「plating range」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The plating layer is formed on the surface of the first metal layer in the range not covered with the insulating layer.例文帳に追加

メッキ層は、絶縁層に覆われていない範囲の第１金属層の表面に形成されている。 - 特許庁

The stock is produced through a hot rolling stage, a cold rolling stage, reduction heating and a hot dip plating stage, and, in the reduction heating prior to the hot dip plating, heating temperature is set to the range of 800 to 900°C, and cooling velocity is set to the range of 10 to 50°C/s.例文帳に追加

熱延工程，冷延工程，還元加熱，溶融めっきの工程を経て製造されが、溶融めっきに先立つ還元加熱では、加熱温度を800〜900℃，冷却速度を10〜50℃／秒の範囲に設定する。 - 特許庁

To inhibit precipitation during storage and use of an Au-Sn alloy plating solution to retain a constant composition of a plating film and to obtain a wide range of a film thickness.例文帳に追加

Ａｕ−Ｓｎ合金めっき液の保存時、使用時の沈殿を防止し、めっき皮膜の組成を一定に保持すると共に、広範な膜厚に対応可能にする。 - 特許庁

Such plating bath deposits a metal layer, particularly a copper layer, that is substantially planar across a range of electrolyte concentrations.例文帳に追加

かかるメッキ浴は、電解質濃度の範囲に亘って実質的に平坦である金属層、特に銅層を堆積する。 - 特許庁

In such a method for producing an electromagnetic wave shielding light transmitting window material, at least any one of copper, nickel, chromium, zinc, silver and gold is employed in the plating and the thickness of the plating layer is preferably in the range of 0.1-10 μm.例文帳に追加

メッキ処理において、銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀、及び、金の少なくともいずれかを用いる態様、メッキ層の厚みが、０．１〜１０μｍである態様等が好ましい。 - 特許庁

Further, a pH buffering agent is incorporated into the nickel plating solution to obtain a stable nickel plating solution in which the precipitate of nickel hydroxide hardly occurs although it has a pH within the neutral range.例文帳に追加

更に、当該ニッケルめっき液にｐＨ緩衝剤を含有させれば、中性領域にありながら、水酸化ニッケルの沈殿が生成しにくい、安定したニッケルめっき液となる。 - 特許庁

To provide a method of controlling an electroless nickel plating solution by which the content of sulfur compounds in an electroless nickel plating solution can be controlled within an optional range with a simple means, and stable performances can be maintained over a long period as to the precipitation properties of the electroless nickel plating solution and the appearance of a plating film.例文帳に追加

無電解ニッケルめっき液中のイオウ化合物量を簡単な手段によって適正な範囲内に管理することができ、無電解ニッケルめっき液の析出性やめっき皮膜の外観等について、安定した性能を長期間維持することが可能な無電解ニッケルめっき液の管理方法を提供する。 - 特許庁

The hot-dip galvannealed steel sheet is prepared, which has a plating layer in which the Fe content is in a range of 3-20 mass%.例文帳に追加

Ｆｅ含有量が３〜２０質量％の範囲内のめっき層を有する合金化溶融亜鉛めっき鋼板を準備する。 - 特許庁

The entire area which is heated to the temperature of the evaporation of the plating before completing the annular welding is defined as a heat-affected range 30.例文帳に追加

環状の溶接が終了する前にメッキが蒸発する温度まで加熱される全域を熱影響範囲３０とする。 - 特許庁

A ball pad 7 and a plating stub 6 are formed so that they indicate a capacitive property within a desired frequency range, and the formation range of a signal line 4 for composing a micro strip line is limited to a range that is subjected to the electrical influence of the ball pad 7 and the plating stub 6, thus forming a desired uniform impedance line.例文帳に追加

ボールパッド７、めっきスタブ６を、所望周波数範囲で容量性を示すように形成し、マイクロストリップ線路を構成する信号線４の形成範囲を、ボールパッド７、めっきスタブ６の電気的影響がおよぶ範囲内に限定することにより、所望の均一なインピーダンス線路を形成することができる。 - 特許庁

