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"patterning method"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 426件
To provide a patterning method using surface energy control in order to form a microscopic pattern utilizing an ink-jet method.例文帳に追加
インクジェット噴射方式を用いて微細パターンを形成するために表面エネルギー制御を用いたパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a new patterning method enabling scalable nano arrangement-wiring freely and easily.例文帳に追加
自由自在に、容易に、かつスケーラブルなナノ配列・配線を可能とする新規なパターニング方法を提供することを課題としている。 - 特許庁
To provide a patterning method in which alignment between layers is performed precisely when a pattern is formed using imprint lithography.例文帳に追加
インプリントリソグラフィを用いてパターン形成する際のレイヤ間の位置合わせを精度良く行なうパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which forms a second resist pattern into a fine and satisfactory shape on a first resist pattern in a double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング方法において、第1のレジストパターン上に第2のレジストパターンを微細且つ良好な形状に形成する。 - 特許庁
To provide a self-alignment patterning method that can be used to manufacture a plurality of thin film transistors on a substrate.例文帳に追加
本発明は、基板上に複数の薄膜トランジスタを製造するために用いることができる自己整合パターニング方法に関する。 - 特許庁
To provide a patterning method which enables the formation of a fine structure without using a high-resolution patterning process.例文帳に追加
高分解能のパターニング工程を用いることなく、微細構造体を形成することが可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁
PATTERNING METHOD FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER, ETCHING PASTE, PATTERN TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND FLEXIBLE FUNCTIONAL ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加
透明導電層のパターニング方法とエッチングペースト、及びパターン透明導電フィルム並びにそれを用いたフレキシブル機能性素子 - 特許庁
To provide a line patterning method to perform line working with a liner laser beam emitted from a LD bar alley.例文帳に追加
LDバーアレイから出射されるライン状のレーザー光によって均質にライン加工するラインパターンニング方法を提供する。 - 特許庁
POLYMERIZABLE COMPOSITION, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE LAYER, PERMANENT PATTERN, WAFER LEVEL LENS, SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 - 特許庁
MASK PATTERN DATA PRODUCING METHOD, PATTERNING METHOD, RETICLE CORRECTING METHOD, RETICLE MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクパターンデータ作成方法、パターン形成方法、レチクルの補正方法、レチクルの作成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
A patterning method is disclosed which includes steps of forming a resist film from the above negative resist composition and exposing and developing.例文帳に追加
また、これらのネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、露光、現像工程を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
ORGANIC SEMICONDUCTOR PATTERN, PATTERNING METHOD OF ORGANIC SEMICONDUCTOR LAYER, ORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY例文帳に追加
有機半導体パターン及び有機半導体層のパターニング方法、有機半導体装置及びその製造方法、並びに表示装置 - 特許庁
To provide patterning method which enables the highly precise patterning of a metal film, and a manufacturing method for a liquid jet head.例文帳に追加
金属膜を高精度にパターニングすることができるパターニング方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern measuring device for appropriately evaluating a pattern formed by a double patterning method prior to transfer using a mask, or appropriately evaluating the deviation of the pattern formed by the double patterning method.例文帳に追加
本発明は、ダブルパターニング法によって形成されるパターンの評価を、マスクを用いた転写前に適正に行うパターン測定装置、或いはダブルパターニング法によって形成されるパターンのずれの評価を適正に行うパターン測定装置の提供を目的とする。 - 特許庁
PATTERNING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE, COLOR FILTER, LIGHT EMITTER AND THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加
パターニング方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルターの製造方法、発光体の製造方法、並びに薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁
Then, the binary coded pattern index of inputted information is found in an input pattern index part 100 by the similar patterning method.例文帳に追加
そして、入力する情報の2進符号化パターン・インデックスを、同様のパターン化手法で、入力パターン・インデックス部100において求める。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURE ON SOLAR CELL, METALLIZATION CONTACT STRUCTURE, PATTERNING METHOD OF LAYER, AND METHOD FOR FORMING FUNCTIONAL STRUCTURE例文帳に追加
太陽電池上に多層電極構造を形成する方法、金属配線コンタクト構造、層のパターニング方法、機能構造の形成方法 - 特許庁
To provide a patterning method in which stock management of mask is not required, and a throughput higher than that of a direct imaging method can be attained easily.例文帳に追加
