「plating range」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Here, the second metal has only to be attached onto the substrate, and need not be deposited together with the first metal by electroless plating, so that a wide range of materials can be used as the second metal.例文帳に追加

ここで、第２の金属は基板に付着すればよく、第１の金属と共に無電解メッキで析出する必要がないことから、広い範囲の材料を第２の金属として利用することができる。 - 特許庁

A diamond abrasive grain 12 having the average particle size falling within a range of 10 μm to 200 μm is fixed by a plating film 13 to a surface of a core 11 having the average particle size of 1 mm to 20 mm.例文帳に追加

平均粒径が１ｍｍ以上２０ｍｍ以下のコア１１の表面には、平均粒径１０μｍ以上２００μｍ以下の範囲にあるダイヤモンド砥粒１２がメッキ膜１３により固定されている。 - 特許庁

A negative electrode active material layer 12 is formed by a plating method and contains as a constituting element Sn and Pb within a range of 1 atom % or higher and 10 atom % or lower.例文帳に追加

負極活物質層１２は鍍金法により形成されたものであり、構成元素としてＳｎを含むと共に、Ｐｂを１原子％以上１０原子％以下の範囲内で含んでいる。 - 特許庁

To provide a separator for fuel cell and its manufacturing method, which can make silver plating in a range contacting with an oxidant electrode collector of the separator without forming a high-temperature oxidation resistance layer and can form the high-temperature oxidation resistance layer in the other range, in an easy and reliable way.例文帳に追加

容易かつ確実に、セパレータの酸化剤極集電体が当接する範囲に、高温耐酸化層を形成することなく銀メッキを施し、かつその他の部分には上記高温耐酸化層を形成することができる燃料電池用セパレータおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The plating liquid relates to the electro nickel plating liquid for ceramic electronic component, contains nickel ions and alkali metal ions having a concentration in the range of 0.005 mol/L to 0.1 mol/L, has a pH of 5 or more and less than 7 and has an ion concentration of ions including ammonium or ammonia, of 0.2 mol/L or less.例文帳に追加

本実施形態に係るめっき液は、セラミック電子部品用の電気ニッケルめっき液であって、ニッケルイオンと、０．００５ｍｏｌ／Ｌ以上０．１ｍｏｌ／Ｌ以下の濃度のアルカリ金属イオンとを含み、ｐＨが５よりも大きく７未満であり、アンモニウムまたはアンモニアを含むイオンのイオン濃度が０．２ｍｏｌ／Ｌ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

This water heating heater 1 is equipped with a metallic pipe of a copper alloy 4 in which a heating wire 2 is embedded through insulating powder 3, and an alloy layer 5 of tin and copper which is formed by plating the outer surface of the metallic pipe with tin and applying heat treatment to the tin plating within a range not exceeding its melting point.例文帳に追加

水加熱ヒータ１は、絶縁粉末３を介して発熱線２を埋没した銅合金４よりなる金属パイプと、この金属パイプの外表面に錫めっきを施し、この錫めっきにその融点を超えない範囲で熱処理を行って形成した錫及び銅の合金層５を備えている。 - 特許庁

Between an Ni-based plating layer, e.g., an Ni-P plating layer and a titanium alloy base material, an Al intermediate layer having excellent adhesion to both, and having an Al composition of ≥90% and a thickness in the range of 0.2 to 50 μm is interposed, so as to form a member made of a titanium alloy having excellent wear resistance.例文帳に追加

Ｎｉ−ＰなどのＮｉ系めっき層とチタン合金基材との間に、この双方に対して優れた密着性を有するＡｌ組成９０％以上で、厚さが０．２μｍ〜５０μｍの範囲のＡｌ中間層を介在させて、耐摩耗性に優れたチタン合金製部材を形成したのである。 - 特許庁

The posttreatment liquid is used to the posttreatment for a tin based plating face after the formation of a tin or tin alloy plating film on an object to be plated, and comprises at least one kind of resin for posttreatment selected from the group consisting of an acrylic resin, a maleic resin, an alkyd resin and a phenol resin having the average molecular weight in a specified range.例文帳に追加

