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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "of a Ge"に関連した英語例文

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"of a Ge"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 14



例文

An epitaxial layer, including a plurality of p-n junctions, is formed on the surface of a Ge substrate.例文帳に追加

Ge基板の表面に、複数のpn接合を含むエピタキシャル層が形成される。 - 特許庁

To form a Ge oxide film on a surface of a Ge substrate without generating an in-film deficit.例文帳に追加

膜中欠損を生じさせることなくGe基板の表面にGe酸化膜を形成する。 - 特許庁

To form an excellent Ge oxide film on a boundary surface of a Ge substrate and an insulating film.例文帳に追加

Ge基板と絶縁膜との界面に、良好なGe酸化膜を形成する。 - 特許庁

The Ge nanocrystal (510) is synthesized through quick thermal annealing of a Ge+SiO_2 layer (516) sputtered simultaneously.例文帳に追加

Geナノ結晶(510)は、同時スパッタリングされたGe+SiO_2層(516)の急速熱アニールにより合成される。 - 特許庁

例文

On the opposite sides of the gate electrode 13, an NiGe layer 15 which is a Germanide layer composed of NiGe is formed on the surface layer of a Ge substrate 2.例文帳に追加

ゲート電極13の両側におけるGe基板2の表層には、NiGeで構成されたGermanide層であるNiGe層15が形成されている。 - 特許庁


例文

The inorganic recording film 6 is formed by consecutively performing a step of film-depositing a metallic film 2 made of Ti and a step for film-depositing an oxide film 3 made of a Ge oxide.例文帳に追加

Tiからなる金属膜2を成膜する工程と、Ge酸化物からなる酸化物膜3を成膜する工程とを連続して行って無機記録膜6を作製する。 - 特許庁

The structure consists of a Ge absorbing layer on a thin SOI substrate, and utilizes isolation regions, alternating n- and p-type contacts, and low-resistance surface electrodes.例文帳に追加

本構造は、薄いSOI基板の上のGe吸収層から成り、分離領域、交互になるn型およびp型コンタクト、および低抵抗表面電極を利用する。 - 特許庁

From a surface of an insulating film (High-k film) 32 of a Ge substrate 31 for which the insulating film 32 is laminated on an upper surface, plasma of process gas containing oxygen-atom-containing gas is radiated.例文帳に追加

上面に絶縁膜(High−k膜)32が積層されたGe基板31の絶縁膜32の表面から、酸素原子含有ガスを含む処理ガスのプラズマを照射する。 - 特許庁

When a built-in acceleration field by the inclination of a Ge composition rate is present to a certain degree, electrons injected from the emitter are sufficiently accelerated and the excellent high frequency characteristics are maintained as well.例文帳に追加

Ge組成率を傾斜させていることによる作り付けの加速電界がある程度存在していれば、エミッタから注入された電子を十分に加速でき、高周波特性も良好に維持される。 - 特許庁

例文

The low refractive layers 4, 14, 8 and 18 are formed of a fluoride film, the intermediate refractive layers 5, 15, 7 and 17 are formed of a ZnS film or ZnSe film, and the high refractive layer 6 and 16 is formed of a Ge film.例文帳に追加

前記低屈折層4、14、8、18はフッ化物膜からなり、前記中間屈折層5、15、7、17はZnS膜又はZnSe膜からなり、且つ前記高屈折層6、16はGe膜からなる。 - 特許庁

例文

The present invention relates to a device having a substrate including a silicon substrate having a porous top layer, a second layer on the top layer formed of a Ge material, and the other layer on the second layer formed of a group-III nitride material.例文帳に追加

本発明は、ポーラス状の最上層を有するシリコン基板を含む基板と、 上記最上層上の、Ge材料からなる第2層と、 上記第2層上の、III族窒化物材料からなる別の層とを有する装置に関する。 - 特許庁

Thus, a substitution of a Ge atom to a Ga atom position and a suppression of generation of an N vacancy are sufficiently executed, and hence an activity as a toner of an impurity Ge atom can be improved.例文帳に追加

これによりGe原子のGa原子位置への置換と、N原子の空孔発生の抑制を十分に行い、不純物Ge原子のドナーとしての活性を向上させることができる。 - 特許庁

The antireflection film comprises a laminate of an Y2O3 film and a layer composed of a material having refractive index of √(ns) where ns is the refractive index of GaAs and a layer having refractive index of ns/n above where is the refractive index of that layer, or a laminate of a Ge film and a ZnS film.例文帳に追加

反射防止膜としては、Y_2O_3膜、GaAsの屈折率をn_sとして屈折率が√(n_s)より小さい材料よりなる層と、この層の屈折率をnとして屈折率がn_s/nよりも大きい層との積層膜、又は、Ge膜とZnS膜との積層膜を適用する。 - 特許庁

例文

To improve electron and hole mobilities in a channel party by employing a distorted Si/SiGe structure (or distorted Si/SiGeC structure), to keep the crystallinity of such a heterostructure in a proper condition, to prevent shortening of an effective channel length and diffusion of a Ge, and to reduce the resistance of the source layer and chain layer.例文帳に追加

歪Si/SiGe構造(または歪Si/SiGeC構造)を採用してチャネル部分の電子移動度または正孔移動度の向上を行うと共に、かかるヘテロ構造の結晶性を良好な状態に保ち、実効チャネル長の短縮を防ぎ、Geの拡散を防ぐと共に、ソース層およびドレイン層の抵抗を低くする。 - 特許庁

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