マスクの在庫管理が不要であり、ダイレクトイメージング法よりも高いスループットとすることが容易なパタン作製方法を提供する。 - 特許庁
METHOD OF NANO-PATTERNING USING SURFACE PLASMON, METHOD OF MANUFACTURING MASTER FOR NANO-IMPRINT AND DISCRETE TRACK MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING NANO-PATTERNING METHOD例文帳に追加
表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、それを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
To provide an etching liquid composition and a patterning method of a conductive film using the same and a manufacturing method of a flat panel display.例文帳に追加
本発明は、エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関する。 - 特許庁
As a result, the circuit can be formed at the internal surface of the insulating base material 4 in the three-dimensional shape with the patterning method using the electromagnetic wave.例文帳に追加
この結果、電磁波を用いたパターニング方法で立体形状の絶縁基材4の内面に回路形成を行なうことができる。 - 特許庁
To provide a new patterning method in which freedom of selection of the material is high and a film forming method, and a manufacturing method of an organic electroluminescent element using the above patterning method, and a manufacturing method of a color filter, and further an electro-optical device and its manufacturing method and an electronic equipment.例文帳に追加
特に材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、前記パターニング方法を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とカラーフィルタの製造方法、さらには電気光学装置とその製造方法、及び電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a fine patterning method capable of forming a sparse pattern while suppressing deformation and "tilting" by improving various tolerances of etching, and the like, utilizing the curing effect of vacuum UV-rays, and to provide a fabrication process of semiconductor device employing the fine patterning method.例文帳に追加
真空紫外線によるキュア効果を利用してエッチングなどの各種の耐性を改善し、変形や「倒れ」などを抑制できる疎なパターンを形成可能とした微細パターン形成方法及びこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a curable composition for imprints that exhibits good patternability in transferring high-aspect patterns or repeatedly transferring patterns and, particularly, repeatedly transferring high-aspect patterns, to provide a patterning method using the same, and to provide a pattern obtained by the patterning method.例文帳に追加
高アスペクトパターンを転写する際、または繰り返しパターン転写を行う際、更には高アスペクトパターンを繰り返し転写する際に良好なパターン形成を有するインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンの提供。 - 特許庁
To provide a patterning method of a conductive thin film, where resist and an etching liquid having a large environment load as in chemical etching are not used, damage is small and treatment time is short to a base and a conductive thin film having weak chemical resistance properties, in the plasma patterning method of the conductive thin film.例文帳に追加
導電性薄膜のプラズマパターニング方法において、ケミカルエッチングのように環境負荷の大きいレジストやエッチング液を使用せず、更に耐薬品性に弱い基材や導電性薄膜に対して、ダメージが少なく、処理時間の短い導電性薄膜のパターニング方法を提供すること。 - 特許庁
The patterning method comprised of such steps has a benefit that the pattern line width can be adjusted by adjusting the surface energy of the substrate.例文帳に追加
このように構成された本発明は、基板の表面エネルギーを調整してパターンの線幅を調整することができるという利点がある。 - 特許庁
To provide a self-align patterning method for forming patterns capable of forming fine pitch patterns by overcoming the resolution limit of a photolithography process.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程での解像限界を克服し微細ピッチのパターンを実現可能なパターン形成のためのセルフアラインパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning method using a contractile photoresist film in which a distance between pad electrodes can be set equal to a minimum necessary interval.例文帳に追加
収縮性フォトレジスト膜を使用した、パッド電極間の距離を最小必須間隔とすることの出来るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The patterning method on the semiconductor element may include a two-stage spacer formation step in order to provide ultra-fine line width and interval.例文帳に追加
半導体素子上のパターン形成方法は、微細ライン幅及び間隔を提供するために2段階のスペーサ形成工程を含むことができる。 - 特許庁
PLATING METHOD AND PATTERNING METHOD ON METAL-CERAMIC COMPOSITE MEMBER, WET TREATMENT APPARATUS AND METAL-CERAMIC COMPOSITE MEMBER FOR POWER MODULE例文帳に追加
金属セラミック複合部材に対するメッキ方法、パターン製造方法、および湿式処理装置、並びにパワーモジュール用金属セラミックス複合部材 - 特許庁
To provide a resist composition with which a pattern having a favorable feature can be formed, and to provide a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加