被メッキ物にスズ又はスズ合金メッキ皮膜を形成した後、そのメッキ面を後処理する液であって、特定範囲の平均分子量を有するアクリル樹脂、マレイン酸樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂よりなる群から選ばれた後処理用樹脂の少なくとも一種を含有するスズ系メッキ面の後処理液である。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode pattern by electroless plating, which prevents absence of plating and forms an electrode pattern of complicated configuration or a spatial electrode pattern with a three dimensional wiring, without being influenced by a range of a laser power and without giving a deleterious effect on a substrate, and to provide a method for manufacturing an ink-jet head.例文帳に追加

レーザーパワーのレンジに影響されず、基板の悪影響がない、メッキの抜けを防止でき、複雑な形状の電極パターンあるいは三次元配線の立体的な電極パターンを形成することができる無電解メッキによる電極パターンの形成方法及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Under the requirement 1, the plating catalyst or its cursor is contained in a range of 3×10^-20 mol/nm^3 to 30×10^-20 mol/nm^3, in terms of the metal element content within a depth of 25 nm from the surface of the resin layer.例文帳に追加

条件１：樹脂層表面から深さ２５ｎｍの範囲内に、金属元素量換算で３×１０^−２０ｍｏｌ／ｎｍ^３〜３０×１０^−２０ｍｏｌ／ｎｍ^３の範囲でめっき触媒又はその前駆体を含むこと - 特許庁

Thus, spring characteristics can be improved, for instance, yield stress can be within the range of 900 to 1,100 MPa, and a plating speed can be made around 10 times quicker than in the case of use of NiP, hence, productivity is improved.例文帳に追加

降伏応力を９００〜１１００ＭＰａの範囲内に出来る等、ばね特性を向上できるとともに、メッキ形成速度をＮｉＰを用いる場合の約１０倍速くでき、生産性を向上できる。 - 特許庁

The soft magnetic backing layer formed by the plating is subjected to heat treatment in a magnetic field with conditions selected in a range such that the heat treatment temperature is ≥250°C and ≤350°C and magnetic field intensity applied to the substrate is 10 kOe or more.例文帳に追加

メッキ成膜された軟磁性裏打ち層には、熱処理温度が２５０℃以上３５０℃以下、基板への印加磁場強度が１０キロエルステッド（ｋＯｅ）以上の範囲で条件選択されて磁場中熱処理が施される。 - 特許庁

In particular, the ratio of copper in the copper stub is ≥95%, and the ratio of nickel and rhodium in the plating layer is within the range of 40 to 60% nickel and 40 to 60% rhodium.例文帳に追加

特に、銅塊体の銅の割合が重量９５％以上、メッキ層のニッケルとロジウムとの割合については、ニッケルが４０〜６０重量％、ロジウムが重量４０〜６０％の範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁

A circular thin plate-like blade body 1, in which abrasive grains 3 are dispersed and retained by a metal plating phase 2 containing nickel as a main component, is heat-treated by maintaining for 0.5-1.5 hours in a temperature range of 260-300°C.例文帳に追加

ニッケルを主成分とする金属めっき相２に砥粒３が分散されて保持された円形薄板状のブレード本体１を、２６０℃〜３００℃の温度範囲において０．５時間〜１．５時間保持して熱処理する。 - 特許庁

The electroless gold plating repreparation method comprises a stage where a gold ion-containing liquid obtained by mixing an alkaline aqueous solution comprising a gold sulfite salt with a pH regulation liquid comprising a sulfite other than a gold sulfite salt and hydrochloric acid or sulfuric acid is added to an electroless gold plating liquid comprising a gold sulfite salt in such a manner that the concentration of the gold ions in the electroless gold plating liquid is held to a prescribed range.例文帳に追加

本発明は、亜硫酸金塩を含有する無電解金めっき液に、亜硫酸金塩を含むアルカリ性水溶液と亜硫酸金塩以外の亜硫酸塩及び塩酸若しくは硫酸を含むｐＨ調整液とを混合してなる金イオン含有液を、無電解金めっき液中の金イオン濃度が所定範囲内に維持されるように添加する工程を有する無電解金めっき液再調製方法を提供する。 - 特許庁

A high polymer layer 16 is formed on a surface to be plated of a plastic molding 12 by applying and drying a high molecular compound containing a conductive filler and then electro-plating is executed onto the high polymer layer 16 to deposit a metallic plating layer 14 made of a metal of ≥150 GPa elastic modulus in a thickness range of 10 to 50 μm.例文帳に追加

