photo absorptionとは 意味・読み方・使い方

To provide a silver halide photo-material having desirable absorption and sensitivity waveform, being not only high in sensitivity but also less in residual color than conventional multi-layer absorption, and a methine coloring matter usable to the silver halide photo-material.例文帳に追加

所望の吸収及び感度波形をもち、高感度であるばかりでなく、これまでの多層吸着より、残色も少ないハロゲン化銀写真材料及び該ハロゲン化銀写真材料に有用なメチン色素を提供する。 - 特許庁

The photo sensor comprises a photo sensing mechanism having one or more absorption wavelengths and a quantum well-structured light absorption layer 3 added for absorbing lights in a specified wavelength range as a band-cut filter.例文帳に追加

1 つ以上の吸収波長をもつ光検知機構を設けるとともに、バンドカットフィルタとして所定波長域の光を吸収する量子井戸構造光吸収層３を付加する。 - 特許庁

The method for producing the photo-curing resin molding uses the photo-curable resin composition comprising a first resin layer and a second resin layer covering the first resin layer and having different absorption wavelength range from the absorption wavelength range of the first resin layer.例文帳に追加

特に穴部に充填した場合に穴の底部分との間に隙間が少なく、接着強度の強い光硬化性樹脂成形物の製造方法および歯科用充填物の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this way, photo-fabrication which enables fine structure fabrication by the two photon absorption photo-fabrication method can be materialized while high speed treatment by the ultraviolet irradiation photo-fabrication method is materialized.例文帳に追加

これにより、紫外線照射光造形法による高速処理を実現しつつ２光子吸収光造形法による微細構造造形を可能とする光造形を実現することができる。 - 特許庁

The electromagnetic field sensor (S1) includes a photo-application electromagnetic field sensor (4) and a first radio wave absorption block 11, bonded to the photo-application electromagnetic field sensor (4), on a surface (Pv) perpendicular to the measurement direction (Ax) of the photo-application electromagnetic field sensor (4).例文帳に追加

電磁界センサ（Ｓ１）は、光応用電磁界センサ（４）と、光応用電磁界センサ（４）の測定方向（Ａｘ）に垂直な面（Ｐｖ）で光応用電磁界センサ（４）に接着された第１電波吸収ブロック１１とを備える。 - 特許庁

A photocurable resin 42, after rough photo-fabrication is done by an ultraviolet irradiation photo-fabrication method by radiating laser beams from the first light source 12, is subjected successively to fine photo-fabrication by a two photon absorption photo-fabrication method by radiating laser beams from the second light source 14.例文帳に追加

光硬化性樹脂４２へ、第１光源１２からのレーザビームの射出によって紫外線照射光造形法による粗い光造形を実施した後に、第２光源１４からのレーザビームを射出によって２光子吸収光造形法による微細な光造形を連続して行う。 - 特許庁

The intrinsic semiconductor 16 is made of InGaAsP in order to control the absorption coefficient of the absorption layer, for the purpose of increasing a light- absorption region in the intrinsic semiconductor layer 16 in the depth direction from a photo-detecting edge 20.例文帳に追加

真性半導体層１６による光の吸収領域についての受光端面２０からの深さ方向への増大を図るべく、吸収層の吸収係数を制御するために前記真性半導体層１６がInGaAsPから成る。 - 特許庁

The method for producing the photo-fabrication product includes a process for producing the photo-fabricated cured body 2 by irradiating a photo-curable resin and a process in which an absorption body 4 having a property to absorb liquid by a capillary phenomenon is contacted with the photo-fabricated cured body 2 to make an uncured resin liquid 3 be absorbed by the absorption body 4.例文帳に追加

光硬化性樹脂に光を照射することにより、光造形硬化体２を生成する工程と、前記光造形硬化体２に対し、毛細管現象により液体を吸収する性質を有する吸収体４を接触させ、当該吸収体に未硬化樹脂液３を吸収させる工程とを有する光造形物の製造方法。 - 特許庁