shifting beamとは 意味・読み方・使い方

To highly accurately correct positional shifting of each beam during writing in a main scanning direction by accurately and highly precisely grasping shifting of a beam irradiation position in the main scanning direction inexpensively.例文帳に追加

安価に、主走査方向でのビーム照射位置のずれを、正確、高精度に把握し、主走査方向における書込での各ビームの位置ずれを高精度に補正する。 - 特許庁

To miniaturize in a monolithic configuration a detection device for performing multiphase detection of an orthogonally polarized beam by performing simultaneously spectral diffraction and phase shifting of the beam.例文帳に追加

直交偏光ビームを分光と同時に位相シフトして多相検出する検出装置をモノリシック構成で小型化する。 - 特許庁

The change of the output of a laser beam oscillator 4 corresponding to the change of shifting speed of the laser beam machining head 2 accompanied with the above control is simultaneously performed.例文帳に追加

それに伴うレーザ加工ヘッド２の移動速度変更に見合ったレーザ発振器４の出力変更を併せて実行する。 - 特許庁

In the electron beam inspection device, a stage shifting speed can be adjusted irrespective of a limit of electron beam deflection frequency by scanning electron beam in the same direction (a horizontal direction) with a direction of scan-shifting of the stage.例文帳に追加

本発明による電子線検査装置では、ステージをスキャン移動させる方向と同一の方向（水平方向）にて電子線を走査させることで、電子線の偏向周波数の限界に関係なく走査数によりステージ移動速度が調整可能となる。 - 特許庁

This electron gun 23 is provided with a function for shifting a side beam outward in an electron gun electrode as an electron beam is deflected to the screen periphery.例文帳に追加

電子銃２３に、電子ビームが画面周辺へ偏向されるに従い、電子銃電極内でサイドビームを外側にずらす機能を持たせる。 - 特許庁

In the laser beam machining apparatus 1, firstly, the laser beam (short pulse beam) 7 from a high intense laser beam 2 is set so as to condense under a material S to be machined, fixed to a stage 5 for precisely shifting through a beam positional adjusting part 3 and an objective lens 4.例文帳に追加

レーザ加工装置１では、先ず、高強度レーザ２からのレーザ光（短パルス光）７を、ビーム位置調整部３及び対物レンズ４を介して、精密移動用ステージ５に固定された被加工材料Ｓの下で集光するようにセットする。 - 特許庁

By this method, a pair of the pulse beam PL roughly shifting by the set time difference t1 are generated from the first/second laser beam oscillation devices 11, 12.例文帳に追加

これにより、第１及び第２レーザ発振装置１１、１２からほぼ設定時間差ｔ1だけずれた一対のパルス光ＰＬを発生させることができる。 - 特許庁

The patterned phase shifting layer is comprised of a material of differing composition than the mask substrate and is of thickness sufficient to shift the phase of an energy beam passing through the thickness of the phase shifting layer and the mask substrate by 180°, compared to the phase of the energy beam passing through the phase shifting layer openings and the mask substrate.例文帳に追加

パターン化された位相シフト層は、位相シフト層およびマスク基板の厚さを通過するエネルギー・ビームの位相を、位相シフト層の開口およびマスク基板を通過するエネルギー・ビームの位相に比べて１８０°シフトさせるのに十分な厚さをもち、マスク基板とは異なる組成の材料からなる。 - 特許庁