「ＰＶＤ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a physical vapor deposition (PVD) apparatus and a PVD method.例文帳に追加

物理気相蒸着（ＰＶＤ）装置とＰＶＤ法を開示する。 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD BY PVD AND TARGET FOR FILM DEPOSITION USED FOR PVD例文帳に追加

ＰＶＤ法による成膜方法及びＰＶＤ法に用いる成膜用ターゲット - 特許庁

MULTILAYER PVD FILM FORMING APPARATUS FOR SUBSTRATE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

基板の多層ＰＶＤ成膜装置および方法 - 特許庁

HYBRID PVD-CVD SYSTEM例文帳に追加

ハイブリッドＰＶＤ−ＣＶＤシステム - 特許庁

METHOD FOR PRETREATING SUBSTRATE FOR PVD METHODS例文帳に追加

ＰＶＤ法のための基材前処理方法 - 特許庁

TWO-STAGE AIN-PVD IMPROVING FILM CHARACTERISTIC例文帳に追加

フィルム特性を改良する２段階ＡｌＮ−ＰＶＤ - 特許庁

A PVD(physical vapor deposition) metal-deposited layer, e.g. PVD Al or PVD Cu is deposited on the layer hard to dissolve under the pressure of 1 milli Torr or lower to give a conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

ＰＶＤ金属層、例えばＰＶＤＡｌ、またはＰＶＤＣｕが１ミリトル以下の圧力で溶けにくい層に堆積されて、コンフォーマルなＰＶＤ金属層を与える。 - 特許庁

Further, the inner layer is formed by the CVD method which can give excellent adhesiveness, and the outermost layer is formed by the PVD method which can give a compressive residual stress.例文帳に追加

そして、内層を密着性に優れるCVD法にて形成し、最外層を圧縮残留応力が付与できるPVD法にて形成する。 - 特許庁

A doped target of an electrically conductive material is used, and, a layer is deposited by a sputtering process such as PVD or IMP PVD.例文帳に追加

ドープ済みの導電性材料のターゲットを使用し、ＰＶＤまたはＩＭＰ ＰＶＤのようなスパッタリングプロセスによって層を堆積させる。 - 特許庁

Moreover, oblique evaporation is performed by vacuum vapor deposition as the PVD method.例文帳に追加

また、ＰＶＤ法として真空蒸着法で斜方蒸着する。 - 特許庁

Then an upper conductive layer is formed by PVD and wet plating.例文帳に追加

そして，ＰＶＤおよび湿式めっきにより上層導電層を形成する。 - 特許庁

HCD/UBMS HYBRID PVD METHOD, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

ＨＣＤ・ＵＢＭＳハイブリッドＰＶＤ法およびその装置 - 特許庁

After forming a film including an Mo nitride on the glass substrate 1 as a relaxed layer 2 by a PVD method under an atmosphere that contains nitrogen gas, an Mo film is formed as the Mo electrode film 3 by the PVD method under an Ar gas atmosphere, thus reducing internal stresses of a film and preventing ready peeling.例文帳に追加

ガラス基板１上に、窒素ガスを含む雰囲気でPVD法によりMo窒化物を含む膜を緩衝層２として形成した後、Arガス雰囲気でPVD法によりMo膜をMo電極膜３として形成することで、被膜の内部応力を低減することができ、剥がれ難くできる。 - 特許庁

GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL SHEET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PVD TREATMENT DEVICE例文帳に追加

一方向性電磁鋼板、その製造方法及びＰＶＤ処理装置 - 特許庁

More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method.例文帳に追加

ＰＶＤ法が、蒸着法、スパッタリング法であるとさらに好ましい。 - 特許庁

The thin film material of photocatalyst which develops an active function as photocatalyst, is obtained by means of forming an island- shaped film 2a on a substrate 1 by a CVD or PVD method, and growing a tabular crystalline 2d by the CVD or PVD method on the island-shaped film 2a as a core.例文帳に追加

CVD法またはPVD法で基板１上に島状膜２ａを形成させ、その島状膜２ａを核として、CVD法またはPVD法で板状の結晶２ｄを成長させることにより、高活性な光触媒機能を発現する光触媒薄膜材料を得られる。 - 特許庁

