「"patterning method"」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.例文帳に追加

高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist material capable of suppressing pattern defects of a chemically amplified resist film caused by base species from outside, and to provide a patterning method using the same.例文帳に追加

外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

In the patterning method for plating, the surface of a substrate is etched, irradiated with plasma using a pattern mask together, and then subjected to catalyst treatment and electroless plating.例文帳に追加

基材表面をエッチングした後、パターンマスクを併用して該基材表面にプラズマ照射し、次いで、キャタリスト処理を行った後、無電解めっきを行うめっきのパターニング方法。 - 特許庁

To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).例文帳に追加

形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine structure patterning method capable of preparing a uniform pattern into large area by easily solidifying various kinds and properties of substance fluids.例文帳に追加

簡便に、様々な種類、性質の物質流体を固化させることで均質なパターンを大面積に作製することのできる新しい微細構造パターニング方法を提供する。 - 特許庁

PATTERNING DEVICE, PATTERNING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC ELEMENT, METHOD OF MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTROOPTICAL DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

パターニング装置、パターニング方法、電子素子の製造方法、回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、及び電子機器 - 特許庁

To provide a patterning method for an aluminum shape having a pattern with a sense of natural texture or a three-dimensional and geometric pattern, and an aluminum shape obtained thereby.例文帳に追加

自然の風合い感のある模様や立体感のある幾何学的模様を備えたアルミニウム形材の模様付け方法と、それにより得られたアルミニウム形材を提供する。 - 特許庁

To form a device pattern of uniform thickness on a substrate while reducing the production process and production cost in a device patterning method employing a liquid ejection head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドを用いたデバイスパターン形成方法において、製造工程および製造コストを抑えつつ、基板上に均一な膜厚のデバイスパターンを形成可能にする。 - 特許庁

To provide a patterning method for easily forming a fine pattern on a surface having a three-dimensional spread, a wiring substrate using the method, and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加

容易に３次元的な広がりを持った面に対し微細パターンを形成することができるパターン形成方法、該方法を用いた配線基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To eliminate difference in the adhesiveness of a resin to a substrate due to a variation in the standby time from the end of development to a heating step and to provide a stable patterning method.例文帳に追加

現像終了から加熱工程までの待機時間の違いによる樹脂と基板との接着性の差を無くし安定なパターン加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color filter for obtaining a colored pattern of higher resolution in comparison with a conventional method while keeping or lowering resolution required for a patterning method.例文帳に追加

パターニング法に求められる解像度を維持もしくは抑えつつ、従来より高い解像度の着色パターンが得られるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method of high production efficiency in high precision of an organic semiconductor layer or a thin film such as a conductive film, and to provide an organic TFT of high performance of high mobility and a method of manufacturing the organic TFT of high production efficiency in high precision.例文帳に追加

本発明の目的は、有機半導体層、または導電膜等薄膜の高精度で生産効率の高いパターニング方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a patterning method for manufacturing a semiconductor device that can compensates for process deviation and further can minimize rework in a patterning process.例文帳に追加

工程偏差を補償することができ、しかもパターニング工程での再作業を最小化することができる半導体装置の製造のためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING MATERIAL, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING METHOD, PATTERNED FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

When embossing and lifting off are used as the patterning method of a flexible substrate provided in a PIRM module, the manufacturing process of the module can be simplified remarkably.例文帳に追加

モジュール内のフレキシブル基板のためのパターニング方法として、エンボスおよびリフトオフを用いることにより、ＰＩＲＭモジュールの製造工程を著しく簡単にすることができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive layer in which the conductive layer can be formed selectively in a predetermined region without using an etching as a patterning method.例文帳に追加

パターニング方法としてエッチングを用いることなく、導電層を所定の領域に選択的に形成することができる導電層の形成方法を提供する。 - 特許庁

In addition, the manufacturing process of a digital circuit can be remarkably simplified when embossing lithography is used as the patterning method used on the flexible substrate.例文帳に追加

さらに、フレキシブル基板上で用いられるパターニング方法として、エンボス加工リソグラフィを用いることにより、デジタル回路の製造工程を著しく簡単にすることができる。 - 特許庁

