「投影法」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

プロジェクタ、画像投影制御プログラム及び画像投影方法例文帳に追加

PROJECTOR, IMAGE PROJECTION CONTROL PROGRAM, AND IMAGE PROJECTION METHOD - 特許庁

荷電粒子線投影露光方法及び荷電粒子線投影露光装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE - 特許庁

投影装置、投影装置の運転制御方法及びプログラム例文帳に追加

PROJECTION DEVICE, OPERATION CONTROL METHOD FOR PROJECTION DEVICE, AND PROGRAM - 特許庁

投影光学系、露光装置及び前記投影光学系の製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER AND MANUFACTURE OF THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影露光装置および該投影露光装置を用いたデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁

投影光学系、それを備えた投影露光装置、及び素子製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME, AND ELEMENT MANUFACTURING METHOD - 特許庁

露光投影像予測システム及び露光投影像予測方法例文帳に追加

SYSTEM FOR PREDICTING EXPOSURE PROJECTION IMAGE AND METHOD FOR PREDICTING EXPOSURE PROJECTION IMAGE - 特許庁

自動立体像投影システムおよび立体像投影方法例文帳に追加

AUTOMATIC STEREOSCOPIC IMAGE PROJECTION SYSTEM AND STEREOSCOPIC IMAGE PROJECTION METHOD - 特許庁

投影型表示装置、投影型表示制御方法及びプログラム例文帳に追加

PROJECTION TYPE DISPLAY APPARATUS, PROJECTION TYPE DISPLAY CONTROL METHOD AND PROGRAM - 特許庁

投影画像補正装置、投影画像補正方法及びプログラム例文帳に追加

PROJECTION IMAGE CORRECTION DEVICE AND METHOD FOR PROJECTION IMAGE CORRECTION AND PROGRAM - 特許庁

映像投影システムにおける映像投影位置の調整方法例文帳に追加

ADJUSTMENT METHOD OF VIDEO IMAGE PROJECTING POSITION IN VIDEO IMAGE PROJECTION SYSTEM - 特許庁

投影露光装置及び露光方法、並びに反射縮小投影光学系例文帳に追加

PROJECTION EXPOSING DEVICE, EXPOSING METHOD AND REFLECTION REDUCTION PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

プロジェクタ、画像投影制御プログラム及び画像投影方法例文帳に追加

PROJECTOR, IMAGE PROJECTION CONTROL PROGRAM, AND IMAGE PROJECTING METHOD - 特許庁

光学投影制御装置、光学投影制御方法、及びプログラム例文帳に追加

OPTICAL PROJECTION CONTROL APPARATUS, OPTICAL PROJECTION CONTROL METHOD, AND PROGRAM - 特許庁

画像投影システム、画像投影方法、プログラム及び記録媒体例文帳に追加

IMAGE PROJECTION SYSTEM, IMAGE PROJECTION METHOD, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM - 特許庁

プロジェクタ投影制御システムおよびプロジェクタ投影制御方法例文帳に追加

PROJECTOR PROJECTION CONTROL SYSTEM AND METHOD - 特許庁

投影光学系及び投影露光装置並びにデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION ALIGNER AND PRODUCTION OF DEVICE - 特許庁

画像投影装置、画像投影方法、及び画像位置補正プログラム例文帳に追加

IMAGE PROJECTION APPARATUS, IMAGE PROJECTION METHOD AND IMAGE POSITION CORRECTION PROGRAM - 特許庁

投影装置および投影機の運転の保護方法を提供する。例文帳に追加

To provide a projection installation and an operation protection method for a projector. - 特許庁

投影光学系の製造方法及び投影光学系、並びに該投影光学系を有する投影露光装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION ALIGNER HAVING THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

広範囲かつ鮮明に投影像を投影することが可能であり、また複数の投影方法が可能な投影式万華鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a projection kaleidoscope projecting a projection image vividly in a wide range and achieving a plurality of projection methods. - 特許庁

投影部からの投影を開始する操作の煩雑さを軽減することが可能な、投影装置、投影方法、およびプログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a projection device, a projection method, and a program that can reduce complexity of manipulation for starting projection from a projection part. - 特許庁

投影型表示装置、投影表示方法、投影表示プログラム及び投影表示プログラムが格納された記録媒体例文帳に追加

PROJECTION TYPE DISPLAY APPARATUS, PROJECTION DISPLAY METHOD, PROJECTION DISPLAY PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM IN WHICH PROJECTION DISPLAY PROGRAM IS STORED - 特許庁

他の投影装置が投影した画像の種類を認識し、その種類に応じて投影する画像の種類の制御を行うことにより、臨場感の高い画像の投影が可能である投影装置および投影方法を得る。例文帳に追加

To obtain a projecting device and a projecting method for projecting an image with high presence by recognizing the kind of an image projected by another projecting device and controlling the kind of the image to be projected according to the kind. - 特許庁