PVD TREATMENT SYSTEM, AND METHOD OF FORMING HARD FILM USING THE SAME例文帳に追加

ＰＶＤ処理装置及びこれを用いた硬質被膜の形成方法 - 特許庁

The insulation protective layer 14 is a film made by CVD or PVD.例文帳に追加

絶縁性保護層１４は、ＣＶＤ又はＰＶＤにより形成した膜である。 - 特許庁

The thickness of the PVD layer is at least about 100 nm.例文帳に追加

ＰＶＤ銅層の厚さは、少なくとも約１００ｎｍである。 - 特許庁

A film of a piezoelectric layer is formed by the MOCVD method on a sacrificing piezoelectric layer formed by the PVD method.例文帳に追加

ＰＶＤ法にて形成した犠牲圧電層の上にＭＯＣＶＤ法で圧電層を成膜する。 - 特許庁

Physical vapor depositing (PVD) is performed as if film were laminated on a wafer.例文帳に追加

物理蒸着処理（ＰＶＤ）は、ウェハー上に膜を堆積するように実行される。 - 特許庁

Preferably, the metalescent layer is formed by an electroless plating method, a CVD method or a PVD method.例文帳に追加

金属光沢層が無電解メッキ法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法で形成すると好ましい。 - 特許庁

The surface-treatment surface is formed of titanium nitride given by physical vapor deposition (PVD).例文帳に追加

表面処理面は、物理的気相成長法（ＰＶＤ）によって与えられた窒化チタンで構成される。 - 特許庁

The resulting CVD/PVD metal layer is substantially void-free.例文帳に追加

結果として生じるＣＶＤ／ＰＶＤ金属層は、実質的にボイドのないものである。 - 特許庁

To produce a chromium-based hard coating, in which deterioration in mold releasability is reduced, by a PVD method.例文帳に追加

離型性の低下が抑制されたクロム系硬質被膜をＰＶＤ法で製造する。 - 特許庁

A PVD (physical vapor deposition) coating film of DLC (diamond-like carbon) or CrN is preferably formed between the peripheral grooves and the port.例文帳に追加

周溝とポート間に、ＤＬＣ又はＣｒＮのＰＶＤ被膜を形成するのがよい。 - 特許庁

SHIELDING STRUCTURE OF TREATMENT CHAMBER, AND CVD SYSTEM, PVD SYSTEM, AND ETCHING SYSTEM USING THE SAME例文帳に追加

処理室のシールド構造及びこれを使用するＣＶＤ装置、ＰＶＤ装置及びエッチング装置 - 特許庁

The PVD method or CVD method is used for forming the electrolyte layer 30.例文帳に追加

電解質層３０の成膜にあたっては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法が用いられる得る。 - 特許庁

The present invention relates to a PVD target structure for use in physical vapor deposition.例文帳に追加

本発明は、物理的気相成長法が用いられるＰＶＤターゲット構造体に関するものである。 - 特許庁

As a method for the vapor deposition may be either physical vapor deposition (PVD) method or chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加

蒸着させる方法としては、物理蒸着法（ＰＶＤ）でも化学蒸着法（ＣＶＤ）でもよい。 - 特許庁

A coating material is preferably formed by the PVD method.例文帳に追加

前記コーティング材をＰＶＤ法によって形成されるようにするのが望ましい。 - 特許庁

To provide a cooled dark space shield for a multi-cathode, large area PVD apparatus.例文帳に追加

マルチカソード大面積ＰＶＤ装置用の冷却暗部シールドが開示されている。 - 特許庁

FILM DEPOSITION SYSTEM FOR BOTH PVD/CVD, AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SYSTEM例文帳に追加

ＰＶＤ・ＣＶＤ両用成膜装置及び当該装置を用いた成膜方法 - 特許庁

In the film deposition system for both PVD/CVD where a substrate 2, a PVD system 3 and a CVD system 4 are arranged inside a vacuum chamber 1, and PVD film deposition 28 and CVD film deposition 27 are performed to the substrate 2, a shielding device 9 preventing the sticking of an evaporated material from the PVD system 3 to the CVD system 4 is provided.例文帳に追加

