s and elとは 意味・読み方・使い方

More specifically, a line connecting the organic EL emission layer 10 and the exposure position S is set to become the optical axis of the ball lens 13.例文帳に追加

すなわち、有機ＥＬ発光層１０と露光位置Ｓを結ぶ直線がボールレンズ１３の光軸となるように設定する。 - 特許庁

Grooves 11 to be coated with an organic electroluminescent(EL) material are formed on the substrate S and the organic EL material is poured in the grooves 11 to be applied by moving nozzles 4a-4c along the grooves 11.例文帳に追加

有機ＥＬ材料を塗布すべき溝１１を基板Ｓ上に形成しておき、この溝１１にノズル４ａ〜４ｃを沿わせるようにノズル４ａ〜４ｃを移動させて有機ＥＬ材料を溝１１内に流し込んで塗布する。 - 特許庁

The illumination device 1 includes an emitter 3 in which transparent EL elements 2 are arranged at a day-lighting part R of a building S, and a control part 4 to lighting-control the EL elements 2.例文帳に追加

照明装置１は、透明なＥＬ素子２を建造物Ｓの採光部Ｒに配置した発光体３と、ＥＬ素子２を点灯制御する制御部４と、を備える。 - 特許庁

In addition, at least one of an adjustable characteristic of exposure light EL in the exposure of each of the shot regions and the width of the exposure light EL of the scanning direction on the substrate P is adjusted based on the set target integral exposure amount S.例文帳に追加

また、設定される目標積算露光量Ｓに基づいて、各ショット領域Ｓの露光時の調整可能な露光光ＥＬの特性および、基板Ｐ上での走査方向の露光光ＥＬの幅の少なくとも一方を調整する。 - 特許庁

The aligner EX is provided with the illuminator S, which projects an exposure light EL to a reticle R, and the illuminator S is provided with a filter F for correcting the illuminance on the reticle R.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、レチクルＲに露光光ＥＬを照明する照明装置Ｓを備えており、照明装置ＳはレチクルＲにおける照度を補正するためのフィルタＦを備えている。 - 特許庁

Surface roughness of a surface on which a group of organic EL elements (group of functional elements) of the glass substrate 5 is 0.5 s or less and surface roughness of a backside is 1 s or more.例文帳に追加

ガラス基板５の有機ＥＬ素子群（機能性素子群）が形成される表面の表面粗さは０.５ｓ以下、裏面の表面粗さは１ｓ以上とする。 - 特許庁

Grooves 11 corresponding to a prescribed pattern shape to be coated with an organic electroluminescent(EL) material are formed on the substrate S and the organic EL material is poured from nozzles 4a-4c in the grooves 11 by moving the nozzles 4a-4c along the grooves 11.例文帳に追加

有機ＥＬ材料を塗布すべき所定のパターン形状に応じた溝１１を基板Ｓ上に形成しておき、この溝１１にノズル４ａ〜４ｃを沿わせるようにノズル４ａ〜４ｃを移動させて、ノズル４ａ〜４ｃからの有機ＥＬ材料を溝１１内に流し込んで塗布する。 - 特許庁

When a locus of implantation ions is calculated by the Monte Carlo method to generate an ion implantation distribution, an electron stopping power S_e with respect to implantation ions is expressed by a combination of an electron stopping power S_eL of the Lindhard model, and an electron stopping power S_e-mB, corresponding to a modification of the electron stopping power S_eB of the Bethe model.例文帳に追加

注入イオンの軌跡をモンテカルロ法によって計算してイオン注入分布を発生させる際に、前記注入イオンに対する電子阻止能Ｓ_ｅを、リントハルトモデルの電子阻止能Ｓ_ｅＬと、ベーテモデルの電子阻止能Ｓ_ｅＢを修正した修正電子阻止能Ｓ_ｅ-ｍＢとの組合せにより表す。 - 特許庁