plasma applicationsとは 意味・読み方・使い方

To provide a cathode generally suitable for use in high-temperature plasma etching applications.例文帳に追加

本発明は概して高温プラズマエッチング応用例での使用に適したカソードである。 - 特許庁

To provide a shadow frame which is particularly useful in plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) applications used to make active matrix liquid crystal displays (AMLCDs) and solar cells.例文帳に追加

活性マトリックス型液晶ディスプレイ（AMLCD）および太陽電池の作成に使用される、プラズマ強化型化学気相堆積（PECVD）用途において特に有用なシャドウフレームを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma enhanced CVD system which can deal with applications of an in-line type and can satisfactorily treat even a large-sized object to be treated at a low cost.例文帳に追加

インライン型の用途に対応することができ、しかも大型の被処理物をも良好に処理することができるプラズマＣＶＤ装置を低コストで提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic neutralline discharge plasma treatment device in which a metal such as opaque steel can be used without using a magnetic wall in the vacuum chamber, while generating a low voltage and low temperature high density plasma and maintaining time-space and spatial control concerning the size and the location of the generated plasma, and which is of low cost and has wide applications.例文帳に追加

低圧で低温高密度のプラズマ生成及び生成するプラズマの大きさと位置に関する時空間的・空間的制御性を維持しながら、真空チャンバに磁性壁を用いずに不透鋼などの金属を用いることができる低コストで応用範囲の広い磁気中性線放電プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Uniformity in etching characteristics and plasma processing are improved in various applications by appropriately selecting the optimal combination of two DC voltages V_C, V_E.例文帳に追加

これらの２つの直流電圧Ｖ_C，Ｖ_Eの組み合わせを適宜選択することにより、種種のアプリケーションにおいてプラズマプロセスやエッチング特性の均一性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide an RF power source system which remarkably reduces user costs, also improves reliability and satisfies different applications, technical processes and the like, and to provide a plasma chamber using the RF power source system.例文帳に追加

ユーザーのコストを大幅に節減すると共に、信頼性も高まり、異なるアプリケーションや技術工程を満足させるＲＦパワーソースシステムと該ＲＦパワーソースシステムを使用するプラズマチェンバーの提供。 - 特許庁

The deposition and plasma treatment steps may be repeated for additional cycles to form a thick, composite titanium nitride film of desired thickness, which is suitable for use in plug fill or capacitor structure applications.例文帳に追加

堆積及びプラズマ処理ステップは、プラグ充填あるいはキャパシタ構造アプリケーションに使用するのに適切な所望の厚さの厚い複合窒化チタン膜を形成するために、追加のサイクルに対して繰り返すことができる。 - 特許庁