| 例文 (999件) |
Electron irradiationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1313件
The multivalent ion irradiation device 30 comprises a multivalent ion generating source 1, a multivalent ion guide 33 for introducing the multivalent ions to a test piece, a movable testpiece table 36 for mounting a test piece 35, and a secondary electron detector 38, and irradiates multivalent ions 34 on a prescribed position of the test piece 35 by controlling the movable testpiece table 36.例文帳に追加
多価イオン照射装置３０は、多価イオン発生源１と、多価イオンを試料に導くための多価イオンガイド３３と、試料３５を搭載する可動の試料台３６と、二次電子検出器３８と、を含み、多価イオン３４を可動の試料台３６の制御により試料３５の所定位置に照射する。 - 特許庁
The rubber surface is modified by graft-polymerizing a rubber, which has a radical active point generated by electron beam irradiation having an absorbed dose of not less than 10 kGy, with 100% by weight of a hydrophobic monomer MPTS, so that the blade rubber is surface-modified to allow the contact angle to be approximately 110°and thus the occurrence of the semi-dry state is prevented.例文帳に追加
ラバー表面を、吸収線量が１０ｋＧｙ以上になる電子線照射をしてラジカル活性点を生成したものに、疎水性モノマーであるＭＰＴＳが１００重量％の状態でグラフト重合反応をさせて改質することで、接触角が１１０度近くになるよう表面改質されたブレードラバーにし、これによってセミドライ状態の発現を防止する。 - 特許庁
A characteristic X-ray emitted from a micro area 3 on the sample 2 in response to irradiation of an electron beam is collected efficiently by the X-ray lens 4 to be converted into a parallel beam, and the X-rays of the same wavelength are diffracted by the plane crystal 6 to be brought into a parallel beam, and is analyzed by an X-ray detector 8.例文帳に追加
電子線の照射に応じて試料２上の微小領域３から放出された固有Ｘ線をＸ線レンズ４で効率良く収集して平行線束に変換し、平板結晶６により同一波長のＸ線が平行線束となるように回折してＸ線検出器８により検出する。 - 特許庁
In the method of producing a porous resin sheet for a piezoelectric/pyroelectric element including a charging process where the inside of a bubble is charged by performing electron beam irradiation processing or corona discharge processing on a porous resin sheet, the charging process is performed in a state where a cover layer having a capacitance index X of 0.2 or higher is laminated on one or both surfaces of the porous resin sheet.例文帳に追加
多孔質樹脂シートに電子線照射処理又はコロナ放電処理を施すことにより気泡内部を帯電させる帯電処理工程を含む圧電・焦電素子用多孔質樹脂シートの製造方法であって、下記式にて表わされるキャパシタンス指標Ｘが０．２以上であるカバー層を多孔質樹脂シートの片面又は両面に積層した状態で前記帯電処理工程を行う。 - 特許庁
This photochemical catalyst comprises a soot containing spherical fullerene molecules, which catalytically decomposes organic compounds including an atom having an unshared electron pair(s), and a hydrogen atom(s) in their molecule, under light irradiation and is expressed by Cn (C is a carbon atom; and n is an even number of 60 or more and is the number of carbon atoms capable of forming a sphere geometrically by bonding the carbon atoms with each other).例文帳に追加
非共有電子対を有する原子と水素原子とを分子内に有する有機化合物を光照射下で接触分解させるＣｎ（Ｃは炭素原子で、ｎ≧６０の偶数であって、且つ炭素原子が結合して幾何学的に球状を形成し得る炭素の原子数である。）で表される球状フラーレン分子を含有する煤からなる光化学触媒。 - 特許庁
The protective film for a plasma display panel is produced by an electron beam deposition method, an ion irradiation deposition method, or a sputtering method using the single crystal magnesium oxide sintered compact as a target material.例文帳に追加
焼結体の相対密度が５０％以上９０％未満であり、酸化マグネシウム純度が９７質量％以上であり、かつ、粒径２００μｍ以上の粗大粒子を含むことを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。 - 特許庁
The protective film for PDP is formed by the electron beam vapor deposition method, the ion irradiation vapor deposition method or the sputtering method using the single crystal MgO sintered compact as the target material.例文帳に追加
粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 - 特許庁
