ultimate temperatureとは 意味・読み方・使い方

To improve the limit in utilization in an ultimate environment caused by brittleness of the strength of an interface between a diamond surface and a metal piece and of the metal piece itself in a high temperature or in chemicals.例文帳に追加

ダイヤモンド表面と金属片との界面の強度、金属片自身の高温ないし薬品中での脆弱性による極限環境での利用の制限を改善する。 - 特許庁

The detection means 23 includes a first detection means 40 for detecting the ultimate pressure of the depressurization means 3 and a second detection means 41 for detecting the temperature of the specimen water.例文帳に追加

前記検出手段２３は、前記減圧手段３の到達圧力を検出するための第一検出手段４０と、試料水の温度を検出するための第二検出手段４１とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a toner securing ultimate low-temperature fixing property, preventing property for winding of a recording medium during fixing, high temperature storage property, pressure-resistant storage property, developing stability and applicability to fast printing, and to provide a developer, a process cartridge, an image forming apparatus and an image forming method using the toner.例文帳に追加

究極の低温定着性、耐定着巻き付き防止性、耐熱保存性、耐圧保存性、現像安定性、及び高速印字対応性を確保したトナー、並びに該トナーを用いた現像剤、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び画像形成方法の提供。 - 特許庁

This cryopump is provided with the cryopanel at least of which a surface is made out of a porous metallic material, and the cryopanel is cooled by a cryogenic refrigerator having an ultimate temperature of less than 4.2 K.例文帳に追加

クライオポンプの構成を、少なくとも表面が多孔質化された金属材料によってクライオパネルが形成され、このクライオパネルが到達温度４．２Ｋ未満の極低温冷凍機によって冷却される構成とする。 - 特許庁

To obtain a light source device with a structure for satisfying a down-sizing need asked of a light source device and well cooling a lamp going beyond an ultimate temperature from a compact liquid crystal projector such as a mobile or an ultra-mobile system and with a reflecting mirror strong enough against heat generated.例文帳に追加

モバイル系やウルトラモバイル系の様なコンパクトな液晶プロジェクタから、光源装置に求められる小型化要求を満足させ、また極限温度を越えるランプを充分冷却出来る構造、且つ発生する熱に対しても充分強固な反射鏡を用いた光源装置を得る。 - 特許庁

The method of manufacturing the silicon wafer includes the rapid-heating and rapid-cooling heat treatment on the silicon wafer manufactured from a silicon single-crystal ingot grown in a Czochralski method at a maximum ultimate temperature (T_1) of 1,300 to 1,380°C in an oxidizing gas atmosphere of 20 to 100% in oxygen gas partial pressure.例文帳に追加

チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶インゴットから製造されたシリコンウェーハに対して、酸素ガス分圧が２０％以上１００％以下である酸化性ガス雰囲気中、最高到達温度（Ｔ_１）１３００℃以上１３８０℃で、急速加熱・急速冷却熱処理を行う - 特許庁

The concentration of dissolved gas in the specimen water is determined based on a signal from the photoelectric sensor 22, on the ultimate pressure of the depressurization means 3, and on the temperature of the specimen water.例文帳に追加

そして、前記減圧手段３の到達圧力および試料水の温度を検出するための検出手段２３を備え、前記光電センサ２２からの信号，前記減圧手段３の到達圧力および試料水の温度に基づいて試料水の溶存気体濃度を判定する。 - 特許庁

The film is formed by applying a treating liquid which is a treating liquid containing the water-soluble chromium compound and the calcium and containing (i) 0.1 to 50 g/l hexad chromium ions and (ii) 1 to 50 g/l calcium on the surface of the galvanized steel sheet and heating the steel sheet to a range of the ultimate sheet temperature 60 to 300°C without washing.例文帳に追加

前記皮膜は、亜鉛系めっき鋼板の表面に、水溶性クロム化合物とカルシウムを含む処理液であって、該処理液中に、(i)６価クロムイオンを0.1〜50g/lと、(ii)カルシウムを1〜50g/l含む処理液を塗布し、水洗することなく最高到達板温60〜300℃の範囲で加熱して形成する。 - 特許庁