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"patterning method"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 426件
MICRO-PATTERNING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT OBTAINED BY SAME例文帳に追加
有機電界発光素子の微細パターン化方法、およびそれにより得られた有機電界発光素子 - 特許庁
This device 10 involves at least one sensor element 24 formed with direct patterning method.例文帳に追加
本装置(10)は、直接描画法によって形成された少なくとも1つのセンサ素子(24)を含む。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of forming a regular fine pattern in a short time.例文帳に追加
短時間で規則的な微細パターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
To provide a new pattern forming method for reducing the number of steps in a double-patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
PATTERNING METHOD, MASK SET, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
パターニング方法、マスクセット、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 - 特許庁
MASK PATTERN FORMING METHOD, PATTERNING METHOD USING MASK PATTERN, AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターンの形成方法、該マスクパターンを用いたパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
To provide a patterning method which can reduce the manufacturing cost by reducing the number of sheets of a photo mask.例文帳に追加
フォトマスクの枚数を低減して製造コストの低減が可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁
PATTERNING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY COMPONENT AND PLASMA DISPLAY USING THE SAME例文帳に追加
パターン形成方法、並びにこれを用いたプラズマディスプレイ部材およびプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁
To provide a patterning method capable of appropriately grouping the patterns in the same layer.例文帳に追加
同一レイヤーのパターンを適切にグループ化することが可能なパターン処理方法を提供する。 - 特許庁
POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND PATTERNING METHOD USING THE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL例文帳に追加
高分子化合物、化学増幅レジスト材料、該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of easily and efficiently carrying out patterning with high precision, and capable of controlling contrast owing to light emission brightness in the patterning method of an organic electroluminescent element.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス素子のパターン化方法において、高精細でのパターン化を簡易かつ効率的に行うことができ、かつ、発光輝度によるコントラストの制御が可能であるパターン化方法を提供する。 - 特許庁
PATTERNING SYSTEM, PATTERNING METHOD, AND SYSTEM AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT DISPLAY例文帳に追加
パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, PATTERNING METHOD, OPTICAL APPARATUS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
製膜装置、製膜方法、パターニング方法、光学装置の製造方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁
To enable formation of a desired pattern regardless of a density of the pattern when a double patterning method is used.例文帳に追加
ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。 - 特許庁
To provide a self-aligned spacer multiple patterning method which permits the formation of a high-density resist pattern.例文帳に追加
高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resist pattern for obtaining a favorable pattern by the double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法により良好なパターンを得ることができるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning method for reducing imperfect patterns of a semiconductor device due to contamination.例文帳に追加
本発明は、異物による半導体装置のパターン不良を低減するためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁
MULTI-LAYER PRINTED WIRING SUBSTRATE, PATTERNING METHOD THEREFOR, AND INSPECTION APPARATUS USING CHECK LAND例文帳に追加
多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置 - 特許庁
To provide a method of forming an oxide film pattern and a patterning method for a semiconductor device using it.例文帳に追加
酸化膜パターンの形成方法及びこれを用いた半導体素子のパターニング方法を提供する。 - 特許庁
OBSERVATION METHOD FOR ULTRAVIOLET PHOTOLYSIS PROCESS IN MONOMOLECULAR FILM, CONTROL METHOD FOR SURFACE DECOMPOSITION DEGREE, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
単分子膜の紫外線分解過程の観測方法、表面分解度の制御方法及びパターニング方法 - 特許庁
TRANSPARENT ELECTRODE AND ITS PATTERNING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
透明電極及び透明電極のパターニング方法及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁
To provide a patterning method and a patterning device which are advantageous for improving the TAT (turn around time).例文帳に追加
TAT(turn around time)の向上に対して有利なパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF ORGANIC EL SEMICONDUCTOR ELEMENT, ORGANIC EL SEMICONDUCTOR ELEMENT AND PATTERNING DEVICE OF ORGANIC LAYER例文帳に追加
有機EL半導体素子のパターニング方法、有機EL半導体素子、および、有機層のパターニング装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, TREATMENT DEVICE FOR PHOTOMASK SUBSTRATE, AND THIN FILM PATTERNING METHOD例文帳に追加
フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、フォトマスク基板用処理装置、及び薄膜パターニング方法 - 特許庁
LAMINATE FOR PRINTED WIRING BOARD, PATTERNING METHOD OF MULTILAYER METAL WIRING EMPLOYING IT, AND METAL THIN FILM例文帳に追加
プリント配線板用積層体、それを用いた多層金属配線パターン形成方法及び金属薄膜 - 特許庁
