plating rateとは 意味・読み方・使い方

At the electroless nickel plating step, such an electroless nickel plating condition that the deposition rate of nickel is low is adopted.例文帳に追加

そして、無電解ニッケルめっき工程では、ニッケルの沈着速度が遅い無電解ニッケルめっき条件を採用する。 - 特許庁

To provide a plating apparatus where the flow rate of a plating liquid flowing through a plating tank can be increased, and the plating liquid can be caused to flow in parallel to the plane of a substrate and also in one direction.例文帳に追加

めっき槽に流れるめっき液の流れの速度を速くすると共に、めっき液を基板の平面と平行に且つ一方向に流すことが可能なめっき装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an alkaline electrogalvanizing bath giving a high plating deposition rate and excellent leveling properties and to provide a plating method.例文帳に追加

早いめっき析出速度と優れたレベリング性を与えるアルカリ性電気亜鉛めっき浴およびめっき方法を提供する。 - 特許庁

To provide nickel plating solution which produces an acceptable nickel deposit over an extended period of time at a high plating rate.例文帳に追加

長期間にわたりかつ高いめっき速度で、良好なニッケル析出を生成する、ニッケルめっき溶液を提供すること。 - 特許庁

On the production, when the plating bath does not contain Ti or the like, preferably, cooling is performed at a cooling rate of ≥15°C/sec till the plating film is perfectly solidified after the plating.例文帳に追加

製造時はめっき浴がＴi などを含有しない場合は、めっき後めっき皮膜が完全凝固するまで１５℃／秒以上の冷却速度で冷却するのがよい。 - 特許庁

To provide a plating method where the dissolution of a plating seed film is suppressed, and also, the improvement of a plating rate can be realized by a simple means upon electroplating.例文帳に追加

めっき方法に関し、電解めっきを実施するに際し、めっきシード膜の溶解を抑止し、且つ、めっきレートの向上を簡単な手段で実現できるようにする。 - 特許庁

To provide an anode material for solder plating, which stabilizes a dissolution rate in a short time.例文帳に追加

短時間で溶解速度が安定化するはんだめっき用アノード材を提供する。 - 特許庁

In the stage where the electroless plating liquid is fed, the formation of the plating film is not performed, or, even if it is performed, the film forming rate therein is low.例文帳に追加

無電解メッキ液を供給した段階ではメッキ膜の形成が行われないか、行われてもその膜形成の速度が小さい。 - 特許庁