To provide a plating liquid providing a plating film having little cracks, excellent corrosion resistance, high hardness, excellent wear resistance and a smooth, dense, glossy appearance at current density in a wide range.例文帳に追加

広範囲な電流密度において、クラックが少なく、耐食性に優れ、硬度が高く、耐摩耗性が優れ、平滑で緻密な光沢外観を有するめっき皮膜を与えるめっき液を提供すること。 - 特許庁

To provide a plating bath which can enhance the uniformity and the like of a plated film in a wide range of current density, impart an adequate appearance and soldering characteristics to the plated film, and prevent the aggregation among electroconductive media and among articles to be plated, in a barrel-plating process.例文帳に追加

広い電流密度範囲での均一性等の向上と、良好な皮膜外観やハンダ付け性を達成し、バレルメッキに際して、導電性媒体や被メッキ物同士の凝集を防止する。 - 特許庁

In this steel cord obtained by twisting a plurality of filaments subjected to a brass plating and used in an inert gas packed tire, the average thickness of the brass plating of the filaments is in the range of 130-180 nm.例文帳に追加

ブラスめっきを施したフィラメントの複数本を撚り合わせた、不活性ガス充填タイヤに用いるスチールコードにおいて、該フィラメントのブラスめっきの平均厚さを１３０〜１８０ｎｍの範囲とする。 - 特許庁

The electrolytic copper plating is carried out first, at a low- current density of 1.5 A/dm^2 or lower in an allowable current range of plating bath and thereafter the remaining plating is carried out at a higher current density (for example, 3A/dm^2).例文帳に追加

前記電解銅メッキを行う際に、先ず電流密度がメッキ浴の許容電流範囲における１．５Ａ／ｄｍ^2以下の低電流密度で行って、膜厚１μｍ以上を析出させた後、残りのメッキをそれより高い電流密度（例えば、３Ａ／ｄｍ^2）で行う。 - 特許庁

The method for keeping the concentration of trivalent chromium in the plating bath into the proper range (1 to 5 g/l) comprises: using an insoluble anode formed of a metallic base substance containing titanium coated with a platinum group metal, as the anode in the chromium-plating bath; and adding silver (I) ions into the plating bath.例文帳に追加

クロムめっき浴中における陽極として、チタンを含む金属基体上に白金族金属を被覆した不溶性電極を使用し、めっき浴中に銀(I)イオンを添加することにより、めっき浴中の３価クロム濃度を適正範囲（1〜5 g/l）に維持できる。 - 特許庁

The thickness of the metal layer should preferably range between 0.1 and 5 μm, and it is preferable that the layer is formed by plating.例文帳に追加

また金属層の層厚は０．１〜５μｍの範囲が好ましく、さらには金属層はメッキにより形成されたものであるのがよい。 - 特許庁

On a low thermal resistance Cu or CuW heat sink 1, a Ni film layer in the range of 2-6 μm is formed by plating.例文帳に追加

熱抵抗の小さいCuまたはCuWからなるヒートシンク１上にメッキ法によりNi薄膜層を２μm以上６μm以下の膜厚で形成する。 - 特許庁

At this time, the temp. of the composite-plating liquid 50 in the composite-plating liquid vessel 36 is kept constant by the action of a heater 60 and a cooler 70 and the pH of the composite-plating liquid 50 is kept in a fixed range by a pH controller 76 under the detecting action of a pH sensor 66.例文帳に追加

そのとき、複合めっき液貯留槽３６内では、ヒータ６０と冷却器７０の作用下に温度が一定の範囲に保持され、かつ、ｐＨセンサ６６の検出作用下にｐＨコントローラ７６は複合めっき液５０のｐＨ値を一定の範囲に保持する。 - 特許庁

The gold plating bump has a hardness in the range of 70-100 Hv and thermosonic bonding is performed between the gold plating bump of the semiconductor device and the bonding electrode of a mounting board such that the amount of flattening is at least 6 μm and about 1/2.例文帳に追加

金メッキバンプの硬度を７０Ｈｖ〜１００Ｈｖとし、少なくとも６μｍで且つ略１／２の潰れ量となるように、半導体素子の金メッキバンプを実装基板の接合電極に超音波熱圧着する。 - 特許庁

