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日英・英日専門用語辞書での「plating range」の意味

plating range


「plating range」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 109



例文

To provide a tin/copper alloy plating bath capable of depositing bright plating film in a current density region in a wide range.例文帳に追加

広範囲の電流密度領域において光沢めっき皮膜を形成できる錫/銅合金めっき浴を提供する。 - 特許庁

Preferably, the Ni-B plating film constituting the first plating layer 18 has a percentage content of B in the range of 0.1-6 wt%.例文帳に追加

好ましくは、第1のめっき層18を構成するNi−Bめっき膜のB含有率は、0.1〜6重量%である。 - 特許庁

The outermost circumferential chromium plating layer 3B is thicker than each chromium plating layer 3a or the like composing the laminated plating 3A, and the thickness of the outermost circumferential chromium plating layer 3B is within the range of 1 to 80 μm.例文帳に追加

ここで、最外周クロムメッキ層3Bは、積層メッキ3Aを構成する各クロムメッキ層3a等と比較して厚さが厚く、かつ、最外周クロムメッキ層3Bの厚さは1μm乃至80μmの範囲内である。 - 特許庁

To provide a mask for partial plating with which plating solution does not leak to a portion except the plating range needed to be plated in a lead frame 1 and a wire bonding area is secured.例文帳に追加

リードフレーム1のめっきが必要なめっき領域以外にめっきが付かないようめっき液を漏らさない構造の部分めっき用マスクを形成し、めっき位置精度を上げる。 - 特許庁

The metallic layers are preferably in a range of Vickers hardness of 200 to 250 rendered by plating.例文帳に追加

前記金属層は、メッキにより行なわれる200〜250ビッカース硬度の範囲が好適である。 - 特許庁

The plating layer is formed on the surface of the first metal layer in the range not covered with the insulating layer.例文帳に追加

メッキ層は、絶縁層に覆われていない範囲の第1金属層の表面に形成されている。 - 特許庁

例文

The stock is produced through a hot rolling stage, a cold rolling stage, reduction heating and a hot dip plating stage, and, in the reduction heating prior to the hot dip plating, heating temperature is set to the range of 800 to 900°C, and cooling velocity is set to the range of 10 to 50°C/s.例文帳に追加

熱延工程,冷延工程,還元加熱,溶融めっきの工程を経て製造されが、溶融めっきに先立つ還元加熱では、加熱温度を800〜900℃,冷却速度を10〜50℃/秒の範囲に設定する。 - 特許庁

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「plating range」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 109



例文

To inhibit precipitation during storage and use of an Au-Sn alloy plating solution to retain a constant composition of a plating film and to obtain a wide range of a film thickness.例文帳に追加

Au−Sn合金めっき液の保存時、使用時の沈殿を防止し、めっき皮膜の組成を一定に保持すると共に、広範な膜厚に対応可能にする。 - 特許庁

Such plating bath deposits a metal layer, particularly a copper layer, that is substantially planar across a range of electrolyte concentrations.例文帳に追加

かかるメッキ浴は、電解質濃度の範囲に亘って実質的に平坦である金属層、特に銅層を堆積する。 - 特許庁

In such a method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, at least any one of copper, nickel, chromium, zinc, silver and gold is employed in the plating and the thickness of the plating layer is preferably in the range of 0.1-10 μm.例文帳に追加

メッキ処理において、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀、及び、金の少なくともいずれかを用いる態様、メッキ層の厚みが、0.1〜10μmである態様等が好ましい。 - 特許庁

Further, a pH buffering agent is incorporated into the nickel plating solution to obtain a stable nickel plating solution in which the precipitate of nickel hydroxide hardly occurs although it has a pH within the neutral range.例文帳に追加

更に、当該ニッケルめっき液にpH緩衝剤を含有させれば、中性領域にありながら、水酸化ニッケルの沈殿が生成しにくい、安定したニッケルめっき液となる。 - 特許庁

To provide a method of controlling an electroless nickel plating solution by which the content of sulfur compounds in an electroless nickel plating solution can be controlled within an optional range with a simple means, and stable performances can be maintained over a long period as to the precipitation properties of the electroless nickel plating solution and the appearance of a plating film.例文帳に追加

無電解ニッケルめっき液中のイオウ化合物量を簡単な手段によって適正な範囲内に管理することができ、無電解ニッケルめっき液の析出性やめっき皮膜の外観等について、安定した性能を長期間維持することが可能な無電解ニッケルめっき液の管理方法を提供する。 - 特許庁

The hot-dip galvannealed steel sheet is prepared, which has a plating layer in which the Fe content is in a range of 3-20 mass%.例文帳に追加

Fe含有量が3〜20質量%の範囲内のめっき層を有する合金化溶融亜鉛めっき鋼板を準備する。 - 特許庁

The entire area which is heated to the temperature of the evaporation of the plating before completing the annular welding is defined as a heat-affected range 30.例文帳に追加

環状の溶接が終了する前にメッキが蒸発する温度まで加熱される全域を熱影響範囲30とする。 - 特許庁

例文

A ball pad 7 and a plating stub 6 are formed so that they indicate a capacitive property within a desired frequency range, and the formation range of a signal line 4 for composing a micro strip line is limited to a range that is subjected to the electrical influence of the ball pad 7 and the plating stub 6, thus forming a desired uniform impedance line.例文帳に追加

ボールパッド7、めっきスタブ6を、所望周波数範囲で容量性を示すように形成し、マイクロストリップ線路を構成する信号線4の形成範囲を、ボールパッド7、めっきスタブ6の電気的影響がおよぶ範囲内に限定することにより、所望の均一なインピーダンス線路を形成することができる。 - 特許庁

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