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意味・対訳 めっき速度


JST科学技術用語日英対訳辞書での「plating rate」の意味

plating rate


「plating rate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 110



例文

To increase a plating rate in electroless plating, and to prolong the lifetime of a plating solution.例文帳に追加

無電解めっきにおいてめっき速度を上げると共に、めっき液の長寿命化を図る。 - 特許庁

To improve the plating rate in an electroless nickel plating method using hydrazine as a reducing agent.例文帳に追加

ヒドラジンを還元剤として用いた無電解ニッケルめっき方法において、めっき速度を向上させる。 - 特許庁

To provide an electroless palladium plating bath in which a plating deposition rate is not remarkably reduced even if predetermined days are passed after the initial bath makeup, and an almost fixed plating deposition rate is retained over a long period, and to provide an electroless palladium plating method.例文帳に追加

建浴後、所定日数が経過してもめっき析出速度が著しく低下せず、長期に亘ってほぼ一定のめっき析出速度を維持する無電解パラジウムめっき浴及び無電解パラジウムめっき方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroless nickel plating method where zinc in a nickel strike plating liquid is efficiently recovered, and the service life of the nickel strike plating liquid can be elongated while maintaining a high plating rate and high plating quality.例文帳に追加

ニッケルストライクめっき液中の亜鉛を効率よく回収して、高いめっき速度およびめっき品質を維持しつつ、ニッケルストライクめっき液の寿命を延ばすことができる無電解ニッケルめっき方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electroless plating method with which the forming rate of a plating layer can be remarkably improved, and further, the plating layer can be selectively formed only on a plating region in the material to be plated uniformly at high precision.例文帳に追加

めっき層の形成速度を著しく向上させることができると共に、被めっき材のめっき領域のみに、ムラなく、均一に精度よくめっき層を選択的に形成することができる無電解めっき方法を提供する。 - 特許庁

To easily execute the control of plating conditions such as a plating rate, plating film thickness, the smoothening and homogenizing of the surface of a plating film or the like without requiring large electrolyzing equipment.例文帳に追加

大型電解設備を必要とせず、めっき速度、めっき膜厚、めっき膜表面の平滑化と均質化などのめっき条件の制御を容易に行う。 - 特許庁

例文

To improve a working accuracy and a positional accuracy of a power feeding pin to contribute to efficiently automate one series of processes of hanging material to be treated on a plating rack, a plating the material and removal the material from the plating rack and to reduce the incidence rate of non-plating portion.例文帳に追加

給電ピンの加工精度と位置精度を向上させ、めっき引掛け、めっき及びめっき外しの一連の工程を効率良く自動化することに寄与すると共に、めっき未着部分の発生率を低減することを目的とする。 - 特許庁

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「plating rate」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 110



例文

To provide a plating apparatus where the flow rate of a plating liquid flowing through a plating tank can be increased, and the plating liquid can be caused to flow in parallel to the plane of a substrate and also in one direction.例文帳に追加

めっき槽に流れるめっき液の流れの速度を速くすると共に、めっき液を基板の平面と平行に且つ一方向に流すことが可能なめっき装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

On the surface of the nickel plating layer, a plurality of Au-Ag plating layers having different rate of Ag is formed such that the rate of Ag increases from the basic material side toward the surface side thus forming a multilayer Au-Ag plating layer.例文帳に追加

そして、該ニッケルめっき層の表面に、Agの割合が異なる複数のAu−Agめっき層を、基材側から表面側にかけてAgの割合が増加するように積層し、多層Au−Agめっき層を形成する。 - 特許庁

To provide nickel plating solution which produces an acceptable nickel deposit over an extended period of time at a high plating rate.例文帳に追加

長期間にわたりかつ高いめっき速度で、良好なニッケル析出を生成する、ニッケルめっき溶液を提供すること。 - 特許庁

To obtain an electroless plating method which is capable of making a deposition rate of plating films uniform in necessary positions.例文帳に追加

必要な位置におけるメッキ膜の成膜速度を均一にすることができる無電解メッキ方法を得る。 - 特許庁

To provide an alkaline electrogalvanizing bath giving a high plating deposition rate and excellent leveling properties and to provide a plating method.例文帳に追加

早いめっき析出速度と優れたレベリング性を与えるアルカリ性電気亜鉛めっき浴およびめっき方法を提供する。 - 特許庁

In the stage where the electroless plating liquid is fed, the formation of the plating film is not performed, or, even if it is performed, the film forming rate therein is low.例文帳に追加

無電解メッキ液を供給した段階ではメッキ膜の形成が行われないか、行われてもその膜形成の速度が小さい。 - 特許庁

A flow rate control valve 29 is opened to supply ozone to the plating bath 10 and to dissolve the zone in the plating liquid 12.例文帳に追加

さらに、流量制御弁29を開いてメッキ浴10にオゾンを供給し、メッキ液12にオゾンを溶解する。 - 特許庁

例文

At the electroless nickel plating step, such an electroless nickel plating condition that the deposition rate of nickel is low is adopted.例文帳に追加

そして、無電解ニッケルめっき工程では、ニッケルの沈着速度が遅い無電解ニッケルめっき条件を採用する。 - 特許庁

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