To detect a concentration of chloride ion of a trace amount in real time, and to maintain a plating solution containing the low concentration of chloride ion within a specified concentration range, when controlling the concentration of chloride ion in the plating solution.例文帳に追加

めっき液の塩化物イオン濃度を管理する場合において、微量の塩化物イオン濃度をリアルタイムに検出し、低濃度の塩化物イオンを含むめっき液を規定濃度範囲に維持することを可能とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a hot-dip metal-plated steel sheet superior in a surface quality, in plating with a multicomponent metal having a wide range of a solidification temperature.例文帳に追加

凝固温度範囲の広い多成分系の金属めっきにおいて、表面性状に優れた溶融金属めっき鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this way, the range requiring plating including a forming face 13 in the die base material 10 is exposed from the opening part 31 provided at the masking member 12 to the outside.例文帳に追加

これにより、金型基材１０のうちの成形面１３を含むめっき必要範囲は、マスキング部材１２に設けた開口部３１から外部に露呈する。 - 特許庁

Especially the thickness of the gold plating to coat the Ni conductive particle surface is set in the range of 0.001 μm-1 μm.例文帳に追加

特に、該Ｎｉ導電粒子表面を被覆する金めっきの膜厚が、０．００１μｍ〜１μｍの範囲である異方性導電接着剤である。 - 特許庁

Within a range partitioned by a partitioning section 15 on an inner surface of a first member 11, an antenna element 16 constituted of a conductor is provided by plating or sticking.例文帳に追加

第１部材１１の内面の仕切り部１５によって仕切られた範囲に、導体からなるアンテナ素子１６がめっき又は貼付されて設けられる。 - 特許庁

The semiconductor process uses a plating bath of morpholine borane which provides higher thermal stability and range, allowing for greater compatibility with low k dielectric material.例文帳に追加

ｌｏｗ ｋ絶縁物質とのより優れた適合を可能にする、高い熱的安定度及び範囲を備えたモルホリンボランめっき浴を使用する。 - 特許庁

This method comprises employing a carbon steel or a low alloy steel of which the quantities of S and C are limited to a fixed range, Cr plating and Ni plating on its surface, and then heat treating it to form a Cr-Ni-Fe alloy layer.例文帳に追加

Ｃ量およびＳ量を一定範囲に限定した炭素鋼または低合金鋼炭素鋼の表面にＣｒめっきおよびＮｉめっきを施し、次いで熱処理をを施してＣｒ−Ｎｉ−Ｆｅ合金層を形成させる。 - 特許庁

In this method for manufacturing compound metal powder for powder metallurgy, chlorine is added to a plating solution when performing electroless plating of copper or copper alloy on metal powder other than copper powder, and the chlorine concentration is controlled in a range of ≤ 200 ppm.例文帳に追加

銅以外の金属粉に銅又は銅合金を無電解めっきする際に、めっき液に塩素を添加し、塩素濃度を２００ｐｐｍ以下の範囲で制御することを特徴とする粉末冶金用複合金属粉末の製造方法。 - 特許庁

By the use of malic acid or malate, the problem of environmental pollution is dissolved, further, the pH of the plating liquid is stabilized in the set range of 2.5 to 5.7, and further, in the range, the current efficiency in the plating treatment stage is stabilized at a high position, and the formation of a film of high quality is made possible.例文帳に追加

そのリンゴ酸またはリンゴ酸塩が使用されることによって、環境汚染の問題を解消すると共に、めっき液のｐＨが設定された２．５〜５．７の範囲で安定し、しかも、その範囲においてめっき処理工程での電流効率が高い位置で安定し、良質な皮膜の形成が可能になる。 - 特許庁

In a multilayer wiring board 11 for electronic component having a copper electroless plating film 23 on insulating resin layers 17, 21 and its producing method, mean surface roughness of the insulating resin layers 17, 21 is set in the range of 1.0-3.0 μm and mean specific resistivity of the copper electroless plating film 23 is set in the range of 7-20 μΩ.cm.例文帳に追加

