zinc etchingとは 意味・読み方・使い方

To provide an etching method for a thin film composed of zinc-oxide based crystal, wherein the method suppresses side etching and anisotropic etching, and suppresses occurrence of etching residues, not depending on coarseness or fineness of wiring patterns and on pattern geometry, while the method performs etching treatment with the optimum etching rate.例文帳に追加

酸化亜鉛系結晶からなる薄膜のエッチングにおいて、最適なエッチング速度でエッチング処理を施すことができ、配線パターンの粗密やパターン形状に依存せず、サイドエッチングや異方性エッチングを抑制し、且つエッチング残渣の発生を抑制するエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To hardly cause side etching to a semiconductor thin film made of a zinc oxide which is to be pattern formed.例文帳に追加

パターン形成される酸化亜鉛からなる半導体薄膜にサイドエッチングが生じにくいようにする。 - 特許庁

As the etching solution of a zinc oxide film there is used one where isopropyl alcohol (IPA) is added to an aqueous phosphoric acid solution.例文帳に追加

酸化亜鉛膜のエッチング液として、リン酸水溶液にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を添加したものを用いる。 - 特許庁

The etching method includes a first process (S1) for etching the zinc oxide-based material by a solution containing oxalic acid and a second process (S2) for removing etching residues generated in the first process by using an alkaline solution.例文帳に追加

蓚酸を含有する溶液で酸化亜鉛系材料をエッチングする第１の工程（Ｓ１）と、アルカリ性溶液を用いて、前記第１の工程におけるエッチング残渣を除去する第２の工程（Ｓ２）を有している。 - 特許庁

First, an antioxidant layer is provided by forming a zinc layer on the connection pad or by selectively etching the connection pad.例文帳に追加

先ず、亜鉛層が接続パッドに形成されるか接続パッドを選択的エッチングすることで抗酸化層を形成する。 - 特許庁

To provide a zinc oxide-based transparent conductive film and its patterning method whereby patterning characteristics can be improved by adjusting the etching rate of the zinc oxide-based transparent conductive film.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜のエッチングレートを調整してパターニング特性を向上させることができる酸化亜鉛系透明導電膜及びそのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A dry etching method has: a process for performing the pattern formation of resist on a member to be etched made of a substance containing zinc oxide; and a process for etching the member to be etched by gas containing reducing gas.例文帳に追加

酸化亜鉛を含む物質からなる被エッチング部材の上にレジストをパターニング形成する工程と、還元性ガスを含むガスを用いて前記被エッチング部材をエッチングする工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A transparent conductor film mainly formed of indium tin oxide or indium zinc oxide is etched with the composition of etching liquid for conductor film.例文帳に追加

本発明の導電膜用エッチング液組成物を用いて、酸化インジウム錫または酸化インジウム亜鉛を主たる成分とする透明導電膜のエッチングを行う。 - 特許庁