r-processとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 r過程
「r-process」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 309件
The beveling process is a C beveling process or an R beveling process.例文帳に追加
面取り加工は、Ｃ面取り加工またはＲ面取り加工である。 - 特許庁
R-T-B-BASE ALLOY, PROCESS FOR PRODUCING R-T-B-BASE ALLOY, FINE POWDER FOR R-T-B-BASE RARE EARTH PERMANENT MAGNET, R-T-B-BASE RARE EARTH PERMANENT MAGNET, AND PROCESS FOR PRODUCING R-T-B-BASE RARE EARTH PERMANENT MAGNET例文帳に追加
Ｒ−Ｔ−Ｂ系合金及びＲ−Ｔ−Ｂ系合金の製造方法、Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類永久磁石用微粉、Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類永久磁石、Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類永久磁石の製造方法 - 特許庁
The invention provides a one-pot process for the production of a functionalized alkoxyamine of general formula (I) (for example, R^1 and R^2 are each H; R^3 is phenyl; and R^4 and R^5 together with nitrogen atom form an alicyclic 6-membered ring).例文帳に追加
一般式（Ｉ）：（例えば、式中、Ｒ^１、Ｒ^２は水素、Ｒ^３はフェニル基、Ｒ^４、Ｒ^５は、窒素原子と一緒になって、脂環式６員環を形成する。）の官能化アルコキシアミンを調製するためのワンポット方法を開示する。 - 特許庁
HIGH ELECTRIC RESISTANCE R-T-B BASED SINTERED MAGNET AND ITS PRODUCTION PROCESS例文帳に追加
高電気抵抗Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石およびその製造方法 - 特許庁
The replacement of the reticle R is not required when the first exposure process proceeds to the second exposure process.例文帳に追加
第１露光工程から第２露光工程へ移行する際にレチクルＲの交換が不要になる。 - 特許庁
The calculation process is a process for calculating the degree of glare shielding of the display device 9 from a maximum distance r_MAX.例文帳に追加
算出工程は、最大距離ｒ_MAXから表示装置９の防眩度を算出する工程である。 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「r-process」の意味 |
R-process
出典:『Wikipedia』 (2011/04/11 04:51 UTC 版)
「r-process」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 309件
In the process of performing the rich spike control, hydrogen fuel is supplied at a predetermined addition rate R with gasoline into a fuel chamber 16.例文帳に追加
リッチスパイク制御の実行中に、ガソリンとともに所定の添加割合Rで水素燃料を燃料室１６内に供給する。 - 特許庁
In the printing process, the sealing resin R mixed up by the squeegees 6 are leveled on the printing plate 5 in such a way as to fulfill the opening part 51 with the sealing resin R.例文帳に追加
印刷工程は、スキージ６で練られた封止樹脂Ｒを印刷版５上で均し、開口部５１へ封止樹脂Ｒを充填する。 - 特許庁
It is desirable to perform a drawing process under the condition that meets the equation R_T/R_D ≤0.5 in addition to the equations (1) and (2).例文帳に追加
２０（％）≦Ｒ_D≦３５（％） ・・・（１） ５（％）≦Ｒ_T≦２５（％） ・・・（２）（１）式、（２）式に加え、Ｒ_T／Ｒ_D≦０．５を満たす条件での引抜き加工が望ましい。 - 特許庁
CASE FOR EVAPORATION DIFFUSION PROCESS AND METHOD FOR MANUFACTURING R-T-B SYSTEM SINTERED MAGNET例文帳に追加
蒸着拡散処理用ケース及びＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石の製造方法 - 特許庁
LOOP-BACK PROCESS CONTROL METHOD IN ETHERNET(R) PASSIVE OPTICAL SUBSCRIBER NETWORK例文帳に追加
イーサネット（登録商標）受動型光加入者ネットワークにおけるループバックプロセス制御方法 - 特許庁
The base side wafer measurement process S3 includes measuring a resonance frequency f_r of the piezoelectric part.例文帳に追加
基体側ウェハ測定プロセスＳ３は、圧電部の共振周波数ｆ_ｒを測定する。 - 特許庁
And in the second process, the resist liquid R is diffused to the end of the wafer W.例文帳に追加
そして第２の工程でレジスト液ＲをウェハＷの端まで拡散させる。 - 特許庁
A Java (R) VMA 10 invokes a Java VM B 20 in order to execute processing to be performed by process invocation, which is processing to be invoked by an application body.例文帳に追加
Java（登録商標）ＶＭＡ１０はアプリケーション本体が起動する処理である。 - 特許庁
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