The electrophotographic photoreceptor includes at least a charge generating layer 35, a hole transport layer 37 and a hole transporting protective layer 39 laid sequentially on a conductive support 31, the protective layer comprising a three-dimensionally crosslinked film formed by chain polymerization of at least a radical polymerizable hole transporting compound by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, wherein a specific naphthalenetetracarboxylic acid diimide compound is incorporated into the protective layer.例文帳に追加
導電性支持体３１上に少なくとも電荷発生層３５、ホール輸送層３７、ホール輸送性保護層３９を順に積層し、該保護層が少なくともラジカル重合性ホール輸送性化合物を紫外線又は電子線を照射することで連鎖重合させて得られる３次元架橋膜からなる電子写真感光体において、該保護層中に特定のナフタレンテトラカルボン酸ジイミド化合物を含有させた電子写真感光体。 - 特許庁
To obtain the subject composition useful for a coating material, or the like, having slight discoloration of an iodonium salt compound, capable of being synthesized in a high yield and readily, sensitive to an active energy ray irradiation such as light, electron ray in high sensitivity by making the composition include a specific diaryliodonium salt compound.例文帳に追加
本発明は、ヨードニウム塩化合物の着色が少なく、高収率かつ容易に合成が可能であり、光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線照射に高感度で感応し、モノマーに対する溶解性が高く、毒性が低いヨードニウム塩化合物を提供すると共に、対アニオンが六フッ化ホスホネートや四フッ化ボレート等でも、組成物がクリア系、顔料系にかかわらず、短時間で硬化することが可能で、かつ優れた硬化物物性を有する光硬化性組成物を提供することにある。 - 特許庁
The electrophotographic photoreceptor which has a photosensitive layer and a protective layer on a conductive substrate, has the protective layer containing a curable resin having ≥2 chain polymerizable functional group within the same molecule and having a hole transfer function and conductive particles and is formed with the protective layer by curing the curable resin by irradiation with electron beams, the process cartridge having the electrophotographic photoreceptor and the electrophotographic device.例文帳に追加
導電性支持体上に感光層及び保護層を有する電子写真感光体において、該保護層が同一分子内に２つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送機能を有する硬化性樹脂及び導電性粒子を含有しており、該硬化性樹脂の硬化を電子線照射により行うことを特徴とする電子写真感光体、その電子写真感光体を有するプロセスカートリジ及び電子写真装置。 - 特許庁
The method of manufacturing a master mold for nanoimprint comprises forming a pattern on a resist-applied silicon substrate by electron beam drawing to prepare a silicon master, separating a master mold having a rugged pattern reverse to a resist pattern of the silicon master formed by electroforming, from the silicon master, and then eliminating resist residue on the surface of the master mold by irradiation of plasma containing atomic hydrogen.例文帳に追加
レジストを塗布したシリコン基板に電子線描画によってパターンを形成してシリコン原盤を作製した後、電鋳により形成された前記シリコン原盤のレジストパターンと逆の凹凸パターンを有するマスターモールドを前記シリコン原盤から剥離した後、原子状水素を含むプラズマの照射で前記マスターモールドの表面のレジスト残渣を除去することを特徴とするナノインプリント用マスターモールドの製造方法。 - 特許庁
To maintain the inner side of a vacuum chamber at a necessary degree of vacuum of a partial vacuum type electron beam irradiation device even when an electrostatic pressure floating pad is separated from a body to be irradiated (original disk).例文帳に追加
電子ビームコラム１５が内蔵される真空チャンバー１４に静圧浮上パッド１８が連結され、この静圧浮上パッド１８が被照射体１に被接触で吸着した状態で電子ビームが静圧浮上パッド１８の電子ビーム通路１９を通って被照射体１に照射される構造の部分真空方式の電子ビーム照射装置において、静圧浮上パッド１８を被照射体１から離した状態でも真空チャンバー及び電子ビームコラム内を所要の真空度に維持できるようにする。 - 特許庁
By irradiation of the surface of the exposed semiconductor film with electron beam, the crystal orientation is measured from the EBSP.例文帳に追加
ＥＰＳＰを用いて、基板上に形成された半導体膜を有する半導体装置に対し、当該基板を化学的機械研磨により薄板化する処理と、薄板化した当該基板をエッチングにより除去して、或いは、薄板化した当該基板と、当該基板と半導体膜の間の絶縁層とをエッチングにより除去して、前記半導体膜の表面を露出させる処理とを有し、露出した半導体膜の表面に電子線を照射して、ＥＢＳＰから結晶方位を測定することを特徴としている。 - 特許庁
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