プラスチック成形品１２のメッキを施すべき所要面に導電性フィラーを含有した高分子化合物を付与・乾燥させて高分子層１６を形成し、この高分子層１６に電解メッキを施して弾性率が１５０ＧＰａ以上の金属からなる金属メッキ層１４を厚さ１０〜５０μｍの範囲で析出させる。 - 特許庁

After setting a thickness of tin plating on the inner face of a conductor crimping part 13 of a crimping terminal 10 within the range of 2.1 to 5.0 μm, the conductor crimping part 13 is crimped to an aluminum-made conductor 100a of the aluminum electric wire 100.例文帳に追加

圧着端子１０の導体圧着部１３の内面のスズメッキの厚みを２．１μｍ〜５．０μｍの範囲に設定した上で、アルミニウム電線１００のアルミニウム製の導体１００ａに導体圧着部１３を圧着する。 - 特許庁

The catalyst for electroless plating comprises an aqueous solution containing at least palladium salt and chloride ions, and the product of the hydrogen ion concentration [H+] and the chloride ion concentration [Cl-] in the aqueous solution is in a range of 10^-13<[H^+]^2-[Cl^-]^4<10^-8.例文帳に追加

少なくともパラジウム塩、塩化物イオンを含む水溶液からなり、且つ、この水溶液中の水素イオンの濃度［Ｈ^＋］と塩化物イオンの濃度［Ｃｌ^−］との積が、１０^−１３＜［Ｈ^＋］^２・［Ｃｌ^−］^４＜１０^−８の範囲にある。 - 特許庁

To provide a method which efficiently controls a cyanide ion concentration of a solution containing a free cyanide ion such as a gold plating solution, and controls the cyanide ion concentration of the solution within a constant range, without needing a complicated operation.例文帳に追加

金めっき液などの遊離シアンイオンを含む溶液において、シアンイオン濃度を効率良く管理でき、煩雑な操作を要することなく、液中のシアンイオン濃度を一定範囲に制御することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

The plating liquid contains: (1) gluconate; (2) nickel salt; (3) molybdate; not substantially contains (4) iron ions; and not substantially contains (5) organic amines, wherein (6) pH lies in the range of 8 to 11.例文帳に追加

（イ）グルコン酸塩を含有し、（ロ）ニッケル塩を含有し、（ハ）モリブデン酸塩を含有し、（ニ）鉄イオンを実質的に含有せず、（ホ）有機アミン類を実質的に含有せず、（ヘ）ｐＨが８〜１１の範囲内であることを特徴とするめっき液。 - 特許庁

The nickel plating solution is characterized in that nickel sulfamate, a depolarizer and a stress controlling agent are contained and the pH is adjusted to be within the neutral range of 5.3-6.4 by using ammonia.例文帳に追加

上記課題を解決するために、スルファミン酸ニッケルと、復極剤及び応力調整剤の各成分とを含み、アンモニアでｐＨ５．３〜ｐＨ６．４の中性領域に溶液ｐＨを調整したことを特徴とするニッケルめっき液を用いる。 - 特許庁

The galvannealed steel sheet is produced by subjecting a steel sheet having an adjusted surface roughness to a hot dip galvanizing and alloying treatment under the conditions such that a plating bath entering temperature, an Al concentration of a plating bath, an alloying temperature, and a degree of alloying are controlled in a specified range, and then temper-rolling it at a specified rolling reduction with a roll with an adjusted surface roughness.例文帳に追加

この合金化溶融亜鉛めっき鋼板は、表面粗度が調整された被めっき鋼板に、めっき浴侵入温度，めっき浴のＡｌ濃度，合金化温度及び合金化度を特定範囲に規制された溶融亜鉛めっき，合金化処理を施し、その後に表面粗度が調整されたロ−ルによる特定圧下率での調質圧延を施して製造することができる。 - 特許庁

In the electronic component 10 having the terminal 15, an Sn-based plating layer 16 and an Sn-based compound layer 17 on its surface with the thickness in the range between 500 nm and 1,000 nm are formed on the surface of the terminal 15 as the Sn-based thin film layer.例文帳に追加

端子１５を有する電子部品１０において、端子１５の表面に、Ｓｎ系薄膜層として、Ｓｎ系めっき層１６と、その表面に厚さ５００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲であるＳｎ系化合物層１７を形成する。 - 特許庁

The self-heating type inorganic membrane is prepared as an inorganic porous membrane by plating an nickel alloy 1 on a cylindrical shirasu porous glass (SPG)2 to prepare the self-heating type inorganic porous membrane 7 in which the pore size can be selected within the range of 0.05 μm to 20 μm.例文帳に追加

