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overetchingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 オーバエッチング
「overetching」を含む例文一覧
該当件数 : 91件
Upon dry etching of polysilicon, overetching high in skirt removing effect is carried out after carrying out overetching of high side-wall protecting effect, as the overetching after main etching.例文帳に追加
ポリシリコンのドライエッチング時に、メインエッチング後のオーバーエッチングとして、側壁保護効果が高いオーバーエッチングを実施後に、スソ取り効果が高いオーバーエッチングを実施する。 - 特許庁
A margin for overetching may be determined to be in a range of a thickness value smaller than that of the SiO_2 film 104.例文帳に追加
オーバーエッチングの余裕はSiO_2膜104より小さい厚さの値の範囲内で決めればよい。 - 特許庁
The enlarged parts are formed by overetching by a DRIE method.例文帳に追加
このような部分は、DRIE法におけるオーバーエッチングにより形成できる。 - 特許庁
To avoid overetching of a source/drain region in an MOSFET of an SOI structure.例文帳に追加
SOI構造のMOSFETにおけるソース・ドレイン領域のオーバーエッチングを回避する。 - 特許庁
The method allows the overetching of active and insulation regions to be avoided.例文帳に追加
本発明の方法により活性領域と絶縁領域のオーバーエッチングを回避することができる。 - 特許庁
Overetching is effected, by changing the etching gas into a gas containing the chlorine and the oxygen but which does not contain fluorine.例文帳に追加
エッチングガスを塩素及び酸素を含むがフッ素を含まないガスに変更してオーバーエッチングを行なう。 - 特許庁
To eliminate the difference in the thickness of a flattened film between an array portion and a pad portion by preventing an overetching phenomenon of source/drain electrodes.例文帳に追加
ソース/ドレーン電極の過エッチング現象を防止し、アレイ部とパッド部との間の平坦化膜の厚さの差を除去する。 - 特許庁
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「overetching」を含む例文一覧
該当件数 : 91件
Thereafter, the energy of the argon gas is reduced, and overetching is conducted under etching conditions which can secure a selection ratio with the gate 4.例文帳に追加
その後、アルゴンガスのエネルギを減少させゲート4との選択比の確保できるエッチング条件にてオーバーエッチングを行なう。 - 特許庁
Under etching condition of high selectivity to a silicon nitride film, an upper layer of a silicon oxide film 14 is etched with sufficient overetching amount.例文帳に追加
そして、対シリコン窒化膜高選択性のエッチング条件で、シリコン酸化膜14上層を充分なオーバーエッチ量によりエッチングする。 - 特許庁
To prevent the semiconductor layer of a photodiode region from being damaged by a sidewall overetching process, thereby also preventing the generation of dark current.例文帳に追加
側壁オーバーエッチング工程によりフォトダイオード領域の半導体層が損傷することを防止し、これにより、暗電流の発生も防止する。 - 特許庁
By this setup, silicon removed from the silicon substrate 1 due to overetching and the formation of silicide can be reduced in amount.例文帳に追加
これにより、オーバーエッチングおよびシリサイド化によってシリコン基板1から消失するシリコンの量を低減させることができる。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a DRAM which can prevent overetching of polysilicon forming a storage node.例文帳に追加
ストレージノードを形成するポリシリコンの過エッチングを防止できるDRAMの製造方法を提供する。 - 特許庁
At this time, the bottoms of the contact holes 11 are recessed from the surface of a silicon substrate 1 through overetching of the stopper film 9.例文帳に追加
この際、ストッパー膜9のオーバーエッチングによって、コンタクトホール11の底面をシリコン基板1の表面よりリセスする。 - 特許庁
To provide a compact piezoelectric vibration element with small frequency deviation from a predetermined frequency due to overetching.例文帳に追加
小型で、オーバーエッチングにより所定の周波数からの周波数偏差の少ない圧電振動素子を得る。 - 特許庁
To prevent remaining of unetched parts and overetching, even when simultaneously patterning a high concentration region and a low concentration region.例文帳に追加
高密度領域と低密度領域とを同時にパターニングする場合であっても、エッチング残りやオーバーエッチングを防止する。 - 特許庁
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overetch
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