To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、1回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a resist treatment method in which an ultrafine pattern having satisfactory accuracy is formed from a resist composition for the first resist pattern formation in a multi-patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、1回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method such as a double patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、1回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a patterning method, a patterning apparatus, and a method of manufacturing a semiconductor device that can improve the throughput.例文帳に追加
スループットを向上できるパターン形成方法、パターン形成装置、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The patterning method of an organic EL element comprises radiating a laser beam on an organic EL element, and forming a light emitting pattern on the organic EL element.例文帳に追加
有機EL素子上にレーザビームを照射して、発光パターンを有機EL素子上に形成する。 - 特許庁
PATTERNING METHOD FOR FLUID-DISPERSIBLE MATERIAL ON SUBSTRATE, PERFORATED SHEET THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
流体分散可能物質を基板上にパターニングする方法とそのための有孔シート材及びその製造方法 - 特許庁
ETCHING LIQUID COMPOSITION AND PATTERNING METHOD OF CONDUCTIVE FILM USING THE SAME AND MANUFACTURING METHOD OF FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加
エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD FOR ULTRATHIN FILM CONTAINING TELLURIUM OXIDE AND ULTRATHIN FILM CONTAINING TELLURIUM OXIDE OBTAINED BY THE METHOD例文帳に追加
テルル酸化物を含む超薄膜のパターニング方法及びこれによって得られたテルル酸化物を含む超薄膜 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SURFACE ENERGY DIFFERENCE BANK, PATTERNING METHOD, BANK STRUCTURE, ELECTRONIC CIRCUIT, ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
表面エネルギ差バンクの形成方法、パターンの形成方法、バンク構造、電子回路、電子デバイス、および電子機器 - 特許庁
To provide a patterning method in which highly accurate patterning is possible, without affecting the performance of a display element.例文帳に追加
表示素子の性能に影響を与えることなく、高精度なパターニングの可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of enlarging a device and highly precisely forming a fine pattern without deteriorating characteristics of a thin film including an organic EL material, and to provide a device manufacturing method using the patterning method.例文帳に追加
有機EL材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning method, capable of enlargement and detailed fine patterning, without causing degradation of the thin-film characteristics of an organic EL material, or the like, as well as, to provide a manufacturing method of a device which uses the patterning method.例文帳に追加
有機EL材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning method for patterning in any place on a substrate and capable of being applied even when a patterning area is large or a substrate is flexible, and to provide a patterning device and a display element by the patterning method.例文帳に追加
基板上の任意の場所にパターンを形成でき、かつ、パターニング面積が大きくとも、基板がフレキシブルなものであっても対応可能なパターニング方法、および該パターニング方法によるパターニング装置、表示素子を提供する。 - 特許庁
To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁
RED CONVERSION FILTER, ITS PATTERNING METHOD, MULTI-COLOR CONVERSION FILTER CONTAINING THE RED CONVERSION FILTER AND ORGANIC EL DISPLAY例文帳に追加
赤色変換フィルタおよびそのパターニング方法、該赤色変換フィルタを含む多色変換フィルタおよび有機ELディスプレイ - 特許庁
PATTERN AND PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND PROCESS FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE例文帳に追加
パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁
SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMING SUBSTRATE AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
SILSESQUIOXANE-BASED COMPOUND MIXTURE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME MIXTURE AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING METHOD EACH USING THE SAME MIXTURE例文帳に追加
シルセスキオキサン系化合物混合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁
EXPOSURE DEVICE, ELECTROSTATIC CHUCK FOR REFLECTIVE EXPOSURE MASK, PATTERNING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
露光装置、反射型露光マスク用静電チャック、パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁
RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING THIS RESIST PATTERN, PATTERNING METHOD USING THIS RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加
レジストパターン、該レジストパターンの形成方法、該レジストパターンを用いたパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁
To provide a semiconductor device fine patterning method of forming by one photolithography step the same fine pattern as that by a conventional double patterning method to attain uniformity of pattern line widths and production cost reduction.例文帳に追加
1回のフォトリソグラフィ工程により、従来の二重パターニング法と同程度の微細パターンを形成することが可能で、パターンの線幅の均一性の確保及び製造コストの節減が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
PATTERNING METHOD OF FILM AND THIN-FILM TRANSISTOR MANUFACTURING METHOD, THIN-FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
膜のパターン形成方法、及び、薄膜トランジスタの製造方法、並びに、薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び薄膜トランジスタ基板 - 特許庁
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