無機多孔質膜として、細孔径が均一で、０．０５μｍ乃至２０μｍの範囲で細孔径が選定できる円筒状のシラス多孔質ガラス（ＳＰＧ）２にニッケル合金めっき１を施して自己発熱型無機多孔質膜７とする。 - 特許庁

To provide a wiping nozzle, in which stable pressure can be set in the range of plated quantity of zinc from thin coating to thick coating without exchanging the nozzle body, in the wiping nozzle, with which molten zinc stuck to a steel sheet coming out from a zinc pot is controlled to a prescribed plating quantity.例文帳に追加

亜鉛ポットから出た鋼帯に付着した溶融亜鉛を所定の目付量とするワイピングノズルにおいて、ノズル本体を交換することなく、亜鉛の目付量が薄目付から極厚目付の領域まで安定した圧力に設定できるワイピングノズルの提供。 - 特許庁

Electroless plating layers 8a and 8b are formed on a resin base 1 for the formation of the wiring board 4, and the wiring board 4 is thermally treated in a temperature range above the softening temperature of the resin base 1 but below a certain temperature at which the conductive patterns 2 and 3 start getting out of position due to softening.例文帳に追加

樹脂基材１上に無電解めっき層８ａ、８ｂを形成した配線基板４をさらに樹脂基材１の軟化温度以上でかつ軟化により導電パターン２、３が位置ずれしない温度範囲で加熱処理したことを特徴とする。 - 特許庁

The gold plating layer has an end face extending toward the first end face, which is located in a range between the first end face of the semiconductor substrate and a middle position relevant to one half of a length A of the light non-absorbing area along the optical axis.例文帳に追加

この金メッキ層は前記第１端面に向かって延びた端面を有し、この金メッキ層の端面が、半導体基体の第１端面と、光軸に沿った前記光非吸収領域の長さＡの１／２に相当する中間位置との間の範囲に位置する。 - 特許庁

An automotive resin component 1 composed of the base material 2 comprising the polystyrene resin and the covering layer 3 formed on the surface of the base material 2 by coating or plating is immersed in limonene 4 and is mechanically agitated in a temperature range of 40 to 45°C, whereupon the automotive resin component 1 can be efficiently separated into the base material 2 and the covering layer 3 at the interface therebetween.例文帳に追加

ポリスチレン系樹脂からなる基材２と、基材２の表面に塗装やめっきにより形成された被覆層３とを備える自動車用樹脂部品１を、リモネン４に浸漬して、４０〜４５℃の温度範囲において機械撹拌する。 - 特許庁

The types of stones were determined by social status; gold or silver plating was used for those of goi (Fifth Rank) and higher, a black lacquered sash (black lacquered copper) was used for rokui (Sixth Rank), and officers used a range of materials according to their exposure to Chinese influences. 例文帳に追加

石は身分によって種類が決まっていて、奈良時代には五位以上は金銀（もちろんめっきであろう）、六位以下は烏油帯（銅に黒漆をかける）を使用したが、高官は唐の影響を受けて次第に様々な材質を使用するようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The electrode wire for a solar cell comprises: a core material (2) which has a volume sensitivity of 2.3 μΩ cm or less and a proof strength in the range of 19.6 MPa to 85 MPa; and a molten solder plating layer (3A) and (3B) laminated on a surface of the core material (2).例文帳に追加

本発明の太陽電池用電極線材は、体積抵抗率が２．３μΩ・ｃｍ以下で、かつ耐力が１９．６ＭＰａ以上、８５ＭＰａ以下^ である芯材（２）と、前記芯材（２）の表面に積層形成された溶融はんだめっき層（３Ａ），（３Ｂ）を備える。 - 特許庁

To provide a high resistance transparent conductive film at a low cost which can be suitably used as a transparent electrode for resistance-type touch panels, has few defects, has specific resistance in the range of 0.9 to 1.8×10^-3 Ωcm, and is produced by the DC sputtering method or the ion plating method which have been widely used industrially.例文帳に追加

工業的に汎用される直流スパッタリング法やイオンプレーティング法により、抵抗式タッチパネル用の透明電極として好適に用いうる、欠陥が少なく、比抵抗が０．９〜１．８×１０^-3Ω・ｃｍの範囲にある高抵抗透明導電膜を低コストで提供する - 特許庁