SILSESQUIOXANE-BASED COMPOUND MIXTURE, HYDROLYZABLE SILANE COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND RESIST COMPOSITION USING THE SAME AND PATTERNING METHOD, AND PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加

シルセスキオキサン系化合物混合物及び加水分解性シラン化合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRIVING MOVABLE BODY, PATTERNING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE, POSITION CONTROL METHOD AND SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、位置制御方法及び位置制御システム、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a template with which a protrusion pattern of large area can be formed efficiently by NIL with high precision, and to provide a manufacturing method, a patterning method and a processing method.例文帳に追加

ＮＩＬにより効率良く且つ精度の良く大面積の凸部パターンの形成を可能とするテンプレートおよび製造方法、パターン形成方法、加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser radiating device capable of transferring an organic film layer pattern when forming it by using LITI (laser induced thermal imaging), capable of reducing damage to the organic film layer, and capable of enhancing the quality of the transferred organic film layer pattern, a patterning method, and a manufacturing method of an electroluminescent element using the patterning method.例文帳に追加

本発明は，ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成する時，低い強度を有するレーザーで転写が可能であって，有機膜層の損傷を減らすことができ，転写される有機膜層パターンの質も向上させることができるレーザー照射装置，パターニング方法，およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.例文帳に追加

タクトタイム（工程数）を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁

To provide a patterning method for forming lithography patterns which are mutually aligned accurately on the front and back surfaces of a substrate when lithographic patterning is carried out on each of the front and back surfaces of the substrate.例文帳に追加

基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

NEW COMPOUND AND METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, PRINTING UNIT, INK-JET PRINTER, PRINTING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERNING METHOD, ARTICLE, METHOD FOR SENSING ENVIRONMENTAL HISTORY AND PRINTING MEDIUM例文帳に追加

新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁

To provide a protective film forming composition suitable for liquid immersion exposure, the composition preventing decrease in the transmittance of an immersion liquid and degradation in a resist profile, and to provide a patterning method using the composition.例文帳に追加

液浸液の透過率が低下せず、レジストプロファイルが劣化しない、液浸露光に好適な保護膜形成組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a zinc oxide-based transparent conductive film and its patterning method whereby patterning characteristics can be improved by adjusting the etching rate of the zinc oxide-based transparent conductive film.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜のエッチングレートを調整してパターニング特性を向上させることができる酸化亜鉛系透明導電膜及びそのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method in which the number of steps in a double patterning method can be reduced and to provide a material for forming a coating film suitably used for the pattern forming method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which can achieve both excellent developability and excellent conformability to an immersion liquid, and a patterning method using the composition.例文帳に追加

優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method wherein, when etching a chemically stable material, the dry etching technique is mainly used while partially using the lift-off technique and thereby what is called the fence can be prevented and there is no overetching, and to provide a high-durability ink jet head using the same.例文帳に追加

化学的に安定な材料をエッチングする場合、ドライエッチングを主に、部分的にリフトオフをすることで、フェンスを防止し、オーバーエッチングのないパターン形成をする。 - 特許庁

To provide a patterning method for a multi-layered resist film and a manufacturing method for a semiconductor device that can improve reliability of the semiconductor device and shorten an etching stage.例文帳に追加

半導体装置の信頼性を向上させるとともに、エッチング工程を短縮化することが可能な、多層レジスト膜のパターニング方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

More concretely, an upper portion is etched by dry etching so that ITO thin film may leave about 50 nm, and etching is continued by wet etching and patterned in this patterning method.例文帳に追加

具体的には、ＩＴＯ薄膜を約５０ｎｍ残すように上部をドライエッチングによりエッチングによりエッチングし、連続してウェットエッチングによりエッチングしてパターニングを行うパターニングを方法。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of reducing a watermark defect and forming an excellently shaped resist pattern, and to provide a resist film using the same and a patterning method.例文帳に追加

ウォーターマーク欠陥を減少させると共に、良好な形状のレジストパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method for plating in which no resist is used and no influence is produced upon a pattern mask and which is capable of repeated use and requires relatively low equipment cost and can cope with the recent demand for finer pattern.例文帳に追加