プロジェクタにより投影される投影面に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面４３０に投影データを投影する第１のステップと、投影面４３０の座標位置に応じて階調の異なる画像パターン４００を赤外光で投影面４３０に投影する第２のステップとを有する。例文帳に追加

A projection method for projecting position information to a projection plane projected by the projector has a first step for projecting projection data to the projection plane 430 by visible light and a second step for projecting an image pattern 400 with gradation different in accordance with a coordinates position of the projection plane 430 to the projection plane 430 by infrared light. - 特許庁

投影露光用マスク、投影露光用マスクの製造方法、投影露光装置、投影露光方法、投影露光用マスクを用いた被露光部材の製造方法および被露光部材例文帳に追加

MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER TO BE EXPOSED BY USING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, AND MEMBER TO BE EXPOSED - 特許庁

データ処理方法、逆投影方法、再投影方法、画像再構成方法、および放射線ＣＴ装置例文帳に追加

DATA PROCESSING METHOD, BACK PROJECTION METHOD, REPROJECTION METHOD, IMAGE RECONSTRUCTION METHOD, AND RADIOGRAPHIC CT APPARATUS - 特許庁

投影露光方法、投影露光装置、及び投影露光用マスク、並びにその方法を用いた半導体装置の製造方法例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE METHOD, PROJECTION ALIGNER AND MASK FOR PROJECTION EXPOSURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING PROJECTION METHOD - 特許庁

投影光学系の調整方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ADJUSTMENT METHOD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, EXPOSURE SYSTEM, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

投影光学系、投影光学系の調整方法、投影光学系の製造方法、露光装置及び露光方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM ADJUSTMENT METHOD, MANUFACTURING METHOD THEREOF, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

地物データは，透視投影ではなく，現実の地物ＣＳＴ２を，投影方向ＰＲＪに沿う平行線で投影面ＰＬ２に投影する方法，つまり平行投影によって生成する。例文帳に追加

The feature data is generated not by perspective projection but by a method for projecting a real feature CST2 to a projection plane PL2 by parallel lines laid along a projection direction PRJ or parallel projection. - 特許庁

スクリーン投影面３０に投影される変調光の光軸Ｒ−Ｓをスクリーン投影面３０の法線Ｎ−Ｎに対して傾斜させ、実投影範囲ＥＦＧＨを収容する台形状の範囲ＡＢＣＤに投影する。例文帳に追加

The optical axis R-S of modulation light projected on a screen projection surface 30 is inclined with respect to the normal N-N of the screen projection surface 30 and the modulation light is projected on the trapezoidal range ABCD storing the actual projection range EFGH. - 特許庁

地物データは，透視投影ではなく，現実の地物ＣＳＴ２を，投影方向ＰＲＪに沿う平行線で投影面ＰＬ２に投影する方法，つまり平行投影によって生成する。例文帳に追加

The feature data is created by not a perspective projection but a method for projecting actual features CST2 on a projection plane PL2 with parallel lines along the projection direction PRJ, namely, parallel projection. - 特許庁

曲線が投影される投影先曲面が凹曲の円柱面の場合に、前記曲線の投影可能な部分を調べ、投影可能な部分についてのみ投影曲線を生成することができる３次元形状処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a three-dimensional shape processor which examines a projectable part of a curved line when the curved surface to which a curved line is projected is a concaved cylindrical face, and can generate a projection curved line only for projectable part. - 特許庁

投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR, AND ADJUSTING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

位置検出方法、位置検出装置、投影露光方法、投影露光装置、およびデバイスの製造方法例文帳に追加

POSITION SENSING METHOD AND APPARATUS, AND METHOD AND APPARATUS OF PROJECTION EXPOSURE, AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁

投影露光装置、投影露光方法、光洗浄方法および半導体デバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD, OPTICS CLEANING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR, AND ADJUSTING METHOD FOR THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, AND METHOD FOR ADJUSTING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置の製造方法、露光装置、および露光方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING ALIGNER, ALIGNER, AND EXPOSING METHOD - 特許庁

シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置例文帳に追加

METHOD FOR CALIBRATING SHEARING INTERFEROMETER, METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

シアリング干渉測定方法及びシアリング干渉計、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置例文帳に追加

SHEARING INTERFERENCE MEASURING METHOD AND SHEARING INTERFEROMETER, METHOD OF MANUFACTURING FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE - 特許庁

電子線投影マスクの検査方法、電子線投影マスクの位置検出方法及び電子線投影マスクの検査装置例文帳に追加

METHOD FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, METHOD FOR DETECTING POSITION OF ELECTRON BEAM PROJECTION MASK, AND EQUIPMENT FOR INSPECTING ELECTRON BEAM PROJECTION MASK - 特許庁

投影露光と非常に高い開口数とを可能にする投影露光方法と該方法に対応する投影露光システムとを提供する。例文帳に追加

To provide a method of projection exposure capable of projection exposure and a very high numerical aperture, and a system of projection exposure corresponding to the method. - 特許庁

投影露光装置、投影露光装置に使用されるレチクル、投影露光方法及び半導体デバイス製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, RETICLE USED IN PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