A method of manufacturing the electronic device includes forming a solder connection portion 1 by the steps of: forming a Ni plating layer 3 on a Cu layer as an electrode of a substrate 5; forming a solder ball; and having a compound layer 2 between a Sn-based solder 8 which includes a Cu6Sn5 phase in a temperature range from a room temperature to 200°C.例文帳に追加

電子装置のはんだ接続部１において、基板５の電極となるＣｕ層上にＮｉめっき層３が形成され、はんだボールを構成し、かつ室温から２００℃においてＣｕ６Ｓｎ５相を含有するＳｎ系はんだ８との間に化合物層２を有する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition highly sensitive over a wide wavelength range and excellent in resolution and a manufacturing method of precisely forming products by plating thick such as bumps and wiring by using the above resin.例文帳に追加

広い波長領域の活性放射線に対して優れた感度を示し、解像度などに優れた感放射線性樹脂組成物、ならびに該組成物を用いてバンプまたは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができるメッキ造形物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Plating powders and dust which are generated in the middle of the shift range of the coin 24, are discharged from the outside of the rotary area of the fin 15 and from foreign matter discharge holes 38 in a circular gap part 36 in a guide part 13A or are discharged from a gap between the base 12 and a guide 13.例文帳に追加

このコイン２４の移動範囲の途中で発生しためっき粉、粉塵等が、ひれ１５の回転領域の外側且つガイド部１３Ａ内の円環状隙間部３６に形成された異物排出孔３８から排出されるか、ベース１２とガイド１３との間の隙間３４から排出される。 - 特許庁

Further, in the case of an HLHL type antireflection film for example, a TiO_2 film having a refractive index assuming a value falling within the range from 2.2 to 2.4 is formed as the layer next to the outermost layer with a special ion plating apparatus.例文帳に追加

更に、例えばＨＬＨＬ型の反射防止膜の場合、最外層から２番目に位置する層を成すＴｉＯ_２膜を特殊なイオンプレーティング装置を用いて成膜することにより、このＴｉＯ_２膜の屈折率が２．２〜２．４の範囲内の値を有するＴｉＯ_２膜を形成する。 - 特許庁

To widen a hole fillable range which is free of the formation of a void as to a build-up substrate which has a blind via hole of 0.5 to 150 μm in hole diameter, 2 to 100 μm in depth, and ≤6 in aspect ratio (depth/hole diameter) and is formed through a process of filling the blind via hole by electric copper plating.例文帳に追加

穴径が０．５〜１５０μｍ，深さ２〜１００μｍ，アスペクト比（深さ／穴径）が６以下のブラインドビアホールを有し、そのブラインドビアホールを電気銅めっきにより穴埋めする工程を経て作られるビルドアップ基板において、電流密度を低下させずに、ボイドの発生がない穴埋め可能範囲を広げる。 - 特許庁

At least either of a lower part magnetic core and an upper part magnetic core has a magnetic pole layer of saturation magnetic flux density of 23,000 gauss or more consisting of a magnetic film including elements of two kinds or more out of Co, Ni, and Fe prepared by an electroplating method in a range of a plating bath of pH2 or less.例文帳に追加

下部磁気コア、上部磁気コアのうち少なくとも一方は、めっき浴のｐＨ２以下の範囲で電気めっき法により作製したＣｏ、Ｎｉ及びＦｅのうち２種類以上の元素を含有する磁性膜からなる飽和磁束密度２３０００ガウス以上の磁極層を有する。 - 特許庁

The nitriding layer 2 with HV 700 or more and the hard film 4 by ion plating are provided while mutually separating and not contacted near at least one side corner of the corner part formed by the upper/lower surfaces and outer periphery surface and its separating interval is a range of 0.001-0.3 mm.例文帳に追加

ＨＶ７００以上の窒化層２とイオンプレーティングによる硬質皮膜４は、上下面と外周面とで形成されるコーナ部の少なくとも片方のコーナ部付近で、接しておらず、互いに離間して設け、その離間間隔は、０．００１〜０．３ｍｍの範囲にある。 - 特許庁

When atomic concentrations of constituent elements are measured in a depth direction by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), the nickel plating layer has an atomic concentration of carbon atoms in a range of 1.0 to 10.0% at a depth where an atomic concentration of the Ni element is 80%.例文帳に追加

