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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "patterning method"に関連した英語例文

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"patterning method"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 426件



例文

PATTERNING METHOD FOR SILICON NANOPARTICLE AND ORGANIC MOLECULE USED FOR THE SAME例文帳に追加

シリコンナノパーティクルのパターニング方法及びこの方法に用いる有機分子 - 特許庁

FINE PATTERNING METHOD USING AZOBENZENE-FUNCTIONALIZED POLYMER AND METHOD OF MANUFACTURING NITRIDE-BASED SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE USING THE FINE PATTERNING METHOD例文帳に追加

アゾベンゼン基ポリマーを利用した微細パターニング方法、及び前記微細パターニング方法を利用した窒化物系半導体発光素子の製造方法 - 特許庁

SOFT MOLD, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND PATTERNING METHOD USING THE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ソフトモールド及びその製造方法並びにこれを利用したパターニング方法 - 特許庁

PHOTOMASK, PATTERNING METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE PROVIDED WITH RECESS, AND SUBSTRATE PROVIDED WITH RECESS例文帳に追加

フォトマスク、パターニング方法、凹部付き基板の製造方法および凹部付き基板 - 特許庁

例文

WIRING, ITS PATTERNING METHOD, DISPLAY PANEL, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

配線及びそのパターニング方法並びにディスプレイパネル及びその製造方法 - 特許庁


例文

CURABLE COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, NANOIMPRINT MOLDING AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

ナノインプリント用硬化性組成物、ナノインプリント成形体及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF THIN FILM, METHOD AND DEVICE OF MANUFACTURING PLATE DISPLAY ELEMENTS例文帳に追加

薄膜のパターニング方法と平板表示素子の製造方法及び装置 - 特許庁

To provide a fine patterning method using an azobenzene-functionalized polymer and a method of manufacturing a nitride-based semiconductor light emitting device using the fine patterning method.例文帳に追加

アゾベンゼン基ポリマーを利用した微細パターニング方法、及び微細パターニング方法を利用した窒化物系半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

COATING STRUCTURE FOR VEHICLE, VEHICLE MOUNTED ANTENNA, AND ANTENNA PATTERNING METHOD FOR VEHICLE例文帳に追加

車両用塗膜構造、車載アンテナ、車両用アンテナパターン形成方法 - 特許庁

例文

PATTERNING METHOD OF LAYER CONTAINING MATERIAL WHICH IS SENSITIVE TO WATER OR ACTIVE HYDROGEN例文帳に追加

水又は活性水素に敏感な材料を含む層をパタ—ン化する方法 - 特許庁

例文

PATTERNING METHOD OF COLOR CONVERSION LAYER, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL-DISPLAY例文帳に追加

色変換層のパターニング方法および有機ELディスプレイの製造方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF THIN FILM, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DEVICE, CIRCUIT BOARD, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜のパターニング方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、回路基板及び電子機器 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF SEMICONDUCTOR LAYER, ELECTRONIC ELEMENT, ELECTRONIC ELEMENT ARRAY, DISPLAY例文帳に追加

半導体層のパターン形成方法及び電子素子、電子素子アレイ、表示装置 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF CONDUCTIVE FILM AND PANEL TYPE INPUT DEVICE HAVING THE CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

導電膜のパターニング方法及び導電膜を有するパネル型入力装置 - 特許庁

To provide a patterning method by which retrogression of a desired pattern is suppressed at etching of an unnecessary pattern in patterning method using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたパターン形成において、不要パターンをエッチングする際に所望パターンの後退を抑制することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING PAD PATTERNS USING SELF-ALIGN DOUBLE PATTERNING METHOD, PAD PATTERN LAYOUT FORMED USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING CONTACT HOLES USING SELF-ALIGN DOUBLE PATTERNING METHOD例文帳に追加

セルフアラインダブルパターニング法を使用したパッドパターンの形成方法、それによって形成されたパッドパターンレイアウト、及びセルフアラインダブルパターニング法を使用したコンタクトホールの形成方法 - 特許庁

To provide a patterning method capable of forming a desired micropattern on a substrate to be processed, and to provide a mask being used in that patterning method and an aligner.例文帳に追加

被加工基板に所望の微細パターンを形成することのできるパターン形成方法並びにこのパターン形成方法に使用されるマスクおよび露光装置を提供する。 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND TRANSPARENT CONDUCTIVE PATTERN FILM OBTAINED BY THE SAME METHOD例文帳に追加

透明導電膜のパターニング方法及び該方法による透明導電パターン膜 - 特許庁

PATTERNING METHOD, PRODUCING METHOD FOR THIN FILM DEVICE AND PRODUCING METHOD FOR THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

HYDROXY-CONTAINING MONOMER, POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

水酸基を有する単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

MASK FORMING METHOD, PATTERNING METHOD FOR THIN FILM AND MANUFACTURING METHOD OF MICRO DEVICE例文帳に追加

マスク形成方法、パターン化薄膜形成方法およびマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁

EJECTING METHOD OF DISPENSER FOR HIGH VISCOSITY SUBSTANCE AND PATTERNING METHOD EMPLOYING IT例文帳に追加

高粘度物質用ディスペンサーの吐出方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEM AND IMMERSION PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

