radical sourceとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma source device as a novel composite vapor deposition device usable for an ion source and a radical source, capable of forming a good quality thin film on a base board by selectively emitting only a radical of film forming species particularly at operation time as the radical source, usable in common to the ion source and the radical source, and capable of forming respective superior thin films.例文帳に追加

イオン源及びラジカル源に用いることができ、とくにラジカル源としての運用時には、成膜種のラジカルのみを選択的に放出して基板に良質の薄膜を形成し得るようにし、イオン源とラジカル源とに共用してそれぞれの良好な薄膜を形成することができる新規な複合型蒸着装置としてのプラズマ源装置を提供する。 - 特許庁

The conduit may supply radicals from the plasma radical source to a surface to be cleaned.例文帳に追加

導管は、プラズマラジカル源からクリーニングされる表面へラジカルを供給してもよい。 - 特許庁

This radical-supplying device 40 has a plasma generation region 43 where the plasma is generated by a plasma source 50 and a radical generation region 44 where the radical is generated by the plasma.例文帳に追加

このラジカル供給装置４０は、プラズマ源５０によりプラズマが生成されるプラズマ生成領域４３と、プラズマによりラジカルが生成されるラジカル生成領域４４とを有する。 - 特許庁

NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM ANALYSIS DEVICE, ETCHING DEVICE, OXYGEN RADICAL GENERATION DEVICE AND WASTE GAS PROCESSOR例文帳に追加

負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置 - 特許庁

As the silicon source, an amino group, an amino group having a carbonized substance as a free radical, etc. are also used.例文帳に追加

シリコンソースとして、アミノ基、炭素化物を遊離基に持つアミノ基などを持つものも挙げられる。 - 特許庁

A hydrogen gas is mode to flow to a discharge chamber 56, electric discharge is caused by a radical source, and a hydrogen radical is supplied into a laser irradiation chamber 50 through a radial transport pipe 55.例文帳に追加

放電室５６に水素ガスを流し、ラジカル源で放電し、水素ラジカルをラジカル移送管５５を通してレーザー照射室５０内に供給する。 - 特許庁

An in situ radical-generating reactant is also introduced into the reactor together with a cationic ion deposition source.例文帳に追加

原位置ラジカル発生反応物がまた、カチオン性イオン堆積源と共に反応器内に導入される。 - 特許庁

As the source material 28, an organic source of TMG (trimethylgallium) or the like can be used, and as the nitrogen-containing gas, a nitrogen radical-containing gas can be used.例文帳に追加

ソース物質２８としては、ＴＭＧ（トリメチルガリウム）等の有機ソースを用いてもよく、窒素含有ガスとしては、窒素ラジカルを含むガスを用いてもよい。 - 特許庁