ニッケルめっき層は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって構成元素の原子濃度を深さ方向に測定したときに、Ｎｉ元素の原子濃度が８０％となる深さにおいて、炭素原子の原子濃度が、１．０％以上、かつ、１０．０％以下の範囲である。 - 特許庁

In the method of producing copper foil, one or both surfaces of copper or copper alloy foil which is produced by electrolysis or rolling and in which the average surface roughness of at least one side lies in the range of 0.1 to 10 μm in terms of Rz are electrochemically dissolved and smoothened, and if required, the smoothened face is subjected to copper plating or Ni plating.例文帳に追加

本発明は、少なくとも片面の平均表面粗度がＲｚ：０．１〜１０オｍの範囲内にある電解又は圧延にて製造した銅又は銅合金箔の片方もしくは両方の表面を電気化学的に溶解、平滑化させ、必要により該平滑面に銅めっき又はＮｉめっきを行うことを特徴とする銅箔の製造方法たことを特徴とする銅箔の製造方法、並びに該製造方法で製造された銅箔である。 - 特許庁

The mold for continuous casting comprises copper or a copper alloy, and two or more chromium plating layers having a Vickers hardness of 600HV, of ≤0.01 are provided at least in the range from the upper end of the mold to a height of 300 mm including the meniscus part at the surface on the inner face side of the mold.例文帳に追加

銅又は銅合金よりなる連続鋳造用鋳型において、鋳型内面側表面のメニスカス部を含む、少なくとも鋳型上端から高さ３００ｍｍまでの範囲に、ビッカース硬度が６００ＨＶ０．０１以下であるクロムメッキ層を二層以上設けたことを特徴とする連続鋳造用鋳型。 - 特許庁

In the method for separating and recovering phosphoric acid as calcium phosphate or magnesium phosphate by subjecting phosphorous acid in a phosphorous acid-containing plating waste solution to oxidation treatment into phosphoric acid, thereafter adding calcium salt or magnesium salt to the waste solution, the oxidation conversion factor of the phosphorous acid in the waste solution into phosphoric acid is controlled to the range of 50 to 95%.例文帳に追加

亜リン酸含有めっき廃液中の亜リン酸をリン酸に酸化処理した後、該廃液にカルシウム塩、或いはマグネシウム塩を添加して、リン酸をリン酸カルシウム、或いはリン酸マグネシウムとして分離回収する方法において、該廃液中の亜リン酸のリン酸への酸化転換比率を５０〜９５％の範囲にする。 - 特許庁

Another through hole which is partially blocked by the inner wiring pattern 4 and is displaced from the above through hole within an acceptable range is formed from the other outer conductive layer 5 by a laser means in the same way for forming a through hole 6 with steps, and a through hole plating layer 7 is formed finally.例文帳に追加

同様にレ−ザ−手段で他方の外層導電層５から内層配線パタ−ン４に部分的に遮られ上記貫通孔と許容される範囲内で位置のずれた他の貫通孔を形成することによって段状のスル−ホ−ル６を形成し、最後にスル−ホ−ルメッキ層７を形成する。 - 特許庁

The magnetic base material includes first and second bulging parts 13 and 14 provided within the axial direction range of first and second magnetic shielding parts 8 and 9, and a plunger main cylinder 15 for delivering magnetism in a radial direction with a magnetic delivery core 7, and the plunger 3 and a stator core 5 are directly slid only in the plating layer of the first and second bulging parts 13 and 14.例文帳に追加

磁性母材は、第１、第２磁気遮断部８、９の軸方向範囲内に設けられる第１、第２膨出部１３、１４と、磁気受渡コア７と径方向の磁気の受渡を行なうプランジャメイン筒１５とを備え、第１、第２膨出部１３、１４のメッキ層のみでプランジャ３とステータコア５が直接摺動する。 - 特許庁

The weight being fixed to an electromechanical conversion element comprises a base alloy containing tungsten within a range of 95-97.5 wt% and the remainder which is a binder containing one or two kinds of copper and nickel, and a nickel plating layer adhering to the surface of the base alloy.例文帳に追加

本発明の重りは，電気−機械変換素子に取り付けられて使用される重りであって，タングステンを９５〜９７．５重量％の範囲内で含み，残部が銅とニッケルとのうち１種または２種を含むバインダーである基合金と，基合金の表面に付着されたニッケルメッキ層とを有するものである。 - 特許庁