絶縁樹脂層１７、２１に無電解銅めっき２３膜を有する電子部品用多層配線基板１１及びその製造方法において、絶縁樹脂層１７、２１の表面の平均粗化深度を１．０〜３．０μｍとし、無電解銅めっき２３膜の平均比抵抗を７〜２０μΩ・ｃｍとする。 - 特許庁

To provide a plating film which has high hardness in a wide temperature range between room temperature and a high-temperature region, is superior in slidability and toughness and can be formed at a high speed, and to provide a machine component of which the sliding part is coated with the plating film, has the high hardness in the wide temperature range and is superior in the slidability.例文帳に追加

室温から高温領域にわたる広い温度範囲において高い硬度を有し、摺動性および靭性に優れ、しかも高速で形成することができるめっき皮膜、および上記めっき皮膜で摺動部分を被覆した、広い温度範囲で硬度が高く、摺動特性に優れた機械部品を提供すること。 - 特許庁

In the mask for partial plating selectively coating the lead frame composed of a semiconductor element loading part and a lead part, the leakage of the plating solution to the side surface side can be prevented by forming an elastic material for covering the portion except the plating range of the semiconductor element loading part and the lead part.例文帳に追加

半導体素子搭載部およびリード部からなるリードフレームを選択的に被覆する部分めっき用マスクにおいて、半導体素子搭載部及びリード部のめっき領域以外の部分をカバーする弾性材をリード端部に向かって突出形状に形成することにより、側面側へのめっき液漏れを防ぐことができる。 - 特許庁

The plating bath is used for forming a plating film made of a copper alloy containing molybdenum on a body to be plated, and includes a copper ion feed source and a molybdenum ion feed source, wherein the molar ratio between the copper atoms and molybdenum atoms in the plating bath lies in the range of 12.6:87.4 to 0.5:99.5.例文帳に追加

被めっき体上にモリブデンを含有する銅合金からなるめっき膜を形成するために用いられるものであり、銅イオン供給源とモリブデンイオン供給源とを含み、めっき浴中の銅原子とモリブデン原子とのモル比が１２．６：８７．４〜０．５：９９．５の範囲であることを特徴とするめっき浴とする。 - 特許庁

To provide a copper-zinc alloy electroplating bath capable of forming a plating layer which has the target composition and is homogeneous and brilliant in a wide range of electric current density without using a cyan compound, and to provide a plating method using the copper-zinc alloy electroplating bath.例文帳に追加

シアン化合物を使用することなく、目的組成を有する均一で光沢のあるめっき層を広い電流密度範囲で形成することができる銅‐亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法を提供する。 - 特許庁

Because of including the compound (C), the plating bath can enhance the uniformity and smoothness of the film in the wide range of the current density, impart the superior appearance and soldering characteristics to the film, and prevent the aggregation among the electroconductive media, when having applied to a barrel-plating process.例文帳に追加

化合物(Ｃ)を含有するため、広い電流密度範囲で皮膜の均一性や平滑性を向上でき、皮膜外観やハンダ付け性に優れ、当該浴をバレルメッキに適用すると、導電性媒体同士の凝集を防止できる。 - 特許庁

To provide a copper-zinc alloy electroplating bath for forming a copper-zinc alloy plating layer having improved corrosion resistance and obtaining the copper-zinc alloy plating layer which has a target composition, is homogeneous and has glossiness over a wide range of electric current density.例文帳に追加

耐腐食性が向上した銅‐亜鉛合金めっき層を形成することができ、かつ、目的組成を有する均一で光沢のある銅‐亜鉛合金めっき層が幅広い電流密度で得ることができる銅‐亜鉛合金電気めっき浴を提供する。 - 特許庁

To provide a nickel plating solution in which an organic complexing agent is not used, which has a pH within the neutral range where ceramics and protection coat layers thereof are hardly eroded and with which the conventional productivity can be obtained, and to provide an electroplating method using the nickel plating solution.例文帳に追加

有機系錯化剤を使用せず、セラミックスやその保護コート層の浸食の少ない中性領域のｐＨを備え、従来通りの生産性が得られるニッケルめっき液、及び、そのニッケルめっき液を用いた電気ニッケルめっき方法を提供する。 - 特許庁