液浸リソグラフィシステムおよび半導体集積回路の液浸フォトリソグラフィパターニング方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING OXIDE FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加

酸化膜パターンの形成方法及びこれを用いた半導体素子のパターニング方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD, ORGANIC ELECTRIC ELEMENT, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR TRANSISTOR例文帳に追加

パターニング方法、有機電気素子、有機電界発光素子、及び有機半導体トランジスタ - 特許庁

A second Schottky barrier electrode 30b is formed by the patterning method or the like.例文帳に追加

そして、パタニング法等により、第二のショットキー障壁電極30bを形成する。 - 特許庁

POLYMERIZABLE MONOMER COMPOUND, PATTERNING METHOD, AND RESIST COMPOSITION USED IN THE METHOD例文帳に追加

重合性モノマー化合物、パターン形成方法並びにこれに用いるレジスト材料 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF THIN FILM, ELECTRONIC MATERIAL THIN FILM, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY例文帳に追加

薄膜のパターニング方法、電子材料薄膜、及び有機電界発光表示装置 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM, METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM PATTERN AND PATTERNING METHOD FOR THIN FILM例文帳に追加

薄膜の形成方法、薄膜パターンの形成方法および薄膜のパターニング方法 - 特許庁

LINE PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, AND ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

線パターン形成方法、デバイスとその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE HAVING TRANSPARENT ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, LASER PATTERNING APPARATUS, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

透明導電膜を有する基板の製造方法、レーザパターニング装置およびパターニング方法 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING, METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

TRANSFER PRINT PATTERNING METHOD AND GLASS WITH PRINT PATTERN FORMED THEREON USING THE SAME例文帳に追加

転写式印刷パタ—ン形成方法及びこれにより印刷パタ—ンが形成されたガラス - 特許庁

TWO-DIMENSIONAL PATTERNING METHOD, ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE例文帳に追加

二次元パターニング方法ならびにそれを用いた電子デバイスおよび磁気デバイスの作製方法 - 特許庁

THIN FILM PATTERNING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

DIELECTRIC LAYER PATTERNING METHOD, THIN FILM EL ELEMENT MANUFACTURING METHOD AND THIN FILM EL ELEMENT例文帳に追加

誘電体層のパターニング方法、薄膜EL素子の製造方法および薄膜EL素子 - 特許庁

To provide a speedy and inexpensive high-resolution patterning method for manufacturing electronic devices.例文帳に追加

電子装置の製造のための速やかで廉価な高解像度パターニング方法を提供する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

電磁波シールドフィルムの製造装置、電磁波シールドフィルムの製造方法及びパターン生成方法 - 特許庁

PHOTOACID GENERATING MATERIAL, AND PHOTOLITHOGRAPHIC MATERIAL, PHOTO-PATTERNING METHOD OR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE SAME例文帳に追加

光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー - 特許庁

PATTERNING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTRIC CIRCUIT, DISPLAY MODULE, COLOR FILTER AND LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加

パターン形成方法、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COLORED COMPOUND, NEW PHTHALOCYANINE COMPOUND AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性着色化合物、新規なフタロシアニン化合物およびそれらを用いたパターンニング方法 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF EUV MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF EUV PHOTOMASK, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

EUVマスクブランクスの検査方法、EUVフォトマスクの製造方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING METHOD, AND FULLERENE DERIVATIVE例文帳に追加

レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体 - 特許庁

THIN-FILM PATTERNING METHOD, AND MANUFACTURING METHODS OF THIN-FILM DEVICE AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD FOR HIGHLY FINE RIB, PATTERNING METHOD FOR LOW MELTING POINT GLASS, MOLDING METHOD FOR HIGHLY FINE RIB MADE OF LOW MELTING POINT GLASS, AND ETCHING COATING USED FOR PATTERNING OF HIGHLY FINE RIB例文帳に追加

高精細リブのパターニング方法、低融点ガラスのパターニング方法及び低融点ガラスから成る高精細リブの成形方法、並びに前記高精細リブのパターニングに用いるエッチング用皮膜 - 特許庁

PATTERNING METHOD FOR INSULATING LAYER, INSULATING LAYER MANUFACTURED BY THE SAME METHOD AND DISPLAY ELEMENT COMPRISING IT例文帳に追加

絶縁層のパターニング方法、該方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子 - 特許庁

The present invention provides also a patterning method for the monomolecular film using the control method.例文帳に追加

また、本発明は、前記制御方法を用いる単分子膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which occurrence of poor processing of a wafer can be prevented.例文帳に追加

基板への処理不良の発生を防止することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

PATTERNING METHOD AND ORIGINAL MASK FOR PROXIMITY EXPOSURE TO BE USED FOR THE METHOD, AND COLOR FILTER SUBSTRATE例文帳に追加

パターンニング方法とこれに用いられる近接露光用の原版マスク、およびカラーフィルタ基板 - 特許庁




  
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