レジストを用いることなしに、また、パターンマスクへの影響がなく、繰り返し使用が可能で設備コストが比較的小さく、微細なパターンに対応できるめっきのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

PATTERNING METHOD, FILM FORMING METHOD, PATTERNING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND COLOR FILTER, ELECTRO- OPTICAL DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRON DEVICE AND MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターニング方法、膜形成方法、パターニング装置、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子装置とその製造方法、及び電子機器 - 特許庁

To provide a thin film transistor fabricated by a patterning method having a capability of forming a semiconductor channel layer of a submicron order, and a manufacturing method having mass productivity adaptable to a large area.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの半導体チャネル層形成能力をもつパターニング方法により作製された薄膜トランジスタの提供、および大面積化に対応でき量産性のある製造方法を提供する。 - 特許庁

At this time, in a step for patterning the substance film, the substance film pattern is formed by using the patterning method including a plurality number of times of exposure processes that are individually performed to the respective patterning regions.例文帳に追加

このとき、物質膜をパターニングする段階は、前記パターニング領域各々に対して個別的に実施される複数回の露光工程を含むパターニング方法を使用して物質膜パターンを形成する。 - 特許庁

As a method for manufacturing the structure, a method for curing a resin material in a perforated state of the raw material of the separator, a photolithography method, a patterning method e.g. a screen printing method, an ink jet method, etc. and the like are used.例文帳に追加

また、該構造を製作する方法として、セパレータ原料に穿孔した状態で硬化させる方法、フォトリソグラフィ法、スクリーン印刷法、インクジェット法などによるオパターニング法などを用いる。 - 特許庁

To provided a patterning method and a pattern generation program which can generate a wiring pattern of a conductive film which can solve the problems of spreading of diffraction image, disconnection, and visibility of wiring.例文帳に追加

回折像の広がり、断線、配線視認性の問題を解消することができる導電性フイルムの配線パターンを生成することができるパターン生成方法及びパターン生成プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method that allows the reduction in tact time for pattern-forming, allows pattern layers and dielectric layers to be fired together, and is capable of reducing the total cost of pattern-forming.例文帳に追加

パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of patterning surfaces of tiles and potteries after firing without losing aesthetic property of pictures and calligraphy, and to provide an article capable of patterning.例文帳に追加

焼成後のタイルや陶磁器などの表面に絵柄を付けることができ、しかも絵画や書画などをその風合いを失わせずに描ける絵柄付け方法及び絵柄付け可能な物品を提供する。 - 特許庁

To provide a soft mold and a manufacturing method therefor which prevent that resin becomes hydrophobic since area is reduced in surfaces of a PDMS (polydimethylsiloxane) mold where organic substances are transferred, and to provide a patterning method using the manufacturing method.例文帳に追加

ＰＤＭＳモールドの表面において有機物が転移される表面積を低減して、樹脂が疏水性となるのを防止できる、ソフトモールド及びその製造方法並びにパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A patterning method for forming a straight grain pattern comprises the steps of lightly pressing a patterning tool having the above patterning material to a work piece coated with a grain patterning coating material and sliding the tool straightly.例文帳に追加

木目付け塗料を塗布した被加工材に対して、前記の模様付け材を備えた模様付け具を軽く押しつけてほぼ直線的に摺動させ、柾目模様を形成する模様付け方法。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.例文帳に追加

パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a patterning method of a film that simplifies the manufacturing process of an electron discharge element, can inexpensively manufacture an image forming apparatus having excellent display quality for a long term, and is made of carbon fibers.例文帳に追加

電子放出素子の作製プロセスを簡易化するとともに、長期に渡り表示品位に優れた画像形成装置を安価に製造し得るカーボンファイバーからなる膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist protective film material for forming a protective film on a photoresist film to protect the photoresist film in liquid immersion photolithography, and a patterning method using the material.例文帳に追加

本発明は、液浸フォトリソグラフィーにおいて、フォトレジスト膜を保護すべくフォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料及びこれらの材料を用いたパターン形成方法に関する。 - 特許庁