−ブテン又は/及び2−メチル−2−ブテンと反応させて得られたp−第三級−アミルオキシハロベンゼンからグリニャール試薬を調製し、これを触媒存在下ビニルハライドと反応させp−第三級−アミルオキシスチレンを製造する。 - 特許庁

The fitting tool P is constituted of a sleeve 1 to be put through the through-hole h of the stool T and a shaft 2.例文帳に追加

取付具Pは、便器Tの貫通孔hに挿通されるスリーブ1とシャフト2とから構成される。 - 特許庁

A table T in which various findings are related to image processing parameters P is stored in a storage means 2.例文帳に追加

種々の所見と画像処理パラメータPとを対応付けたテーブルTを記憶手段2に記憶しておく。 - 特許庁

Formulas (1) to (3) are: 0.8≤L/M (mole ratio)≤1.8 (1), 0.05≤T/C (weight ratio)≤0.50 (2) and 0.5≤M/P (mole ratio)≤3.0 (3).例文帳に追加

0.8≦L/M(モル比)≦1.8 (1) 0.05≦T/C(重量比)≦0.50 (2) 0.5≦M/P(モル比)≦3.0 (3) - 特許庁

例文

In the inkjet head of the inkjet printer, a channel width B of a second liquid storing section, a channel width W of a substrate part, and a thickness t of the substrate satisfy a following relationship: t=(W/2)×p, where 0.1≤p≤10.例文帳に追加

液体第2貯蔵部の流路幅Bと基板部の流路幅Wと基板の厚さtとの関係にて、t=(W/2)×pただし0.1≦p≦10を満たすようにする。 - 特許庁

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