serve a process onとは 意味・読み方・使い方

serve a process on…発音を聞く 例文帳に追加

…に令状を送達する. - 研究社 新英和中辞典

Then, material which has properties to donate electrons making active sites serve as nucleuses is deposited as a film on the surface of the connection hole through an electron-donating film forming process S2.例文帳に追加

次に、電子供与性膜形成工程Ｓ２において、活性点を核に電子を供与する性質を有する物質を堆積させ膜を形成する。 - 特許庁

To provide a transfer member capable of forming, by using a simplified manufacturing process, a conductive film which is to serve as an electrode on a quartz substrate without affecting the characteristics of the quartz substrate that is a transfer-receiving member.例文帳に追加

簡便な製造プロセスにより、被転写体である水晶基板の特性に影響を与えることなく、電極となる導電性膜を水晶基板へ形成することが可能な転写体を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a first process, where a polysilicon film 103 is formed on an insulating film 102 provided on the surface of a semiconductor substrate 101 and a second process where the disused part out of the polysilicon film 103 is removed, and the other part of the film 103 is left unremoved to serve as a gate electrode 201.例文帳に追加

半導体基板１０１の表面に形成された絶縁膜１０２上にポリシリコン膜１０３を形成する工程と、ポリシリコン膜１０３のうちの不要な部分を除去して、それ以外の部分をゲート電極２０１として残す工程とを有している。 - 特許庁

To provide a device for preventing process collision based on multiple asynchronous input signals by conducting a first come first serve process for multiple input signals being applied in an asynchronous manner so that no collision is generated and element operations having high reliability are realized.例文帳に追加

本発明は、非同期で印加される複数の入力信号を先入力入先処理して衝突が発生しないようにすることによって、高い信頼性を有する素子動作を実現することができる、非同期の複数入力信号によるプロセス衝突の防止装置を提供すること。 - 特許庁

For the detailed method for calculating the quantitative impact of control deficiencies, you may refer to “Evaluation of deficiencies in process-level controls” in Section 4(2)[4] of Chapter III “Audit on Internal Control Over Financial Reporting”. This should also serve as a useful reference in the assessment process as well.発音を聞く 例文帳に追加

内部統制の不備による影響金額の算定方法については、「Ⅲ 財務報告に係る内部統制の監査」４．（２）④ 業務プロセスに係る内部統制の不備の検討 に詳細を記載しており、これは評価に当たっても参考になると考えられる。 - 金融庁

To enable a metal plating film to be subjected uniformly to CMP processing in an after process by a method, wherein the metal plating film buried in an insulating film to serve as a wiring material is formed uniformly on a semiconductor substrate.例文帳に追加

絶縁膜中に埋め込まれる配線材料となる金属めっき膜を半導体基板上に均一に形成し、後工程のＣＭＰ処理を均一に行うことができる半導体製造装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