silicifiedとは 意味・読み方・使い方

The nitrogen can also be introduced to the silicified portion of the semiconductor layer before the cobalt silicide film 10a is formed.例文帳に追加

窒素は、コバルトシリサイド膜の形成前に、半導体層のうちシリサイド化される部分に導入してもよい。 - 特許庁

In the same manner, a gate electrode 3a at the nMOS formation region is silicified fully by a prescribed amount of metal.例文帳に追加

そして、これと同様の手順でｎＭＯＳ形成領域のゲート電極３ａを所定量の金属でフルシリサイド化する。 - 特許庁

Then the titanium layer 8 on a non-silicified silicide block layer 7 is removed by wet etching as shown in Fig. (c).例文帳に追加

そして、図３（ｃ）に示すように、シリサイド化されていないシリサイドブロック層７上のチタン層８をウエットエッチングして除去する。 - 特許庁

The movable electrode 60 is silicified by high melting point metal such as tungsten or molybdenum, etc. and a silicide part 65 is formed.例文帳に追加

可動電極６０は、タングステンまたはモリブデンなどの高融点金属によりシリサイド化されてシリサイド部分６５が形成されている。 - 特許庁

If so doing, when the Ni film 2 is silicified, the graphite layer 5 can be chemically coupled to the Ni silicide film 3.例文帳に追加

このようにすれば、Ｎｉ膜２をシリサイド化したときに、グラファイト層５がＮｉシリサイド膜３と科学的に結合されるようにすることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which the entirety of the surfaces of the source and the drain and the gate electrode of a MOSFET are simultaneously silicified.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴのソース・ドレインの表面とゲート電極の全部を同時にシリサイド化する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon carbide semiconductor device and its manufacturing method, capable of eliminating the need for managing completion of a process of removing a carbon system by-product and a silicified contact base metal, suitably removing the carbon system by-product and the silicified contact base metal, and preventing peeling of a conductive film.例文帳に追加

炭素系副産物および珪化したコンタクト母材膜を除去する工程の終了を時間で管理する必要がなく、炭素系副産物および珪化したコンタクト母材膜を適切に除去し、導体膜の剥離をより防止できる炭化珪素半導体装置とその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The first gate electrode 33 is a metal gate electrode having a metal film 14a, and the second gate electrode 43 is a full-silicified gate electrode comprising a silicide film 26b.例文帳に追加

第１のゲート電極３３は、金属膜１４ａを有するメタルゲート電極であり、第２のゲート電極４３は、シリサイド膜２６ｂからなるフルシリサイド化ゲート電極である。 - 特許庁