真空チャンバ１内に基体２とＰＶＤ装置３とＣＶＤ装置４とが配置され、前記基体２に対してＰＶＤ成膜２８とＣＶＤ成膜２７とを行えるようにしたＰＶＤ・ＣＶＤ両用成膜装置において、前記ＰＶＤ装置３からの蒸発物質が前記ＣＶＤ装置４に付着することを防止する遮蔽装置９が設けられた。 - 特許庁

A top clad layer is just to be formed after the heat treatment if required, and can be formed using a CVD method represented by plasma CVD or a PVD method such as a sputtering method.例文帳に追加

トップクラッド層は、必要ならば熱処理後に形成すれば良く、プラズマCVDで代表されるCVD法、あるいはスパッタ法などのPVD法等を用いて形成することができる。 - 特許庁

Thereafter, the holes or contacts are filled with a metal, e.g. by reflowing an additional metal deposited by the PVD on the conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

その後、孔またはコンタクトは、金属で、例えばコンフォーマルなＰＶＤ金属層上に物理気相堆積によって堆積された追加の金属をリフローすることによって満たされる。 - 特許庁

Desirably, further, a PVD(Physical Vapor Deposition) layer 4 is arranged on the radical nitriding treatment layer 3 and particularly, the PVD layer 4 is composed of AlTiN or CrN having low stickiness on an aluminum alloy.例文帳に追加

好ましくは、さらに、ラジカル窒化処理層３上にＰＶＤ層４が設けられ、そして特にＰＶＤ層４は、アルミニウム合金に対する付着性の低いＡｌＴｉＮまたはＣｒＮよりなる。 - 特許庁

To provide an EB-PVD (Electron-Beam Physical Vapor Deposition) apparatus equipped with an independent system designed to monitor and maintain a constant relative level of the molten pool within the EB-PVD chamber.例文帳に追加

ＥＢ−ＰＶＤチャンバ内部の溶融プールの一定の相対液面を監視して維持するように設計された、独立したシステムを備えるＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a titanium material which has excellent wear resistance, requires no high-temperature heat treatment, affects dimensional accuracy only to a small extent, can be obtained more easily than by relying on CVD (chemical vapor deposition) or PVD (physical vapor deposition) and exhibits superior recyclability than in the case using thermal spraying.例文帳に追加

高温での熱処理を必要とせず、寸法精度に及ぼす影響も低く、CVD やPVD による場合よりも簡便に得ることができ、また、溶射による場合よりもリサイクル性が良い、耐摩耗性に優れたチタン材を提供する。 - 特許庁

PVD-IMP TUNGSTEN AND TUNGSTEN NITRIDE AS LINER, BARRIER AND/OR SEED LAYER FOR APPLICATION OF TUNGSTEN, ALUMINUM AND COPPER例文帳に追加

タングステン、アルミニウム、及び銅アプリケーション用ライナ、バリヤ及び／又はシード層としてのＰＶＤ−ＩＭＰタングステン及び窒化タングステン - 特許庁

A substrate is contacted with an electroless copper plating bath, and a titanium nitride barrier layer is formed on the surface thereof by PVD.例文帳に追加

基体を無電解銅メッキ浴と接触させ、その上にＰＶＤにより、窒化チタンバリア層を形成する。 - 特許庁

The metal seed layer is formed by PVD, CVD, electroless plating using a copper catalyst or electroplating using the copper catalyst.例文帳に追加

それはＰＶＤ或いはＣＶＤ或いは無電気めっきに銅触媒を組み合わせるか、或いは電気めっきに銅触媒を組み合わせて形成する。 - 特許庁

To provide a method for coating chromium nitride by PVD, whereby a chromium nitride film with few droplets can be obtained.例文帳に追加

ドロップレットの少ない窒化クロム膜が得られるＰＶＤによる窒化クロムのコーティング方法を提供するこ。 - 特許庁

This tableting pestle 4 is formed by applying the PVD coating on the surface of the pestle and wrapping the surface of the coating film.例文帳に追加

杵表面にＰＶＤコーティングを施してなる打錠用杵４であって、そのコーティング膜の表面をラッピング処理してなる。 - 特許庁

The slide member is manufactured by bringing the base material into contact with a metal vapor or reaction gas by PVD method.例文帳に追加

摺動部材はＰＶＤ法により金属蒸気、反応ガスと基材を接触させることにより製造する。 - 特許庁