「集束イオンビーム系」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

本発明は２レンズ，３レンズ光学系走査型収差補正集束イオンビーム装置及び２レンズ，３レンズ光学投影型収差補正集束イオン・リソグラフィー装置を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide 2-lens and 3-lens optical system scanning type aberration corrected focused ion beam device and 2-lens and 3-lens optical projection type aberration corrected ion lithography device. - 特許庁

集束イオンビーム形成装置において、加速器と集束レンズ系を一体化とすることにより小型化を実現するとともに、加速器の加速管も集束レンズ系の一部とすることで装置全体の縮小率も最大化することで、ナノビームを形成する。例文帳に追加

To provide a focused ion beam forming device in which downsizing is realized by integrating an accelerator and a focusing lens system and the reduction ratio of the total device is maximized by making the accelerating tube of the accelerator as a part of the focusing lens system to form a nano beam. - 特許庁

本発明の目的は、光学系の操作により、試料ステージを機械的に傾斜させた場合と同等な集束イオンビーム加工観察を実現することに関する。例文帳に追加

To provide focused ion beam processing observation equivalent to a case where a sample stage is mechanically inclined, by operation of an optical system. - 特許庁

本発明の方法では、引出電極系３の各電極面に衝突する際の希ガスのイオンビームにおけるビーム径を変化させる設定パラメータを調整し、絶縁膜をスパッタする強度が高いビーム径の有効設定範囲に希ガスのイオンビームを集束させて、絶縁膜を均一に除去する。例文帳に追加

In this method, the setting parameter for changing the beam diameter of ion beam of the rare gas at the time of colliding with each electrode face of the lead out electrode system 3 is adjusted, and by converging the ion beam of the rare gas within an effective setting range of beam diameter that has a high strength of sputtering the insulating film, the insulating film is uniformly removed. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

This device includes a focus ion beam optical system and an electron optical system in the same vacuum device, and also includes a probe for separating the microscopic sample containing the desired region of the sample by a charged particle beam type molding process to take out the separated microscopic sample. - 特許庁

観察像を見て観察位置を動かす際、集束イオンビームと電子ビームの像表示部のそれぞれの座標系で指定した試料ステージ２の移動方向に対して、一つの試料ステージ２をそれぞれの座標系に対応した方向に移動する。例文帳に追加

When moving an observation position while watching an observation image, one sample stage 2 is moved in a direction corresponding to respective coordinate systems of a focused ion beam image-displaying section and an electron beam image-displaying section with respect to the moving direction of the sample stage 2 specified by the respective coordinate systems of the focused ion beam image-displaying section and the electron beam image-displaying section. - 特許庁

同一真空装置に集束イオンビーム光学系３１と電子ビーム光学系４１を備え、ウェーハ２１の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブ７２を備えた。例文帳に追加

The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system 31 and an electron beam optical system 41 in an identical vacuum device, and a probe 72 that separates a minute sample containing a desired area of the wafer 21 by a charged particle beam type molding process and takes out the separated minute sample. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

In the micro testpiece processing and observation device, a focused ion beam optical system and an electron optical system are equipped in an identical vacuum device, and a micro testpiece including the desired region of the testpiece is separated by a charged particle beam forming process, and a probe for sampling the micro testpiece separated is equipped. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

The device is equipped with a focused ion-beam optical system and an electro-optical system in the same vacuum device, as well as a probe for separating a minute sample including a desired area of the sample by a charged particle beam forming process, and for extracting the separated minute sample. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system and an electron optical system in the same vacuum device, as well as a probe 72 separating a minute sample including a desired region of the sample by a charged particle beam molding work and picking up the separated minute sample. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

This device is provided with a focused ion beam optical system and an electronic optical system in the same vacuum device, and also provided with a probe for separating a minute sample including a desired area of a sample by a charged particle beam forming process, and for extracting the separated minute sample. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

This apparatus is provided with a focused ion beam optical system and an electron optical system in the same vacuum device, and provided with a probe separating a minute sample including the desired area of the sample by charged particle beam molding processing and picking up the separated minute sample. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

This device is provided with a focused ion beam optical system and an electron optical system in the same vacuum device, and a probe separating a trace sample including a desired region of the sample by a charged particle beam molding work and picking up the separated trace sample. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。例文帳に追加

The micro testpiece processing and observation device are equipped with a focused ion beam optical system and an electron optical system in an identical vacuum device, and separate a micro testpiece including the desired region of the testpiece by a charged particle beam forming process, and have a probe for sampling the micro testpiece separated. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクのテトラメトキシシランの電子ビームCVD膜６の白欠陥修正で透過率が高すぎる場合には透過率の低い炭素系の原料ガスを用いた集束イオンビームCVD膜または電子ビームCVD膜を積層して透過率を調整する。例文帳に追加

When too high transmittance is obtained in the correction of a white defect by depositing an electron beam CVD film 6 of tetramethoxysilane in a halftone phase shift mask, a focused ion beam CVD film or an electron beam CVD film using a carbon-based source gas having low transmittance is further deposited to control the transmittance. - 特許庁

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するマニピュレータと、該マニピュレータをウェーハ試料台と独立に駆動するマニピュレータ制御装置を備えた。例文帳に追加

This apparatus is equipped with a focused ion beam optical system and electron optical system in the same evacuation device and a manipulator, to separate a trace sample, including a desired region of the sample by a charged particle beam molding work and to pick up the separated trace sample, and a manipulator control device for driving the manipulator, independently of a wafer sample board. - 特許庁