「EUV light source」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The light source(extreme ultraviolet (EUV) light source 201) irradiates any of the EUV light, the deep ultraviolet (DUV) light or the vacuum ultraviolet (VUV) light.例文帳に追加

光源（ＥＵＶ光源２０１）は、ＥＵＶ光、ＤＵＶ光又はＶＵＶ光のいずれかの光を照射する。 - 特許庁

CONSUMABLES MANAGING METHOD FOR EUV LIGHT SOURCE例文帳に追加

ＥＵＶ光源における消耗品管理方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE APPARATUS AND ELECTRON DEVICE例文帳に追加

ＥＵＶ光源、ＥＵＶ露光装置および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＥＵＶ光源、ＥＵＶ露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR EUV LIGHT SOURCE MEASUREMENT例文帳に追加

ＥＵＶ光源測定のためのシステム及び方法 - 特許庁

The collector mirror leads the EUV radiation from an EUV light source to the hole member 22.例文帳に追加

集光器ミラーは、ＥＵＶ光源からのＥＵＶを孔部材２２に導く。 - 特許庁

EUV LIGHT SOURCE, EUV EXPOSURE DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＥＵＶ光源、ＥＵＶ露光装置および半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

To provide an EUV light source device capable of eliminating light other than EUV light, and supplying only the EUV light to an exposure machine.例文帳に追加

本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。 - 特許庁

LASER GENERATING PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH ISOLATED PLASMA例文帳に追加

プラズマが隔離されたレーザ生成プラズマＥＵＶ光源 - 特許庁

A system and method for "EUV light source" measurement are provided.例文帳に追加

「ＥＵＶ光源」測定のためのシステム及び方法。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING CONSUMABLES REPLACEMENT TIMING OF EUV LIGHT SOURCE例文帳に追加

ＥＵＶ光源の消耗品交換時期判定方法 - 特許庁

To increase an output of EUV light supplied from an EUV light source device to an exposure machine.例文帳に追加

ＥＵＶ光源装置から露光機に供給されるＥＵＶ光の出力を増加させる。 - 特許庁

The multilayer film concave mirror 102 reflects EUV light (EUV11) from the EUV light source 101 toward an EUV mask 110.例文帳に追加

多層膜凹面鏡１０２は、ＥＵＶ光源１０１からのＥＵＶ光ＥＵＶ１１をＥＵＶマスク１１０へ向けて反射する。 - 特許庁

To provide an EUV light source system that allows ready exchange of parts of an extreme ultraviolet (EUV) light source apparatus.例文帳に追加

極端紫外線（ＥＵＶ）光源装置の部品を容易に交換することのできるＥＵＶ光源システムを提供する。 - 特許庁

LASER-PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE WITH PREPULSE ENHANCEMENT例文帳に追加

先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマＥＵＶ光源 - 特許庁

To provide a measurement apparatus for an extreme ultraviolet (EUV) light source.例文帳に追加

極紫外線（ＥＵＶ）光源のための測定機器を提供する。 - 特許庁

LASER PLASMA EUV LIGHT SOURCE DEVICE, AND TARGET USED FOR IT例文帳に追加

レーザープラズマＥＵＶ光源装置及びそれに用いられるターゲット - 特許庁

To provide EUV light source equipment capable of preventing the generation efficiency of EUV light from decreasing due to the deterioration of the window of a chamber for generating EUV light.例文帳に追加

ＥＵＶ光発生チャンバのウインドウの劣化によるＥＵＶ光の発生効率の低下を防止することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light source apparatus using a spectrum purity filter for obtaining high spectrum purity EUV light.例文帳に追加

スペクトル純度の高いＥＵＶ光が得られるスペクトル純度フィルタを用いたＥＵＶ光源装置を提供する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING QUANTITY OF GAS FLOW OF EUV LIGHT SOURCE例文帳に追加

ＥＵＶ光源のガス流量計測装置および測定方法 - 特許庁

To provide EUV light source equipment capable of easily detecting deterioration in the window of an EUV light generation chamber.例文帳に追加

ＥＵＶ光発生チャンバのウインドウの劣化等を容易に検出することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light source apparatus capable of preventing the deterioration and/or the breakage of a filter for filtering the EUV light.例文帳に追加

ＥＵＶ光を濾過するフィルタの劣化及び／又は破損を防止することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light source device easily checking deterioration or the like of a window of an EUV light generation chamber.例文帳に追加

ＥＵＶ光発生チャンバのウインドウの劣化等を容易にチェックすることが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light source device having improved extreme ultraviolet light (EUV) output efficiency by removing exciting carbon dioxide laser.例文帳に追加

励起用の炭酸ガスレーザを除去して極端紫外光（ＥＵＶ）の出力効率が高いＥＵＶ光源装置を提供する。 - 特許庁

To inexpensively provide a driver laser system for an EUV light source apparatus capable of stably emitting EUV light with high efficiency.例文帳に追加

高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。 - 特許庁

To provide a low cost driver laser system for an EUV light source apparatus which can generate EUV light stably in a high efficiency.例文帳に追加

