surface treatmentsとは 意味・読み方・使い方

To provide a method capable of making a plating film of high adhesion without subjecting to complex chemical pretreatments (surface preparation treatments).例文帳に追加

密着性の高いメッキ膜を煩雑な化学的前処理（下地処理）を施すことなく作製し得る方法を提供すること。 - 特許庁

Different types of surface treatments are applied to the claw parts 3a and the frame parts 3b to increase the cleanability.例文帳に追加

そして爪部３ａと枠部３ｂとに異なる種類の表面処理を施すことにより、掃除性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a surface treatment apparatus and a surface treatment method capable of performing a plurality of surface treatments of a work with the minimum common power even when performing the surface treatment by using a plurality of gases.例文帳に追加

複数種類のガスを用いて表面処理を行う場合でも、最小の共通電力で被処理体に対して複数の表面処理を行うことが可能な表面処理装置、表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

A base material part 10 composing the body of a reel for fishing is made of a magnesium alloy, and the surface of the base material part 10 has been subjected to various surface treatments.例文帳に追加

釣り用リールのリール本体を構成する基材部１０は、マグネシウム合金製であり、基材部１０の表面には各種の表面処理が施されている。 - 特許庁

To provide a surface treatment device capable of applying surface treatments such as deburring and removal of dross of both (top and bottom) surfaces of an object to be treated with a simple device structure.例文帳に追加

簡単な装置構成で、処理対象の表裏両面のバリ取りやドロス除去などの表面処理を行うことができる表面処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment device, treatment method, and surface treatment jig, capable of applying different treatments to one treated surface and the other exposed surface which is arranged on the outer periphery thereof.例文帳に追加

一の被処理面と、被処理面の外周に配置された他の露出面とに、それぞれ別々の処理を施すことができる処理装置および処理方法、ならびに、表面処理治具を提供する。 - 特許庁

By the two treatments, the abrasive grain buried in the polishing surface plate can be made in the state that the projection height from the surface of the surface plate is large and unevenness of the height is reduced.例文帳に追加

このふたつの処理によって、研磨定盤に埋め込まれた砥粒は定盤表面からの突き出し高さが大きく、しかもその高さばらつきの少ない状態にすることが可能になった。 - 特許庁

The substrate for the magnetic disk manufactured by these treatments has minute irregularities which is 0.4 to 3.0 nm in the average surface height Ra on its surface and ≤14 in the ratio of the ten point average surface height (Rz) of the substrate surface to the average surface high (Ra) of the substrate surface.例文帳に追加

これらの処理により作製された磁気ディスク用基板は、その表面の平均面粗さＲａが０．４〜３．０ｎｍで、かつ基板表面の平均面粗さ（Ｒａ）に対する基板表面の１０点平均面粗さ（Ｒｚ）の比が１４以下である微小凹凸を有する。 - 特許庁