良好な形状のパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a mask for exposure that is suitable for highly integrated device pattern, a mask set for exposure, a method of manufacturing mask for exposure, and a film patterning method.例文帳に追加
高集積化されたデバイスパターンに適した露光用マスク、露光用マスクセット、露光用マスクの製造方法、及び膜のパターニング方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a patterning method of an optical element surface with which an even pattern is effectively formed on the surface of an optical element and quality of the patterning is enhanced.例文帳に追加
光学素子の表面に効率良く均一なパターンを形成してパターニングの品質を高める光学素子表面のパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To reduce fluctuation of a gap, mainly in a sealing portion of each panel obtained by a multi-panel patterning method and to reduce cost by improving display quality and yield.例文帳に追加
複数個取りで得られる個々のパネルの主にシール部の間隙バラツキを小さくし表示品質の向上と歩留まりの向上によるコストダウンの効果を得る。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THIS COMPOSITION例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁
Consequently, a high overlay accuracy of a pattern can be achieved even when a pattern is formed on a wafer by utilizing a double patterning method.例文帳に追加
これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁
METHOD FOR PATTERNING SELF-ASSEMBLED COLLOIDAL PHOTONIC CRYSTAL AND METHOD FOR FABRICATING 3-DIMENSIONAL PHOTONIC CRYSTAL WAVEGUIDE OF INVERTED-OPAL STRUCTURE USING THE PATTERNING METHOD例文帳に追加
コロイド自己組立光結晶のパターニング方法及びこれを利用した逆転されたオパール構造の3次元光結晶光導波路の製作方法 - 特許庁
PATTERNING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PIEZOELECTRIC DRIVING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
パターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子 - 特許庁
To provide a method for patterning a conductive layer, a method for manufacturing a polarizing element using the patterning method, and the polarizing element manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加
伝導性層のパターニング方法、その方法を用いた偏光素子の製造方法、およびその方法によって製造された偏光素子を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a non-volatile memory element and a patterning method to realize a stepped structure gate in the non-volatile memory element.例文帳に追加
本発明は、不揮発性メモリー素子の製造方法を提供し、不揮発性メモリー素子において階段形態のゲートを具現できるパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To reduce dispersion of a pattern dimension and a pattern shape, and to improve superposition accuracy in manufacturing a semiconductor device using superposition on a lower layer or a double patterning method.例文帳に追加
パターン寸法やパターン形状ばらつきの低減や下層との重ね合わせやダブルパターニング法を用いた半導体デバイス製造時の重ね合わせ精度向上。 - 特許庁
To provide a patterning method of an organic film capable of preventing stitching unevenness occurring between widths of laser beams due to limit of beam sizes of a laser.例文帳に追加
レーザのビームサイズ(幅)の限界によるレーザビームの幅間に発生するステッチングむらを防止することができる有機膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁
Thus, even when a pattern is formed on a wafer by using a double patterning method, it is possible to achieve the high overlay accuracy of the pattern.例文帳に追加
これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁
To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加
パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a patterning method using a liquid material while using an inkjet system, which directly forms a wiring pattern of a complicated shape on a substrate at a low cost and on-demand.例文帳に追加
インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、複雑形状の配線パターンを低コスト、オンデマンドに基板に直描すること。 - 特許庁
ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide a printed wiring patterning method in which a coating pattern can be efficiently formed in a place where a pattern of a conductive part is exposed.例文帳に追加
導電部分のパターンが露出している箇所について、被覆パターンの生成を効率的に行えるプリント配線パターン生成方法を提供する。 - 特許庁
To manufacture a vehicle protective film at low cost, while performing highly precise patterning, in a patterning method of the vehicle protective film and a vehicle protective film.例文帳に追加
車両用保護フィルムの型取り方法及び車両用保護フィルムにおいて、高精度な型取りを行うと共に車両用保護フィルムを安価にする。 - 特許庁
To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of a base material in the three-dimensional shape having the surfaces opposed with each other.例文帳に追加
対向面を有する立体形状の基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁
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