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phase defectsとは 意味・読み方・使い方
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「phase defects」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 75件
To accurately detect defects or classify defects with respect to inspecting defects in a halftone phase shift mask.例文帳に追加
ハーフトーン型の位相シフトマスクの欠陥検査に対して、欠陥検出や欠陥分類をより的確に行えるようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mask blank substrate for decreasing minute projection defects resulting in phase defects or decreasing minute recess defects which induce decrease in transmitted light quantity.例文帳に追加
位相欠陥となる微小な凸欠陥や、透過光量の低下を引き起こす微小な凹欠陥を低減できるマスクブランク用基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加
遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁
To surely discriminate a three-phase short circuit accident or a two- phase short circuit accident, eliminating the defects of a conventional method of detecting the short circuit accident of a heavy load power system from the current with reverse phase.例文帳に追加
重負荷電力系統の短絡事故を逆相分電流から検出するのでは、３相短絡事故や２相短絡事故を確実に判別できない。 - 特許庁
To provide a retardation substrate, including a phase difference layer, which hardly causes alignment defects, and has uniform phase difference and excellent film thickness.例文帳に追加
配向欠陥が発生しにくく、均一な位相差を有し、膜厚の均一性に優れた位相差層を備えたリターデイション基板を提供する。 - 特許庁
To provide various methods which eliminate printable alternate phase shift defects from an alternate phase shift mask without the need for using a trim mask.例文帳に追加
トリム・マスクを使用する必要なしに交互位相シフト・マスクから印刷可能交互位相シフト欠陥をなくす様々な方法を提供すること。 - 特許庁
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「phase defects」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 75件
To provide a phase difference defect inspection device which easily discriminates and detects the residual defect of a phase shifter and the surface flaw defect of a glass substrate from another defects, such as foreign matter (light shielding) defects.例文帳に追加
位相シフターの残存欠陥及びガラス基板の表面傷欠陥を異物（遮光）欠陥等の他の欠陥と区別して検出することを簡便に行なう位相差欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a Levenson type phase shift mask having excellent resolution and free of defects.例文帳に追加
解像性に優れた欠陥のないレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a photoresist capable of phase conversion of a surface by which occurrence of defects on a semiconductor substrate is prevented.例文帳に追加
半導体基板の欠陥が発生することを防ぐ表面の交換が可能なフォトレジストを提供する。 - 特許庁
A phase-change substance layer pattern, which the HARS is fully filled through an in-situ reflow mechanism without defects, is formed.例文帳に追加
インサイチュリフローメカニズムを通じてＨＡＲＳを欠陥なく充分に満たす相変化物質層パターンを形成する。 - 特許庁
Consequently, the densities of crystal defects in the vicinities of the recesses 11 after the metal organic vapor phase epitaxy is performed can be reduced.例文帳に追加
その結果、有機金属気相成長後の凹部１１の近傍の結晶欠陥密度を低減することができる。 - 特許庁
By heat treating the sintered body at 685°C or lower after sintered, a planar structure (lattice defects) in the sintered phase is reduced.例文帳に追加
焼結後、６８５℃以下で焼結体を熱処理することで、焼結相中の板状組織（格子欠陥）を減少させる。 - 特許庁
To provide a method for producing a Levenson type phase shift mask having excellent balance of quantity of transmitted light and free of defects.例文帳に追加
透過光量バランスに優れた欠陥のないレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a halftone phase shift mask blank having small unevenness in transmittance, few defects and stable quality.例文帳に追加
透過率のバラツキが小さく、低欠陥である品質の安定したハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁
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