高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。 - 特許庁

The reflection member(a multilayer film mirror 204 and a mask 205) reflects the EUV light 203 irradiated from the EUV light source 201.例文帳に追加

反射部材（多層膜ミラー２０４及びマスク２０５）は、ＥＵＶ光源２０１から照射されたＥＵＶ光２０３を反射する。 - 特許庁

To provide an LPP (laser-produced plasma) type EUV light source apparatus which increases an amount of EUV light without increasing an amount of a target material.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、ターゲット材料の量を増加させることなくＥＵＶ光量を増加させる。 - 特許庁

EUV ILLUMINATION SYSTEM WITH SYSTEM FOR MEASURING FLUCTUATION OF LIGHT SOURCE例文帳に追加

光源の変動を測定するためのシステムを備えたＥＵＶ照明システム - 特許庁

To realize a simple and highly cost-effective LPP system EUV light source.例文帳に追加

単純で費用対効果の高いＬＰＰ方式のＥＵＶ光源の実現。 - 特許庁

SOFT X-RAY LIGHT SOURCE DEVICE, EUV EXPOSURE DEVICE, AND ILLUMINATING METHOD例文帳に追加

軟Ｘ線光源装置およびＥＵＶ露光装置ならびに照明方法 - 特許庁

To provide a method for removing debris from the reflecting surface of an EUV collector, in an EUV light source.例文帳に追加

ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面からデブリを除去するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV mask inspection device capable of performing highly sensitive inspection with the use of an EUV light source.例文帳に追加

ＥＵＶ光源を用いた、高感度な検査を行うことができるＥＵＶマスク検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an LPP (laser-produced plasma) type EUV light source apparatus which increases an amount of EUV light radiation without increasing an amount of a target material.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、ターゲット材料の量を増加させることなく、ＥＵＶ光の放射量を増加させる。 - 特許庁

APPARATUS AND SYSTEM FOR SUPPLYING TARGET MATERIAL FOR LPP-TYPE EUV LIGHT SOURCE APPARATUS例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置用ターゲット物質供給装置及びシステム - 特許庁

LIGHT SOURCE CHARACTERISTIC EVALUATION DEVICE IN WHICH A PLURALITY OF EUV LIGHT SOURCES ARE EVALUATED WITH THE SAME CHAMBER例文帳に追加

ＥＵＶ光源の複数の特性を同一チャンバーにて評価する光源特性評価装置 - 特許庁

In this extreme ultraviolet light source apparatus, a xenon gas as an EUV radiation specie is introduced through a gas introducing opening 10.例文帳に追加

ガス導入口１０からＥＵＶ放射種のキセノンガスが導入される。 - 特許庁

SYSTEM FOR PROTECTING INTERNAL COMPONENT OF EUV LIGHT SOURCE FROM PLASMA-GENERATED DEBRIS例文帳に追加

ＥＵＶ光源の内部構成要素をプラズマ生成デブリから保護するためのシステム - 特許庁

An EUV light source has an electrode portion, an electrode drive portion, and an electrode cooling portion.例文帳に追加

ＥＵＶ光源は、電極部と、電極駆動部と、電極冷却部とを備える。 - 特許庁

To provide a EUV light source spectrum measuring device capable of obtaining the wavelength intensity distribution of all rays emitted from the EUV light source.例文帳に追加

本発明においては、ＥＵＶ光源から放射される全光線の波長強度分布を得ることのできるＥＵＶ光源スペクトル計測装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

After re-installing a light source 6, a second intensity distribution of the EUV light at the position of the mask stage 7 for capturing the EUV light is measured as a function of the position coordinate of the photo diode 24 for EUV light detection, The light source 6 is moved by a light source fine movement mechanism 23 so that the first intensity distribution coincides with the second intensity distribution.例文帳に追加

光源６を再設置した後、ＥＵＶ光を捉えるマスクステージ７の位置でのＥＵＶ光の第２強度分布をＥＵＶ光検出用フォトダイオード２４の位置座標の関数として計測し、第１強度分布と第２強度分布とが一致するように光源微動機構２３によって光源６を移動させる。 - 特許庁

To correct deviation in ejecting direction of liquid droplets of a target material in order to stabilize an EUV output of an EUV light source device.例文帳に追加

ＥＵＶ光源装置のＥＵＶ出力を安定させるために、ターゲット物質の液滴の射出方向のズレを補正する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for removing debris from a reflecting surface of an EUV (Extreme ultraviolet) collector in an EUV light source.例文帳に追加

ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面からデブリを除去するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

ARRANGEMENT FOR CONTINUOUS GENERATION OF LIQUID TIN AS EMITTER MATERIAL IN EUV LIGHT SOURCE例文帳に追加

ＥＵＶ光源におけるエミッタ材料として溶融錫を連続生成するための装置 - 特許庁

Wavelength correction is performed in two stages for an EUV spectroscope using a plasma light source.例文帳に追加

プラズマ光源を用いたＥＵＶ分光器において２段階で波長校正を行なう。 - 特許庁