It is preferable that the Fe-concentration in the zinc-based plating layer is adjusted to be within the range of 0.6-5 mass% in order to produce such a hot dip galvanized steel sheet.例文帳に追加

このような亜鉛系溶融めっき鋼板とするためには、前記亜鉛系めっき層中のFe濃度を0.6質量％以上5質量％以下とするのが好ましい。 - 特許庁

The gold plating layer 13b is low in wettability with the sealing resin 20, so that the sealing resin 20 is restrained from flowing out of the sealing range even when it is excessively fed.例文帳に追加

金メッキ層１３ｂは、封止樹脂２０に対する濡れ性が低い為、注入された封止樹脂２０が過剰であっても封止範囲外への流出が抑制される。 - 特許庁

The entire range finally surrounded by a weld bead 22 is scanned by the laser beam L1 so as to be heated above the evaporation temperature of the plating before completing the annular welding.例文帳に追加

溶融ビード２２で最終的に囲まれる範囲全域が、環状の溶接が終了する前にメッキの蒸発温度以上に加熱されるように、レーザＬ１を走査する。 - 特許庁

To provide a method for keeping the concentration of trivalent chromium in a plating bath into a proper range, which becomes a problem when an insoluble anode mainly made from a platinum group element is used as a substitute for an electrode that is made from lead or a lead alloy and has been conventionally used as an anode for plating chromium.例文帳に追加

クロムめっき用陽極として従来使用されている鉛または鉛合金電極に替えて白金族系不溶性電極を用いる場合に問題となる、めっき浴中の３価クロム濃度を適正範囲に維持する方法を提案する。 - 特許庁

Further, glittering processing such as plating is applied to a rear side of the front case 2 to uniformly illuminate the operation buttons 6 thereby preventing a brightness range from taking place among the operation buttons 6.例文帳に追加

また、フロントケース２の裏面をめっきなどの光沢処理を施すことによって、各操作ボタン６を均一に照光させることにより、各操作ボタン６で明暗が生じるのを防止する。 - 特許庁

The temp. of the composite-plating liquid 50 is adjusted to 45-57°C by a temp. controller 68 and the pH is adjusted in the range of 1.7-2.7 by a pH controller 76.例文帳に追加

複合めっき液５０の温度は温度コントローラ６８によって４５℃〜５７℃の範囲に調整され、かつｐＨコントローラ７６によってそのｐＨ値が１．７〜２．７の範囲で調整される。 - 特許庁

While the joint part A is in contact with an electric supply roller of the plating apparatus, electric current supplied to the electric supply roller is controlled so that the maximum difference in electric potentials between an anode inside a plating liquid tank and the electric supply roller is in the range of 0.8-1.7 times of the difference in electric potentials during operation.例文帳に追加

接続部分Ａが、電気めっき装置の給電ロールと接触している間は、めっき液槽内部のアノード（陽極）と給電ロールの間の電位差の最大値が、操業時の電位差の０．８倍以上１．７倍以下の範囲内になるように給電ロールに流す電流を制御する。 - 特許庁

To provide an electrolytic or electroless plating solution which has excellent temporal stability and a wide gloss range, shows uniform plating appearance, can effectively provide an intended coating film composition and contains no cyanide, and to provide electronic parts having a metal film which has been formed by using the same.例文帳に追加

経時安定性が良好で、光沢範囲が広く、めっき外観が均一で、効率的に意図する皮膜組成を得ることができるシアン化物非含有の電気又は無電解めっき液及びそれを用いて形成された金属皮膜を有する電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a bonding wire that stably forms a spherical ball over a wide ball-diameter range, can be manufactured without degrading a plating liquid in plating, and preferably is improved in adhesion property between a covering layer and a core.例文帳に追加

広いボール径範囲にわたって、真球のボールを安定的に形成し、かつメッキをする際にメッキ液の劣化をもたらさずに製造することができ、好ましくは、さらに被覆層と芯材との密着性にすぐれるボンディングワイヤーおよびそれを使用した集積回路デバイスを提供することを目的とする。 - 特許庁