radiation pyrometerとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 放射高温計
「radiation pyrometer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
HEAT EQUILIBRIUM STRUCTURE FOR RADIATION PYROMETER SENSOR ELEMENT例文帳に追加
放射温度計センサ素子の均熱構造 - 特許庁
HEAT INSULATION STRUCTURE FOR RADIATION PYROMETER SENSOR ELEMENT例文帳に追加
放射温度計センサ素子の断熱構造 - 特許庁
To provide a method by which the radiation-rate can easily be corrected against the variation of the radiation ratio on the surface of a strip and by which the measuring accuracy is improved by using an inexpensive single-color pyrometer in comparison with an expensive two-color pyrometer and to provide an inexpensive strip temp. measuring instrument.例文帳に追加
高価な二色温度計に比べて安価な単色温度計を用いて、ストリップ表面の輻射率変化に対して輻射率の補正が容易にでき且つ測定精度が向上する方法及び安価な板温測定装置の提供。 - 特許庁
To provide a heat insulation structure for a radiation pyrometer sensor element capable of suppressing errors in a signal outputted to a converter, caused by heat imbalance of the sensor element due to heat disturbance from outside a sensor head in an atmosphere where a radiation pyrometer is installed, and free from influence by a heat from outside the sensor head.例文帳に追加
放射温度計が設置された雰囲気において、センサヘッドの外部からの熱外乱が起こり、センサ素子の熱バランスがくずれ、変換器へ出力される信号に生ずる誤差を抑え、センサヘッド外部からの熱の影響のない放射温度計センサ素子断熱構造を提供する。 - 特許庁
When calculating a start timing of the flying shear 2 in the cutting step (STP3) from traveling speed, strip material both end passing information by a radiation pyrometer 5 provided just before the flying shear, and a distance between the radiation pyrometer 5 and the flying shear 2, it is corrected by strip material temperature in the rolling steps before the cutting step.例文帳に追加
この切断工程（ＳＴＰ３）におけるフライングシャー２の起動タイミングは、条材の走行速度とフライングシャー直前に設けた放射高温計５による条材の両端通過情報と放射高温計５及びフライングシャー２の間の距離とから算出するに際し、切断工程前の圧延工程における条材温度により補正する。 - 特許庁
A rapid thermal processing (RTP) system 110 includes a transmission pyrometer 12 for monitoring the temperature dependent absorption of a silicon wafer 32 for radiation from a RTP lamp 46 at a reduced power level.例文帳に追加
急速熱処理（ＲＴＰ）システム１１０は、減じた電力レベルでのＲＴＰランプ４６からの放射線に対するシリコンウエハ３２の温度依存性吸収を監視する透過型パイロメータ１２を含む。 - 特許庁
The surface temperature of the sample 3 is directly recorded by a black body radiation detector such as a pyrometer 6 turned to a fixed area of the space through which the sample 3 periodically passes during rotation.例文帳に追加
試料３の表面温度は、回転運動をする間に試料３が周期的に通過する空間の固定領域に向けられた、パイロメータ６などの黒体放射検知器によって直接記録される。 - 特許庁
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「radiation pyrometer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
The transmission pyrometer may be used for closed loop control for thermal treatments below 500°C or used in a pre-heating phase for a higher temperature process including radiation pyrometry in the closed loop control.例文帳に追加
透過型パイロメータは、５００℃より下の熱処理に対する閉ループ制御のために使用することができ、又は、閉ループ制御において放射型パイロメータを含むより高い温度処理のための予熱相において使用できる。 - 特許庁
To provide a device and a method of thermally processing a substrate inside a processing chamber with a radiation source for heating the substrate which extracts information through low-temperature measurement by a pyrometer.例文帳に追加
高温計による低温測定によって情報を抽出する基板過熱用放射源付き処理チャンバ内で基板を熱処理する装置と方法を提供する。 - 特許庁
To provide a heat equilibrium structure for a radiation pyrometer sensor element capable of suppressing errors caused by heat imbalance of the sensor element due to heat disturbance from outside a sensor head.例文帳に追加
センサヘッドの外部からの熱外乱によるセンサ素子の熱バランスのくずれで生ずる誤差を抑えるための放射温度計センサ素子均熱構造を提供する。 - 特許庁
The temperature measuring device includes a plurality of optical detectors such as a pyrometer and a spectrometer, and an optical switch 22 for selectively guiding the radiation from an inspection hole of the turbine engine to an arbitrary one optical detector along the common line of sight.例文帳に追加
温度測定装置は高温計及び分光計のような複数の光検出器と、共通の視線に沿ってタービンエンジンの覗きガラスからの放射を任意の１つの光検出器に選択的に導くための光学スイッチ２２とを含んでいる。 - 特許庁
After an oxide silicon film formed at the back side of a semiconductor wafer W has been removed, the semiconductor wafer W is transported into a silica tube 1, the intensity of radiation light from the back side of the semiconductor wafer W is measured using a pyrometer 7, and heat treatment is performed on the semiconductor wafer W while monitoring the temperature of the semiconductor wafer W.例文帳に追加
半導体ウェハＷの裏面に形成されたシリコン酸化膜を除去してから、半導体ウェハＷを石英管１内に搬入し、パイロメータ７にて半導体ウェハＷの裏面からの輻射光強度を計測することにより、半導体ウェハＷの温度をモニタしながら、半導体ウェハＷの熱処理を行う。 - 特許庁
This radiation temperature measuring device including a reflector 5 facing to a wafer 1 is characterized by being equipped with a floodlight 11 for irradiating the face of the wafer 1 facing to the reflector 5 with light I0 having prescribed intensity, and a pyrometer 3 for measuring the intensity of light reflected multiply between the wafer 1 and the reflector 5 before and after irradiation onto the face with light by the floodlight 11.例文帳に追加
ウェーハ１に対向する反射板５を含む放射温度測定装置であって、ウェーハ１の反射板５に対向する面に所定の強度を有する光Ｉ_０を照射する投光器１１と、投光器１１が上記面へ光を照射する前後において、ウェーハ１と反射板５の間で多重反射した光の強度を測定するパイロメータ３とを備えたことを特徴とする放射温度測定装置を提供する。 - 特許庁
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